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Fターム[5F031JA47]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 検出する情報 (3,081) | 物理量 (856) | 圧力 (242)

Fターム[5F031JA47]に分類される特許

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【課題】搬送装置におけるエアの消費量を抑制して省エネ化を促進すると共に、ワークの保持状態を確実且つ簡便に確認する。
【解決手段】本体部14には、エアが供給される第2供給通路44とベース部材12の吐出孔24との連通状態を切り換える供給切換機構16が設けられ、前記第2供給通路44に連通した連通路36におけるエアの圧力がワークの接近によって上昇することにより、前記供給切換機構16によって前記第2供給通路44と吐出孔24とが連通状態へと切り換えられる。 (もっと読む)


【課題】ヒータユニット内に熱伝導性のよいガスを供給し、かつ、ヒータユニット内の空間の圧力が反応室内の気圧より高くなることを抑制する。
【解決手段】ヒータユニット100は、ヒータユニット100の上面に、反応室10に連通するガス導入空間120を有している。ヒータユニット100に基板1を載置する工程において、基板1をガス導入空間120上に位置させる。基板1を昇温する工程において、ガス導入空間120には反応室10から熱伝導性のよいガスが流入し、かつ反応室10を排気する第1の排気系140と、ガス導入空間120を排気する第2の排気系130とを制御することにより、ガス導入空間120の気圧を反応室10の気圧未満に制御する。 (もっと読む)


【課題】レチクル等を収容しこれを保管する密閉容器について、当該容器内部の圧力を適宜知ることを可能とする。
【解決手段】該密閉容器に、圧力センサ、圧力データを送信する送信手段、これらの動作を制御するコントローラ、及びこれら構成の動作源であるバッテリを付与することとする。コントローラは、一定周期で送信手段により圧力データを送信させるスリープモードと、外部からの指示に応じて適宜圧力データを送信させるアクティブモードとを有する。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構造によって基板を保持する保持部における基板の有無および基板搬送時に発生する過負荷のいずれも検出することができる検出手段、および前記検出手段を用い、事故の発生を未然に防止することのできる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 基板搬送装置は、移動台と、基板を保持する保持部および支持部を備える保持手段、荷重を検出する検出部および検出部に荷重を伝達する荷重伝達部を備える検出手段、駆動手段、および制御手段を有する。保持部は、移動台の上部の設けられる支持部によって、移動台に対して離間して一端部が支持される。検出手段は、移動台と保持部との間に挟まれて設けられ、保持部に与えられる鉛直方向の荷重を検出することができる。また、保持部に対し水平方向に沿って与えられる荷重の一部を鉛直方向に働く荷重として検出部に伝達するように荷重伝達部が構成される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造工程で使用されるプラズマ装置に際して、チャンバー処理室内でウエハズレが発生した場合に、それを検知して修正する。
【解決手段】チャンバー処理室1にて、搬送アーム42によりウエハ2を搬送し、下部電極3上に載置する。このウエハ2を下部電極3に吸着させプラズマ処理し、処理完了後にウエハ2をデチャックさせる。その後、赤外線センサー16によってウエハ2の位置を確認する。その際に、赤外線センサー16が反応した場合、反応方向にウエハがズレていることが検知される。赤外線センサー16によりウエハズレを検知した場合、ウエハ位置フィードバックシステム44によって搬送アーム42にそのズレ方向とズレ量をフィードバックして、チャンバー処理室1に搬送アーム42を挿入し、ウエハ2を搬出する。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバーに設けられている圧力計を交換する際に、真空チャンバー内やロードロック室等を大気開放することなく交換できるロードロック室を有する真空チャンバー装置を提供することである。
【解決手段】ロードロック室と圧力計がそれぞれ配管により連接されているチャンバーと、ロードロック用ポンプと、高真空ポンプと、荒引きポンプと、を備えたロードロック室を有する真空チャンバー装置であって、前記配管により連接されている圧力計とチャンバー間に第一の開閉バルブを備え、第一の開閉バルブと圧力計の間に、その間の配管内を大気圧にする第二の開閉バルブを備え、さらに、第一の開閉バルブと圧力計の間に、第三の開閉バルブを介して配管内を減圧する配管用荒引きポンプを具備していることを特徴とするロードロック室を有する真空チャンバー装置である。 (もっと読む)


