【課題】 改良型の測定システムを提供すること。
【解決手段】測定システムは、オブジェクトの位置量を導き出すように構成され、測定システムは、それぞれの位置量測定信号を提供するように構成された少なくとも１つの位置量センサと、位置量測定信号からオブジェクトの位置量を決定するように構成された位置量計算機とを含む。位置量計算機はオブジェクトのねじりを推定するように構成されたねじり推定器を含み、位置量計算機は推定ねじりに対してオブジェクトの決定位置量を補正するように構成される。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＭＳシステムにおいて、ウエハが外部の環境に汚損されることなく、移送を可能とするボックスロードインタフェース
【解決手段】ボックスロードインタフェース１６が備える並進機構は、移送ボックス１８のボックスドアに取付け可能なポートドアを備え、前記ボックスドアを移送ボックス１８に対し、接近、及び離間し移送ボックス１８を開閉する。摺動トレー２４は移送ボックス１８をポートプレート１４に対し接近、又は離間するように動かす。クランプ機構は移送ボックス１８をクランプする。前記ボックスドアが移送ボックス１８から離れて動いた後、昇降機組立体２８は並進機構に協働して前記ポートドアを動かす。差動光走査組立体は移送ボックス１８内部のウエハ試料の位置を検出する。ロボット組立体は前記ウエハ試料を移送ボックス１８内から除去、及び挿入する。直線移動組立体は前記ロボット組立体を支持し、親ねじナット機構を駆動し移動する。 （もっと読む）

【課題】分離促進されて貼り付き力を低減した状態の積層ワークから薄型のワークを所定押圧力で連続して一枚ずつ切り出し、円滑に搬送する積層ワーク切り出しシステムおよび積層ワーク切り出し方法を提供する。
【解決手段】積層ワークの分離を促進する分離水槽２０と、積層ワークの分離を促進しつつ、切り出しコンベアが積層ワークの最上のワークを切り出す切り出し装置３０と、二枚以上のワークの通過を防止する複数枚ワーク送り防止装置４０と、ワークを加振しつつ搬送してワークの割れの入ったコーナー部を欠損させるワーク加振搬送装置５０と、搬送されるワークのコーナー部の欠損を検出する欠損ワーク判別装置６０と、欠損ワークを回収し良品のワークを下流へ流すワーク仕分け装置７０と、良品のワークを収納するワーク収納装置８０と、を備える積層ワーク切り出しシステム、および、このシステムを用いる積層ワーク切り出し方法とした。 （もっと読む）

【課題】基板の在荷をより確実に確認可能とするリフタユニットおよびパターン修正装置を提供する。
【解決手段】リフタユニット３０は、チャックステージ２０上に基板を載置して、基板上に形成された微細パターンの欠陥を修正するパターン修正装置において、搬入出される基板を上記チャックステージ２０の上方に位置するように保持するリフタユニット３０である。このリフタユニット３０は、基板を支持する複数のリフタピン３２を備えている。そして、複数のリフタピン３２のうち少なくともいずれか１つのリフタピンには、リフタピン上の基板の存在を検出する基板検出センサが設置されている。 （もっと読む）

【課題】 液晶パネルを保持ステージよりはみ出すように保持した場合に、液晶パネルの自重によりはみ出した部分が下方に反ってしまい、液晶パネルを保持した保持ステージが処理部に進入する場合に、液晶パネルがはみ出して下方に反った部分と処理部とが干渉する問題が生じていた。
【解決手段】 液晶パネルを保持するための保持ステージを備えた製造装置であって、保持ステージの下方に保持ステージの外側から少なくとも１箇所に上方に向けた支持エアーを噴射する事のできるエアー供給口を備えた製造装置である。 （もっと読む）

【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び／又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 （もっと読む）

