説明

Fターム[5F031KA20]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 位置決め (4,282) | ウエハ、基板以外のものの位置決め (315)

Fターム[5F031KA20]に分類される特許

101 - 120 / 315


【課題】昇降ピンごとに位置調整を行って挿通孔と昇降ピンとの位置合わせを正確に行うことができ、昇降ピンと挿通孔内面のこすれ等によるパーティクルの発生を抑制することができる基板載置台を提供すること。
【解決手段】基板載置台は、載置台本体と、載置台本体に対して基板を昇降する基板昇降機構とを有する。基板昇降機構は、挿通孔に挿通された昇降ピン52と、昇降ピン52を支持する昇降アーム59と、昇降アーム59を介して昇降ピンを昇降させるアクチュエータと、昇降ピン52を昇降アーム59に取り付ける昇降ピン取り付け部60とを有し、昇降ピン取り付け部60は、昇降アーム59に設けられた凹所と、昇降ピン52がねじ止めされ、昇降アーム59の上面と面接触する底面と底面から下方へ突出して凹所に遊嵌される突出部とを有するベース部材63と、ベース部材63をクランプするクランプ部材64とを有する。 (もっと読む)


【課題】薄型のポッドを複数縦に積み上げる様式にてロード可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドをロードするプレート上に吸着パッドを配し、当該パッドによる吸着保持によってポッドの該プレートに保持固定する。吸着パッドに吸引力を付与するためのチューブは必要最低限の空間厚さを有する箱状部材内部の収容空間にて収容し、該チューブの撓み得る領域は該収容空間内部にのみ存在することとする。 (もっと読む)


【課題】半導体製造ラインにおいて、ウエハ加工後にウエハ表面にケミカルガスまたは水分が付着し、ウエハ面上のパターンが破壊されるのを防ぐために、ウエハを収納したFOUP内にN2ガスを充填し、FOUP保管棚に保管している間、FOUPのブレスフィルターからのN2ガスの漏洩を防ぎ、内部のウエハの品質を守る半導体ウエハ収納容器用保管棚を提供する。
【解決手段】FOUP保管棚内のFOUP設置棚2の上面に、FOUPの吸排気口6と合致する位置に突起状栓を設け、FOUP設置棚2にFOUPが設置・保管されると、FOUPの吸排気口6とFOUP設置棚2の上面の突起状栓が嵌合し、FOUPの吸排気口6がシールされ、FOUPの自重によりシール性が強められる構造の、FOUP設置棚2の上面に突起状栓を備えたFOUP用保管棚である。前記突起状栓を、円錐形栓34、バネ付き円錐形栓にすると、シール性をさらに強めることができる。 (もっと読む)


【課題】基板及びリソグラフィ装置の性能に関する物理的特性を迅速に検出する。
【解決手段】概ね第一方向に延在する少なくとも1本の線によって形成された延在パターンの特性を検出する。延在パターンは、基板又は基板テーブル上に形成され、好ましくは線の幅の少なくとも50倍の長さにわたって延在する。検出方法は、基板テーブルを第一方向に移動させ、その第一方向xに沿って延在パターンの特性を測定することを含む。特性は、第一方向に対して直角の第二方向yにおける延在パターンの物理的特性の結果である。次のステップでは、延在パターンの測定位置から基板テーブル位置の較正を導出することができる。 (もっと読む)


物品サポートが物品を支持するように構成される。物品サポートは、物品サポートへ熱緩衝流体を供給し、かつ物品サポートから熱緩衝流体を抽出するように構成された充填構造を含む。充填構造は、充填構造から熱緩衝流体の少なくとも気相を抽出するように構成および配置された抽出管に接続される。充填構造は、充填構造に熱緩衝流体の液相を供給するように構成および配置された供給管に接続される。充填構造は、熱緩衝流体が複合気液相になるように配置されて物品と熱接続する。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの表面に紫外線硬化樹脂の保護膜を均一の厚さに形成することができる半導体ウエハの保護膜の形成装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハの保護膜の形成装置であって、上下に貫通して紫外線が通過可能な開口を有する機台および定盤と、前記定盤の下部に装着されて紫外線を上方へ向けて反射する光反射体と、この光反射体の下部に装着されて紫外線を上方へ向けて照射する紫外線照射手段と、前記定盤の上方位置に昇降可能に配設された昇降部材と、前記定盤の上面に前記開口を被うようにして装着されるとともに前記半導体ウエハを載置可能な平坦状の上面を有する紫外線透過性の受圧部材と、前記昇降部材の下方側に位置してこの昇降部材に角度調整手段を介しかつ前記受圧部材と対向して装着されるとともに平坦状の下面を有する加圧部材と、前記昇降部材を昇降させる電動シリンダと、を具備している。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、トランジスタが表面に形成されている基板を静電吸着によって真空容器内で保持する際に、当該基板の表面に形成されているトランジスタに損傷が生じるおそれを低減することが可能な静電吸着用電圧印加方法を提案することを目的としている。
【解決手段】
カラーフィルタ基板が搬送手段により搬送され第二の基板保持部に前記カラーフィルタ基板が真空吸着により載置される第一の工程、第一の基板保持部及び前記第二の基板保持部を移動させて封止空間が形成される工程、その後に前記封止空間が真空排気される工程、前記封止空間の圧力が所定の圧力に達した後に前記カラーフィルタ基板が静電吸着される工程、トランジスタが形成されている基板が静電吸着される工程を有する液晶ディスプレイの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】基板を基板カセットからトレイカセットまで一貫して搬送できるようにする。
【解決手段】ウエーハ移送手段はウエーハ2の下面を支持部材23で支持する一次側ウエーハ移送手段と、該一次側ウエーハ移送手段の搬送終端の上方に配置可能に設けられ下向きの吸着面30を有するベルヌーイチャック機構29が設けられた二次側ウエーハ移送手段11とを備える。移載テーブル4に載置したトレイ3にウエーハ2を載置するときには、ベルヌーイチャック機構29はウエーハ2の上向きの表面と無接触状態で保持でき、この結果二次側ウエーハ移送手段11の下降作用によりウエーハ2の表面を無接触状態でトレイ3に載置することができる。 (もっと読む)