【課題】基板を垂直に立てた状態で搬送するキャリヤの軽量化を図ることができる基板搬送装置、基板搬送方法及び真空処理装置を提供すること。
【解決手段】基板搬送装置は、矩形状の枠体を有し、水平方向に沿って伸び枠体と平行な回動軸Lに回動可能に支持されたフレーム37と、フレーム37に配設され基板Wを吸着する複数の吸着パッド46と、フレーム37を水平状態と垂直状態との間で回動させる駆動部35とを有する移載機構22と、移載機構22を制御する制御装置とを備えた。そして移載機構22は、水平状態のフレーム37にて基板Wを吸着させ、フレーム37を回動させて垂直に立った状態のキャリヤ23に基板Wを収容するようにした。 (もっと読む)


【課題】
基板処理装置の稼働中にツイーザのピッチの確認を行い、ツイーザピッチ確認作業を装置を休止させることなく、効率よく行い、更に基板搬送のトラブルを未然に防止する。
【解決手段】
基板6を収納した基板収納容器7を移載棚23に搬送する第1の工程と、移載機26がツイーザ27により前記基板収納容器から基板保持具28へ基板を搬送する第2の工程と、該第2の工程より前に前記ツイーザの調整状態を確認する為のツイーザの状態確認工程とを具備する。
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ワークピース支持体は、ワークピースを受容および保持するためのワークピース受容面を規定する。ワークピース支持体は、複数の流体ゾーンを含む。例えばガスなどのような流体が、ワークピース支持体の上のワークピースとコンタクトするための流体ゾーンに供給される。流体は、所定の位置におけるワークピースの温度を制御するために、熱伝導性特性を有するよう選択することができる。本発明によれば、前記流体ゾーンの少なくともいくつかは、前記ワークピース受容面にて異なる方位位置を有する。このようにしてワークピースの温度を、放射方向だけではなく角度方向においても調整することができる。
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【課題】 プローブカードをプリヒートすることなく高温検査を行ってプローブの針先位置が変動してもプローブと半導体ウエハ(被検査体)との接触荷重を本来必要とされる接触荷重に保持することができ、信頼性の高い検査を行うことができるプローブ装置に用いられる載置装置を提供する。
【解決手段】 本発明の載置装置10は、温度調整可能な載置体11と、載置体11を支持する支持体12と、支持体12内に設けられた昇降駆動機構と、を備え、載置体11と支持体12の間に載置体11を支持体12から離間させて弾力的に支持する複数のシリンダ機構13を設けると共に、複数のシリンダ機構1の弾力を一定値に設定する電空レギュレータ14を設けて構成されている。 (もっと読む)


【課題】
ステージが搭載される除振台の初期化を従来よりも短時間に行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】
露光装置の電源をオン状態にし、第1のアクチュエータを駆動することによりベローズに前記気体圧力を供給して、除振台を水平状態にする場合において、電源がオフ状態におけるステージの位置と予め用意した計算式とを用いてベローズへの負荷に対応する第1の気体圧力を計算し、第1の電磁弁が閉状態のまま、第1の圧力計測手段および第1のアクチュエータを用いて第1の気体圧力を供給した後で、第1の電磁弁を開状態にして、除振台の位置に基づいて第1のアクチェエータによりベローズに気体圧力を供給することにより、記除振台を水平状態にすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板上に液状体を安定して塗布することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供する。
【解決手段】基板の浮上高さを制御するためのエア噴出機構及び吸引機構と、エア噴出孔から噴出されるエアの噴出圧が一定になるように、当該噴出圧を制御するAPCとが設けられているので、基板の浮上量を一定に制御することができる。これにより、気体供給設備の気体供給量が不安定な場合であっても、基板の浮上量が変化することはなく、安定してレジストを基板上に塗布することができる。 (もっと読む)


