【課題】 プラズマ処理装置において、基板サセプタに対して基板を高い密着度で保持することによる基板の冷却効率の向上と、外周縁付近を含む基板表面の全領域での処理の均一化を図る。
【解決手段】 ドライエッチング装置１のトレイ１５は、厚み方向に貫通する基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄと、基板２の下面２ａの外周縁部分を支持する基板支持部２１を備える。誘電体板２３は、トレイ１５の下面を支持するトレイ支持面２８、トレイ１５の下面側から基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄに挿入され、かつその上端面である基板載置面３１に基板２が載置される基板載置部２９Ａ〜２９Ｄを備える。直流電圧印加機構４３は静電吸着用電極４０に直流電圧を印加する。伝熱ガス供給機構４５は基板２と基板載置面３１との間に伝熱ガスを供給する。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理装置において、基板サセプタに対して基板を高い密着度で保持することによる基板の冷却効率の向上と、外周縁付近を含む基板表面の全領域での処理の均一化を図る。
【解決手段】 トレイ１５は、厚み方向に貫通する基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄが設けられたトレイ本体１５ａと、基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄの孔壁１５ｄから突出する基板支持部２１を備える。トレイ本体１５ａの下面側から見ると基板収容孔１９Ａ〜１９Ｄにより基板２の下面２ａが露出している。 （もっと読む）

【課題】 基板面の歪みの発生を抑制して均一な露光を可能にする。
【解決手段】 上面８が平坦に形成され、該上面８に開口して圧縮気体を外部に吹き出す多数の吹出孔２及び外部から気体を吸引する多数の吸引孔３を設けて基板４を非接触で支持する基板支持体１２と、基板支持体１２の多数の吹出孔２に圧縮気体を供給する供給管１３と、基板支持体１２の多数の吸引孔３を通して吸引された気体を排気する排気管１４と、を備え、基板支持体１２上の基板４に対して気体を吹き出すと共にその気体を吸引して基板支持体１２の上面８と基板４との間に所定の厚みの気体層９を生成して基板４を浮上させるものであって、排気管１４の途中に設けられ、排気流量を調整すると共に外気を導入可能とするバルブ１５と、バルブ１５を制御して外気の導入量を調整し、吸引孔３の内部の圧力を所定の圧力に維持する圧力調整ユニット１６と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 ステージ装置の制御精度を向上させ、振動を効果的に抑制することができるステージ装置、及びこのステージ装置を備える露光装置を提供する。
【解決手段】 レチクルステージ装置１０は、レチクルステージ定盤１１上をＹ方向に移動可能なレチクルステージＲＳＴと、レチクルステージＲＳＴのＹ方向への移動に応じてレチクルステージＲＳＴとは反対方向に移動するカウンタマスとを備える。カウンタマス１２の四隅の底面には気体を用いてカウンタマス１２を支持する自重キャンセラ３４が設けられている。停電等の異常時には自重キャンセラ３４に供給された気体が緩やかに排気されるよう調整される。 （もっと読む）

【課題】 半導体チップを粘着シートから吸着剥離する際に該半導体チップに吸着反りを生じさせることなく、また、種々の寸法の半導体チップに用いることができるコレットを提供すること。
【解決手段】 コレット５０は、一端８２に設けられた凹部６４及び凹部６４に連通した吸引孔６１を有しているコレット本体６０と、コレット本体６０の凹部６４に設けられていると共にコレット本体６０の一端面６６と面一である露呈面７１を有した多孔質焼結金属体７０とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 吸着口を物品の吸着面にセッティングし易い真空吸着装置を提供する。
【解決手段】 真空吸引管１と、前記真空吸引管の一端に設けた吸着口２と、前記真空吸引管内から前記吸着口を介して外部に光を射出する光源４とを備えた真空吸着装置により前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
基板の先端が除塵ユニットに導入される際の撓みや振動が生じないようにするとともに、ベンチュリ効果のバランスを調整して下側への吸引力を増加するようにして、薄く柔軟性を有する基板であっても安定した搬送や、塵埃等の吸引の増加を実現するような基板用搬送除塵装置の使用方法、および、基板用搬送除塵装置を提供する。
【解決手段】
下側除塵ユニット２１０のエア吸引室２１１，２１３の吸引スリットの長手方向が基板搬送方向ａに対して略直角となるように配置するとともに、基板Ｇの一辺方向が基板搬送方向ａの略垂直方向に対して所定の交差角αで傾斜した状態であって基板Ｇの突端が先頭となるように下側除塵ユニット２１０に搬送されつつ除塵を受けるような基板用搬送除塵装置およびその使用方法とした。 （もっと読む）

