【課題】リソグラフィ装置における基板の露光時間を最大化し、且つ／又は、大きな基板が露光されるときにリソグラフィ装置の占有面積の増加を最小に抑えるための方法及び装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム１２４、ビーム１１０にパターン形成するパターン形成デバイス１０４、及び、パターン形成されたビームを基板１１４の目標部分上に投影する投影システム１０８を含む。計測システムは投影システムとの基板の位置合わせのために投影システムに隣接して設けられている。２つ以上の可動チャックは各々が、基板を支持し、且つ、ローディング・デバイスと投影システムの間で移動するように構成されている。チャックは独立に可動であり、１つの基板がローディング・システムと投影システムの間を移動される間に、もう１つの基板は計測システム及びパターン形成されたビームを通過可能である。 （もっと読む）

【課題】基板処理システムの構成を簡素化しつつ、処理チャンバ内の載置台に対して基板を所定位置に高精度かつ迅速に搬送する。
【解決手段】基板処理システムは、搬送装置３２による基板の搬送や、処理装置２３における基板の処理の制御を行う制御装置１００を有している。制御装置１００のレシピ設定部１０１では、処理レシピの設定を行う。記憶部１０２は、搬送アームの初期基準位置と、処理レシピと処理チャンバの側壁温度との第１の相関と、処理チャンバの側壁温度と基準位置の補正値との第２の相関とが記憶されている。補正部１０３では、レシピ設定部１０１で設定された処理レシピと、記憶部１０２に記憶された初期基準位置、第１の相関及び第２の相関に基づいて、搬送アームの基準位置が補正される。 （もっと読む）

【課題】吸着面に静電吸着される被吸着物の平面度を高くできる静電吸着保持装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第２静電吸着保持装置３４は、可撓性を有する誘電性材料で形成され、且つウエハＷを吸着する吸着面３４ａが形成された一方の面４２ｂを有する基体４２と、該基体４２の内部に設けられる第１電極部４５及び第２電極部４６と、基体４２の一方の面４２ｂとは反対側の他方の面４２ａに駆動力を付与し、基体４２の吸着面３４ａの形状を変形させる駆動装置４１と、を備えている。この駆動装置４１の駆動によって、吸着面３４ａの形状が変形すると、該吸着面３４ａに静電吸着されるウエハＷの被照射面Ｗａの平面度は高くなる。 （もっと読む）

【課題】
プラズマ処理システムの加工室において基板を保持する基板ホルダーと共に使用する磁気クリップを提供する。
【解決手段】磁気クリップは、締め付け面及び磁石をそれぞれが有する第１の本体部材及び第２の本体部材を含む。第１の本体部材は、基板ホルダーと機械的に接続されるように構成される。第２の本体部材は、閉位置と開位置との間で第１の本体部材に対して移動するようにヒンジによって第１の本体部材と枢着される。閉位置では、第１の締め付け面と第２の締め付け面との間に基板の縁領域が位置決めされる。開位置では、縁領域は解放される。第２の本体部材の磁石は、第２の本体部材が閉位置にあるときに第１の本体部材の磁石を磁気的に引き付け、第１の締め付け面及び第２の締め付け面に対する基板の縁領域の移動を拘束する力を加える。 （もっと読む）

【課題】 ロードポート装置にセットする向きが制限されないクリーンボックスを実現する。
【解決手段】 クリーンボックスは、第１ユニットと、第１ユニットに対して着脱可能な第２ユニットを備えている。第２ユニットには、半導体ウエハを支持するウエハ支持部が設けられている。第１ユニットから第２ユニットが取り外された状態で、第２ユニットのウエハ支持部には、半導体ウエハを特定の方向から出し入れ可能となる。第１ユニットに第２ユニットが取り付けられた状態では、第１ユニットと第２ユニットが、ウエハ支持部に支持された半導体ウエハを収容する密閉空間を形成するとともに、相対回転可能であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】顧客トレイからテストトレイに半導体素子をローディングする時、段階的に行われる半導体素子の前後及び左右ピッチの調整を分業化することができる技術を提供する。
【解決手段】本発明のテストハンドラーは、半導体素子をマトリックス状に第１方向ピッチと第２方向ピッチを有するように積載可能な顧客トレイと、前記顧客トレイに積載されている半導体素子をテストトレイにローディングするローディング装置と、前記ローディング装置によりローディングが終了されたテストトレイ上の半導体素子をテストするために設けられるテストチャンバーと、前記テストチャンバーを経由してテストが終了されたテストトレイ上の半導体素子を顧客トレイにアンローディングするアンローディング装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】把持部材を半導体チップの上面に近づけたときに把持部材から噴出する気体の背圧が予め定めた圧力まで上昇しなくても把持部材が半導体チップの上面に接触する高さ位置を、簡単な構成で高精度に求めることのできるハンドラのティーチング方法及びハンドラを提供する。
【解決手段】吸着パッドを検査用ソケットに配置されたＩＣチップに向かって下動させるとき、吸着パッドの先端から気体を噴出させながら下降させる。そして、吸着パッドの先端から噴出する気体の流量を流量センサで検出し、流量センサで検出した流量が予め定めた流量まで減少した時の吸着パッドの下降位置を吸着パッドがＩＣチップの上面に接触する高さ位置として記憶手段に登録する。 （もっと読む）