【課題】温度調整用の流体が供給される空間の圧力上昇を抑制して、物体を良好に温度調整できる温度調整装置を提供する。
【解決手段】温度調整装置は、所定空間に温度調整用の流体を供給して物体の温度を調整する。温度調整装置は、所定空間に流体を供給するための供給流路と、供給流路から分岐する分岐流路と、所定空間に流入する流体の圧力に応じて、供給流路を流れる流体の少なくとも一部を分岐流路に流すことができる調整機構とを備えている。 (もっと読む)


【課題】露光装置用基板搬送機構からの基板外れを防止することができる露光装置用基板搬送機構及びその制御方法を提供する。
【解決手段】浮上ユニット16からの空気流によって浮上・支持された基板Wを真空吸着・吸着しながら所定方向に搬送する基板駆動ユニット17であり、上面に形成された基板吸着のための複数の吸着孔41によってそれぞれ規定される少なくとも2つの吸着領域35を構成するチャック部22と、吸着孔41内の空気圧を各吸着領域35ごとに独立して制御可能な空気圧回路40とを備える。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハ等の処理装置において、処理チャンバ内部にてリフトピンに基板を戴置した際の位置ずれ、脱離等を正確に検知するのは困難であり、基板搬送時に接触などによる破損の可能性があった。
【解決手段】 複数あるリフトピンそれぞれに荷重センサが接続され、荷重値を演算部で処理することにより基板の戴置状態を判断する。これにより基板位置のずれ、脱離を明確に検知することが可能となり、基板破損の可能性を低減することが出来る。 (もっと読む)


【課題】基板にかかる応力を抑制しつつ確実に吸着保持できるようにする。
【解決手段】外観検査装置1は、基板吸着装置として板金15に固定された3つの吸着部群16A〜16Cを備える。吸着部群16A〜16Cはガラス基板Wの搬送方向に並んで配置されており、各々が3つの吸着部18A〜18Cを備える。吸着部18A〜18Cは、ガラス基板Wの裏面に吸着可能で、首振り動作が可能な吸着パッド22が1つずつ設けられている。最も中央にある吸着部群16Bの吸着部18Bは、上方に押し付け部33が配置されている。押し付け部33は補助パッド35を降下させてガラス基板Wを吸着部18Bに押し付ける。 (もっと読む)


基板キャリアを加圧するための方法は、キャリアと一体構造のものであるチャンバおよび/またはキャリア内の基板カセットを加圧するステップと、チャンバからキャリア内へガスを放出することにより、キャリア内の圧力を維持するステップとを含む。
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基板処理システムであって、基板の収納および搬送用に少なくとも1つの基板容器を保持する構成のロードポートモジュールと、基板処理チャンバと、チャンバ内の隔離された雰囲気を保持して基板処理チャンバとロードポートモジュールに結合する構成の隔離可能な移送チャンバと、駆動部がこの移送チャンバに固定されこの移送チャンバ内に少なくとも部分的に取り付けられる基板搬送機とを含み、この基板搬送機が、少なくとも1つの基板を支える構成の1つのSCARAアームを有し、SCARAアームは、その基板の基板容器と処理チャンバとの間で少なくとも1つの基板をワンタッチのみで搬送するように構成され、第1アームリンクと、第2アームリンクと、少なくとも1つのエンドエフェクタとを備えており、これらはそれぞれ連続的に枢動可能に結合され、第1および第2アームリンクは異なる長さを有するシステム。
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【課題】筐体内外に収納容器の搬入搬出を行うロードポートにおいて、収納容器の蓋体を装着したり外したりするのを可能とし、構造をシンプルにする。
【解決手段】基板処理装置は、複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器2と、収納容器を載置するロードポートと、該ロードポートで基板出し入れ口に対する蓋体の着脱を行う着脱装置と、ロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニット18Aと、第一載置ユニットとは別体として設けられロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニット18Bと、を備える。 (もっと読む)


【課題】サセプタ異常によるウエーハ温度異常をリアルタイムまたは事前に検出することができる、基板処理装置の異常検出方法、および基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理中に、温度測定手段4が、サセプタ3の基板載置面中央部の、基板載置面近傍のサセプタ温度を測定する。次いで、サセプタ異常判定手段5が測定されたサセプタ温度と、予め設定された基準温度とを比較する。サセプタ異常判定手段5は、温度比較結果に基づいて、サセプタ異常の有無を判定する。 (もっと読む)


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