【課題】被処理物が収納されている収容器内を諸望の気体雰囲気に保つことができるとともに、より少ない工程で処理装置内に被処理物を供給することができる被処理物供給装置及び被処理物供給方法を提供する。
【解決手段】被処理物供給装置２０は、遮蔽壁１１を備えた処理装置１０に隣接して設けられ、搬送されてきた収容器４０を受け取って前記収容器内に収納されている被処理物を前記処理装置内に供給するものであって、前記処理装置１０に取り付け可能な本体部２１と、該本体部２１に設けられるとともに前記収容器４０を配置可能な載置台３０、３１と、該載置台３０、３１に前記収容器４０が配置されたことを検出して前記収容器内を所定の気体雰囲気に置換する気体置換機構６０を備える。 （もっと読む）

【課題】搬送装置の構造を単純化するとともに、気体のロスを低減さた非接触浮上輸送装置を提供する。
【解決手段】気体が気筒室１９に流入するための流入孔１０の位置を、閉弁時の球弁体１８の中心位置より上位に設けたことにより、搬送軸方向への気体の傾斜噴出は、搬送台１上面とフラットパネル類９平底面がなす隙間の気圧を上昇させるとともに、気流膜を生成してフラットパネル類９が浮上されて搬送軸方向へ搬送するように作用し、他方、気体噴出孔１１のエッジ部分で分岐されて気筒室１９方向に向う気流が、球弁体１８に風圧を与えて、球弁体１８を気筒室１９内中間部に浮遊状態で留める。さらに、補助孔１６より気筒室１９に流入する圧縮気体流は、気筒室１９の底部に発生する乱気流状態を緩和するように働くので、気筒室１９中間部に留められた球弁体１８は激しい上下動が抑制される。 （もっと読む）

【課題】吸着力を低下させる異常がワークに存在するか否かをコストの大幅な上昇等を招くことなく検出することのできる露光装置を提供する。
【解決手段】ワークステージ１２上に露光すべきワークＷを吸着して露光を行う露光装置は、ワーク吸引孔１６の吸引圧が−３０ｋＰａを超えるとＯＮ状態になり且つ−３０ｋＰａを下回るとＯＦＦ状態になる第１のバキュームセンサ２０と、ワーク吸引孔１６の吸引圧が０ｋＰａを超えるとＯＮ状態になり且つ０ｋＰａを下回るとＯＦＦ状態になる第２のバキュームセンサ２１と、バキュームセンサ２０，２１のＯＮ／ＯＦＦ状態に基づいて吸着力を低下させる異常がワークＷに存在するか否かを検出する異常検出手段２２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 基板の反りに起因する基板搬送の際の作業者の負担を軽減することができる基板検査装置を提供する。
【解決手段】 制御部４のレシピ５に測定・検査のプログラム（検査を行なう位置や検査内容）の他に、ウエハの反り情報を記憶させる。ウエハの反り情報は、反りの有無、反りの大小、反りが凸状か凹状であるか等である。制御部４はこのウエハの反り情報に基づいて、真空圧のしきい値の変更、内部リトライの追加、真空圧の変更等のウエハの搬送条件を変更する。 （もっと読む）

【課題】 ワークの着脱時間を短縮することが可能なワーク保持方法および保持装置を提供すること。
【解決手段】 チャック１０のエゼクタ部１３ノズル１４内には常時加圧空気が流通しており、吸着室１８内はワークをチャックする前から負圧状態となっている。また、ワークをチャックした後には圧力センサ１６の検出する圧力値に基づいてチャック完了を検出する。また、ワークをアンチャックするときには、開閉弁２３が排出口２２を閉じて排気室３１内の圧力を上昇させ、エゼクタ部１３から吸着室１８内に加圧空気を導入する。 （もっと読む）

【課題】 吸引によって基板の反りを矯正することにより、基板の面内において均一な熱処理を行うことができる基板熱処理装置を提供する。
【解決手段】 排出孔２７を介して微小空間ｍｓの気体を排出することにより微小空間ｍｓには負圧が生じ、基板Ｗ面がベークプレート１側に吸引される。したがって、基板Ｗに反りがあっても負圧によって矯正され、基板Ｗの下面が球体１９に当接してベークプレート１上面との距離が適切に維持されるので、基板Ｗの面内において均一な熱処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】テーブルの気体制御回転移動において、気体制御アクチュエータの先端部と移動対象物との間に気体を導入したときの先端部における実効負荷力を向上させることである。
【解決手段】テーブル５０を駆動する気体制御アクチュエータ２００は、案内部２０２に案内されてその軸方向に移動可能な第１可動体２０４と、その先端の曲面座で底面が支持される第２可動体２０６とを含む。案内部２０２の底部には、供給口ＣＰ１から駆動気体圧が導かれる。テーブル５０のタンク５６からは、絞り部５８、軸側伝達気体供給路６０を介して、矩形軸５４の気体受面２０８と第２可動体２０６の先端面２１０との間の隙間に、駆動気体圧より高い伝達気体圧を有する気体が供給される。 （もっと読む）