【課題】キャリアおよびキャリアに収容された半導体ウエハの姿勢を精度良く測定することのできる形状測定機を提供する。
【解決手段】測定対象であるキャリア１８を支持するステージ１２，２０と、測定対象の形状を測定する測定部１０とを有する。ステージ１２，２０は、キネマティックカップリングによって測定対象を支持するために、キネマティックカップリングピン２０ａ，２０ｂ，２０ｃを有する。 （もっと読む）

磁力によって浮上する一体式ステージ位置決めシステムは、３相リニアモータと、一体式ステージに接続され、強磁性体ベースと相互作用するコイル巻線とを含む。３相リニアモータを励起して、Ｘ軸方向の動き、Ｙ軸方向の動き及びＺ軸を軸にした回転を提供できる。一体式ステージは、空気軸受上で浮上する。一体式ステージに接続された複数のコイル巻線は、磁力によって空気軸受に予圧を加える役割を果たすことができる。複数のコイル巻線を励起して、Ｚ軸方向の動き、並びにＸ軸及びＹ軸を軸にする一体式ステージの回転を提供してもよい。 （もっと読む）

【課題】ウェーハを支持するときに、フィルムの露出部分を少なくする。
【解決手段】一面にフィルム（３）が貼付けられているウェーハ２０を支持するウェーハ支持具（３０）は、ウェーハ周りに配置される第一筒部材（３１）と、第一筒部材周りに配置される第二筒部材（３２）とを具備し、フィルムが第一筒部材周りにおいて第一部材側に折曲げられて、第一筒部材と第二筒部材との間に保持され、それにより、ウェーハを支持する。第二筒部材は、半径方向内側に延びて第一筒部材の端部を支持する支持部材（３３ａ）を含んでもよい。また、第一筒部材の外周面および第二筒部材の内周面には互いに係合する係合部（３７、３８）が備えられていてもよい。 （もっと読む）

【課題】パージ作業中であってもウェーハをＦＯＵＰ内と半導体製造装置内との間で出し入れすることができるロードポートを提供する。
【解決手段】共通のクリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられるロードポート１として、ＦＯＵＰ内部の気体雰囲気を窒素ガスに置換するパージポート（注入用パージポート２３、排出用パージポート２４）を有するパージステージ２と、パージステージ２に並べて設けられ且つ半導体製造装置Ｂ内に通じる開口部３３及び開口部３３を開閉可能なドア部３４を有するオープナステージ３と、ＦＯＵＰをパージステージ２とオープナステージ３との間で移動させる移動機構４とを備えた構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法において、基板との不要な接触を防ぐ。
【解決手段】ウエハ搬送装置１は、ウエハＷが載置されるウエハ載置面２ａ，３ａを有し互いに平行に設置された２本のアーム部２，３と、ウエハ載置面２ａ，３ａ（アーム部２，３）をアーム部２，３の長手方向を回動軸Ａ２，Ａ３として水平面に対し傾斜させる傾斜手段としてのバランサ（錘）４，５と、アーム支持部６と、吸引用チューブとしてのアーム側吸引用チューブ７，８と、支持部側吸引用チューブ９と、傾き検出手段としての透過型センサ１０，１１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡単な構造でウェハカセットを適正に配置することができるカセットステージを提供する。
【解決手段】カセットステージ１００は、ウェハカセット２００が装填されていないとき、ガイド軸支機構１３１，１３２で回動自在に各々軸支されている左側カセットガイド１１０と右側カセットガイド１２０とがガイド開放機構１４０により開放状態とされている。ウェハカセット２００が上方から装填されると、その自重により左下支持部材１１１と右下支持部材１２１とが下方に回動され、左側カセットガイド１１０の左側圧接部材１１２がウェハカセット２００の左側面に圧接されるとともに、右側カセットガイド１２０の右側圧接部材１２２がウェハカセット２００の右側面に圧接される。このため、左側カセットガイド１１０と右側カセットガイド１２０とでウェハカセット２００を左右対称に保持することができる。 （もっと読む）

【課題】テーブル等を可動させる際の位置決め精度の低下を防止する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板を保持するようにそれぞれ構成された２つの台を含み、各台は、基板と共にテーブルを移動させるための短ストロークモジュールと、その台の短ストロークモジュールを移動させるための長ストロークモジュールとを備える。このリソグラフィ装置は、各台を結合するための交換ブリッジを含み、使用の際、第１の構成では、各台が互いに移動可能であり、また、使用の際、第２の構成では、連結移動を行うために各台が交換ブリッジを介して結合される。 （もっと読む）