【課題】 基板の状態を迅速かつ正確に判断できる基板感知方法を提供する。
【解決手段】 基板の一側に対する感知データをセンサーから受信する段階と、感知データから基板の状態を判断する段階とを含んで基板感知方法を構成する。感知データを受信する段階は、基板及びセンサーのうち何れか一つを移動し、基板の一側に向かって光信号を放出する段階と、基板を経た光信号を受信する段階と、を含む。そして基板の状態を判断する段階は、基板の一側に対する受信可能な基準データの個数と感知データの個数を比較し、遺失データを判断する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】等速移動中のステージに保持された基板の高さを正確に計測することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】基板４を走査する第１方向および前記投影光学系の光軸に沿う第２方向に前記ステージを位置決めする位置決め機構２５と、前記第１方向に沿って間隔を置いて位置する複数の計測点で前記基板の高さを計測する計測器１６と、制御器２６とを備え、前記計測器により第１計測点で前記基板の高さを計測し、前記第１計測点で計測された高さに基づいて前記位置決め機構により前記ステージ５を前記第２方向に位置決めしながら前記基板を露光する。 （もっと読む）

【課題】塗布対象物に接着剤の塗布膜を所望する膜厚で形成する。
【解決手段】半導体装置の製造装置１は、塗布対象物Ｗの塗布面に紫外線を照射する照射部５と、照射部５により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する塗布部６とを備え、照射部により紫外線が照射された塗布面に接着剤を塗布する。また前記塗布対象物を支持するハンドを有し、前記ハンドにより前記塗布対象物を搬送する搬送部をさらに備え、前記照射部は、前記搬送部により移動する前記塗布対象物の前記塗布面に前記紫外線を照射する。前記照射部は、前記紫外線を発生させるランプと、前記ランプによって発生する前記紫外線の光量を検出する検出器と、前記検出器によって検出された前記紫外線の光量に基づいて前記塗布面に対する照射光量を設定値に維持するように調整する調整手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエーハなどの薄い紙状の対象物の正確な位置決めを行う。
【解決手段】半導体装置の製造装置１は、塗布対象物Ｗの中心をハンド３ａの中心に合わせるセンタリング部４ａを具備しており、センタリング部４ａは、塗布対象物Ｗを支持する支持台３１と、支持台３１上の塗布対象物Ｗを押して移動させ、支持台３１に対して位置決めされたハンド３ａの中心に塗布対象物Ｗの中心を合わせる複数の押圧部３２とを具備している。 （もっと読む）

【課題】予備的な位置合わせ装置において、透過型の光学系で積層ウェハの位置を検出しようとした場合、積層された最上段のウェハを直接観察することができず、最下段のウェハで位置を合わせることになるので、最上段のウェハに形成されたアライメントマークが位置合わせ装置の顕微鏡の観察視野内におさまらない場合があった。
【解決手段】ステージと、ステージ上に配置されたウェハの位置を検出する検出部と、予め定められた条件により、ウェハの位置を検出する異なる複数の検出制御を切り替えて検出部を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を汚染することなく、且つ基板載置台に余分な孔を設けることなく、基板載置台で支持するウエハ温度を正確に測定することができる基板載置台を提供する。
【解決手段】ウエハＷを載置する載置面９０ａと、ウエハＷをリフトピン８４によって載置面９０ａから持ち上げる基板持ち上げユニット８０と、リフトピン８４内部を光路として低コヒーレンス光からなる測定光８８をウエハＷに照射し、ウエハＷの表面及び裏面からの反射光をそれぞれ受光する光照射・受光ユニット８７とを有し、光照射・受光ユニット８７は、基板持ち上げユニット８０のベースプレート８６に固定されている。 （もっと読む）

【課題】
フィンガ部が水平面内で回転方向にずれて取り付けられていても、最適な位置教示データが自動で取得できる位置教示方法を提供する。フィンガ部の位置ずれ量を検出して、このずれ量を補正して、最適な位置に被搬送物を搬送できる位置教示方法を提供する。
【解決手段】
搬送ロボットが移動可能なＸ軸方向に対し平行に備えられた第１、第２の目的物を検出することで搬送ロボットの中心位置を特定し、その後、第３の目的物を検出する。これらの動作で得られた位置データから最適な搬送位置を自動で教示する。 （もっと読む）