【課題】基板との接触面積を増加させることなく、しかも吸着保持時の基板変形を抑制することができる吸着チャックを提供する。
【解決手段】吸着チャック１０の載置面３１上には基板の下面に当接する支持部３２が凸設されている。載置面３１上の支持部３２以外の領域は、支持部３２によって大気開放領域３３と減圧領域３４とに仕切られている。大気開放領域３３は支持部３２によって囲まれた４つの扇形領域であり、それぞれの大気開放領域３３にはチャック周辺雰囲気と連通する連通穴３５が穿設されている。減圧領域３４は、載置面３１の周縁部に沿って環状に周設した環状領域３４ａおよび載置面３１の中心部から環状領域３４ａに向けて連続して伸びる連通領域３４ｂを有しており、その中心部には真空吸引を行う吸引口３６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの拡散を防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、減圧可能な搬送チャンバ１１０と、減圧可能なプロセスチャンバ１２０と、前記搬送チャンバ１１０と前記プロセスチャンバ１２０との間に配置され、減圧可能な真空室１３０とを有し、搬送チャンバ１１０とプロセスチャンバ１２０との間で基板を搬送するときに、前記搬送チャンバ１１０から前記真空室１３０へ、かつ前記プロセスチャンバ１２０から前記真空室１３０への気流を生成するように前記搬送チャンバ１１０、プロセスチャンバ１２０及び真空室１３０の圧力を制御する。 （もっと読む）

【課題】
カメラ１台でウェーハの回転位置を検出することを可能にする。
【解決手段】
ステージ５と、ウェーハのノッチ部を含むウェーハ外周輪郭像を撮像する１台の撮像装置７と、垂直基準線１３と水平基準線１４とを有する固定された第一視野１２を設定する第一視野設定部９ａと、第一視野よりも狭くかつウェーハの外周のエッジ位置を検出するための垂直基準線に平行な２本のエッジ位置検出線１７ａ、１７ｂを有する可動な第二視野１６を設定する第二視野設定部９ｂと、ウェーハ外周輪郭画像からノッチ代表位置とのずれ量を求めるノッチ代表位置検出部９ｄと、ずれ量に基づいて、第二視野を移動させる第二視野移動部９ｃと、エッジ位置１８ａ、１８ｂを検出するエッジ位置検出部９ｅと、エッジ位置と水平基準線との距離を求め、この距離に基づいて回転量を演算するウェーハ回転量演算部９ｆと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 安価なパネル保持装置の提供。
【解決手段】 保持装置１０は、ＬＣＤ，ＰＤＰ，有機ＥＬなどの平板状パネルＰを着脱可能に保持するものである。装置１０は、気体や液体などの流体の注入、排出により拡径，収縮自在な弾性袋体１２と、弾性袋体１２の一端側に固着される支持具１４と、弾性袋体１２の他端側に貼着され、平板状パネルＰを接着ないしは粘着保持する保持剤層１８とを備えている。そして、弾性袋体１２を拡径ないしは収縮させて弾性変形させることで、平板状パネルＰを保持剤層１８から脱着させる。
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【課題】板状基板を取り出し、板状基板保持アームの先端部に吸着パッドを突設し、真空の吸着パッドにより板状基板を吸着し移送する装置において、移送動作時間の短縮と、板状基板の真空吸着時では、板状基板の撓み、歪みによる振動の減衰時間が延伸を防止でき、真空到達時間の遅延等が発生せず、板状基板が落下、又はずれる等のトラブルを防止することにより、製造能力を向上し、製造コストの削減する基板移送装置を提供する。
【解決手段】移送動作の所定の順序に実行する動作手順において、高弾性率のエラストマーゴム材からなる吸着パッドが、板状基板状基板の下方より板状基板状基板の上方まで板状基板を吸着パッドに吸着し上昇移送を継続しながら、吸着パッドと当該板状基板の裏面との接触開始時に、吸着パッド内を所定の真空圧まで吸引の開始を実行し、所定の移送動作と真空開始を同時に実行する基板移送装置。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板などの絶縁性基板を静電吸着することができる静電チャック、その静電チャックを用いた絶縁性基板加熱加熱冷却装置および絶縁性基板の温度制御方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板１０の温度制御方法、静電チャック１を構成する誘電体の形状、物性、電極７の形状を規定し絶縁性基板吸着用静電チャックを開示した。静電チャック１に加熱冷却用のプレート６、ガス供給配管１３、温度制御システムを規定し絶縁性基板加熱冷却装置を開示した。更に絶縁性基板加熱冷却装置を組み込んだ絶縁性基板処理装置を開示した。 （もっと読む）