【課題】 搬送アームの位置を容易に調整することができる搬送アームの位置調整方法及び搬送アームの位置調整治具並びにウェハ搬送装置を提供する。
【解決手段】 複数のウェハ１が収納されたウェハカセット１０に、積層方向で隣り合うウェハ１の間に挿入されて、前記ウェハ１を搬送する搬送アーム２０の前記積層方向の位置を調整する搬送アームの位置調整方法であって、前記ウェハカセット１０の一側面に設けられた開口部１２を介して、前記ウェハ１の積層方向で隣合う２つのウェハ１の間に前記搬送アーム２０を挿入した状態で、当該２つのウェハ１の間隔以上の幅を有する光を前記ウェハ１及び前記搬送アーム２０に照射すると共に、前記開口部１２を介して前記２つのウェハ１と前記搬送アーム２０とで遮蔽された光を受光して、前記２つのウェハ１と前記搬送アーム２０との距離情報を取得し、該距離情報に基づいて前記２つのウェハ１に対する前記搬送アーム２０の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】窒素ガスパージに伴うウエハ位置ずれによるウエハ移載ミスを防止する。
【解決手段】ポッド１０とボートとの間でウエハ９を授受するウエハ授受ポートにポッド１０のドア１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポッドオープナを設け、ウエハ出し入れ口２２を被覆する筐体６０を設け、筐体６０にはクロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気管６３、排気管６４を接続する。ポッドの開放時に窒素ガス６２をクロージャ収容室６１、ウエハ収納室１０ｃに吹き込み、窒素ガスパージする。その後、クロージャ４０でドア１０ａをウエハ出し入れ口１０ｂへ嵌入し、ドア１０ａでウエハ９群をウエハ収納室１０ｃ内に押し込み、窒素ガスパージによるウエハ位置ずれを解消させる。 （もっと読む）

【課題】基板への静電気の誘引を抑えることができると共に、基板を確実に吸着することができる基板吸着装置及び基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板（Ｇ）を吸引するための吸引孔１１ｃが形成された吸着パッド１１と、この吸着パッド１１の基部１１ｂを収容し吸引孔１１ｃに連通する収容凹部１２ａ及びこの収容凹部１２ａに連通する吸引路１２ｂが形成されたパッド支持部材１２と、吸着パッド１１を基板（Ｇ）側に付勢する弾性部材（１３）と、を備える基板吸着装置１０において、吸着パッド１１は、この吸着パッド１１の揺動軸Ａ１と交差する中心軸Ａ２を有する係止ピン１６がこの係止ピン１６と略同一の幅で且つ係止ピン１６よりも高さ方向（Ｚ軸方向）に長い係止孔１７ｄ内を移動することで、高さ方向に移動し、吸着パッド１１は、係止ピン１６が係止孔１７ｄにより係止孔１７ｄの幅方向への移動を規制されることで、揺動軸Ａ１回りの回転が規制される。 （もっと読む）

【課題】テーブル部の高さ位置を低くする。
【解決手段】ステージ装置１では、第１ガイドレール１４を上るように支持スライダ１３をボールねじ２１で移動させると、Ｚ軸テーブル部１２が支持スライダ１３で支持されていることから、かかる移動に伴ってＺ軸テーブル部１２が上昇する。このとき、支持スライダ１３が第２ガイドレール１８を下るようにＺ軸テーブル部１２に対して移動するため、Ｚ軸テーブル部１２にあっては、支持スライダ１３によるくさび作用で押し上げられるように上昇する。つまり、支持スライダ１３を移動させることで、第１及び第２ガイドレール１４，１８が互いに協働しＺ軸テーブル部１２が重畳的に鉛直方向に移動する。よって、例えばガイドレール１４，１８の傾斜角度θ１，θ２を小さくして扁平構造としても、Ｚ軸テーブル部１２の鉛直方向の移動量を充分に確保することができる。 （もっと読む）

【課題】基板収容容器を、確実に精度良く、載置台上に載置可能な基板収容容器およびその位置決め構造を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る基板収容容器１０は、載置台２００上に水平に載置、位置決めされ、その内部に基板Ｗが収容され、基板収容容器１０の、載置台２００の載置面２０１に載置される載置部１５に、先端が載置面２０１と平行な平坦面３１１に形成された突起部３１を少なくとも３つ設けると共に、漏斗状の凹部３２を少なくとも２つ設け、各突起部３１の平坦面３１１を載置面２０１に当接させ、平面同士を面接触させるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】 マスクを被処理対象物に対して位置合わせ後、基台にマスクを設置固定する際に、高精度にマスクと被処理対象物の相対的な位置のずれを無くすること。
【解決手段】保持装置は、基板が載置される基台と、マスクを支持する為に、基板が載置される保持面の外側の周辺部に少なくとも３個配置され、マスクが基板の上に載置されるときには保持面から突き出ているマスク支持部材と、マスク支持部材により支持されているマスクの位置を調整する調整機構と、調整機構により位置が調整されたマスクを基台に固定する固定機構と、を有する。 （もっと読む）