【課題】使用環境に応じて，収納された基板に異物が付着することを効果的に防止する。
【解決手段】基板収納装置１００内に外気を取り込む給気部１１０と，給気部に対向して配置された排気部１２０と，給気部と排気部との間に設けられ，これらの間を連通する連通孔１４２を有する基板載置板１４０と，給気部に設けられた給気フィルタ１１２と，給気部又は排気部に設けられたファン１２２とを備え，基板収納装置１００内の状態を検出する状態センサと，パーティクル帯電装置と，温調装置とのいずれか又は２つ以上の組合せを装着孔１５０に着脱自在に設けた。 （もっと読む）

【課題】ロボット搬送アームの位置ずれを補正する。
【解決手段】基板を処理する複数の処理室に連結された連結室と、連結室に配され、基板を複数の処理室の間で搬送する搬送アームと、搬送アームに配され、搬送アームの移動量を計測する移動量計測部と、基板の方向における搬送アームの連結室内での位置を計測する位置計測部と、移動量計測部により計測された移動量に対応する位置と位置計測部により計測された位置との差に基づいて、基板を搬送する場合の搬送アームの位置を補正する補正部とを備える基板処理装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】複数の光ファイバを接続した光ファイバケーブルを介してエンコーダヘッドから検出器へ出力ビームを接続損失なく送る。
【解決手段】エンコーダから出力ビームを検出器へ送る一系統の受光用ファイバとして、エンコーダ側に位置する光ファイバＦ１のコアＣＲ１の端面（射出端面）と該射出端面より大きな検出器側に位置する光ファイバＦ２のコアＣＲ２の端面（受光端面）とを対向して継がれた光ファイバケーブルを用いる。これにより、光ファイバの継ぎ部において光の漏れが生じることがなく、エンコーダの高い計測精度を確保することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な計算で、マスクとワークのギャップを平均化することができ、露光精度を向上することができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】ギャップセンサ１７によってマスクＭ及びワークＷとの間のギャップを４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄで測定し、４箇所の測定点Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄによって画成される四角形ＡＢＣＤの各辺の中点Ｋ，Ｌ，Ｍ，Ｎの４箇所の座標のうち、３箇所の中点Ｋ、Ｌ、Ｍの座標における各ギャップが一様になるようにＺ−チルト調整機構４３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】基板載置部から基板を受け取ったときに基板の姿勢が異常な状態であるか否かを確実に検出すること。
【解決手段】前記フォーク３Ａを基体３１に沿って前進させ、ウエハＷを保持する突き上げピン７３に対して上昇させることにより、当該突き上げピン７３上のウエハＷをフォーク３Ａに受け取る。このときに前記保持爪３０Ａ〜３０Ｄの各々に設けられた歪みセンサ４Ａ〜４Ｄにより、保持爪３０Ａ〜３０Ｄに上から荷重が加わったときの当該保持爪３０Ａ〜３０Ｄの歪み量を検出する。各々の歪みセンサの歪み量に基づいて、ウエハＷの姿勢が正常であるか否かを判断し、ウエハＷの姿勢が異常であると判断したときに、前記フォーク３Ａの後退を禁止する。 （もっと読む）

【課題】フープの蓋であるフープドアの閉状態の異常を迅速且つ確実に検知することができるようにすること。
【解決手段】半導体処理装置の内外を仕切るポートプレート４０の開口窓４１に着脱可能に装着されるポートドア４２と、フープ１０をフープドア着脱位置に位置決めするドックユニット６０とを備えており、ポートドア４２に、吸盤機構４３とフープドア３０をフープ本体２０に固定すると共に固定を解除するためのロック機構４４とが設置されているフープオープナＭであって、ドックユニット６０上のフープドア着脱位置に位置するフープ本体２０に固定されたフープドア３０がフープ本体２０の開口部２１に正常に装着されているか否かを検知するフープドア検知センサ８０，９０をポートプレート４０に設置した。 （もっと読む）