【課題】 半導体ウエハから指定の半導体素子をピックアップすることができるとともに、指定されていない半導体素子はダイシングテープの接着層に接着されている状態をそのまま維持する技術を提供する。
【解決手段】 半導体素子のピックアップ装置(100)は、紫外光照射により接着力が低下する接着層を有する接着テープ(202)上に接着された半導体ウエハ(SW)から分離された個々の半導体素子を取り外す半導体素子のピックアップ装置である。このピックアップ装置は、接着テープ(202)の下面側から紫外光を照射する紫外線光源(11)と、この紫外線光源と半導体ウエハとの間に配置され、個々の半導体素子の大きさに紫外光を遮光する遮光部材(50)と、を備える。 (もっと読む)


【課題】構成の複雑化を招くのを防止しながら、棚前後方向での設置スペースをより小さくすることができる物品収納設備の提供。
【解決手段】上下方向及び左右方向に収納部1を複数備えた物品収納棚2と、その物品収納棚2における各収納部1に物品3を搬送自在な物品搬送装置4とが設けられ、物品搬送装置4は、物品収納棚2の棚横幅方向に移動自在な移動体12と、その移動体12に対して物品収納棚2の棚前後方向に移動自在な昇降案内マスト13と、棚前後方向での昇降案内マスト13の移動により収納部1に対する物品移載用の突出位置と収納部1から引退する引退位置とに移動自在で且つ昇降案内マスト13にて昇降自在に案内支持された物品支持体14とから構成されている。 (もっと読む)


【課題】ロードポートにおいて、アダプタを使用することなくフープとオープンカセットを設置できるようにする。また、基板収納容器判別センサを設けることなくフープとオープンカセットを判別する。また、オープンカセットのスロット数およびスロットピッチがフープと同等な場合においても使用できるようにする。
【解決手段】容器のクランプ手段が、フープK1の底面を固定するときの位置よりもさらに下降し、オープンカセットK2がステージに搭載されたときにオープンカセットK2の底面と接触しない位置まで下降可能となるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】計測した被処理物の処理面の位置情報に基づいて、処理装置の処理位置を正確に位置決めすることにより、高性能でかつ高歩留まりな被処理物を得ることができる位置決め装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッド4の処理位置を、主走査軸3により基板1の処理面上の目標位置に向かって主走査方向に移動させるとき、基板位置記憶部25に記憶された基板1の処理面上の被処理箇所の位置に基づいて、目標位置が副走査方向にずれているときは、インクジェットヘッド4の処理位置を、副走査軸10により副走査方向に処理面に対して相対的に移動させる補正動作によって目標位置に到達するように、主走査軸3と副走査軸10を制御する制御部(23,26,27,28,29)とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板搬送装置の高さの低減、及び汚染物質等の進入の抑制を図る。
【解決手段】複数の基板Wが上下方向に並列的に収容される棚を有し、該棚の全段に相当する寸法の開口6aがその一側面に形成された基板容器6が設置される容器台42と、容器台42を、上下方向の任意の位置で位置決め可能に移動する駆動装置43と、容器6の棚の全段に相当する寸法よりも小さい範囲で上下方向に移動し、容器台42との間に設けられた隔壁44に形成される開口部44aと、開口部44aに対向する容器6の開口6aとを介して基板容器6の棚に対する基板Wの搬出又は搬入を行う搬送アーム20と、搬送アーム20の上下方向の移動範囲に対して容器台42の上下方向に位置を変更するように駆動装置43を制御する制御装置と、容器台42が位置を変更する際に、隔壁44に形成される開口部44aが外部へ開放されることを防止する防止手段47とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】シート状の基材を貼付された基板から基材を剥離する作業を効率よく行う。
【解決手段】基板から剥離され巻き取りローラ220に巻き取られたシートフィルムFの巻き始め側端部Fsをシート剥がし爪512により引き出して把持し(図14(a))、シート剥がし機構510を下方に移動させる(同図(b))。最下端まで移動してくると従動ローラ522を配したシートガイド521を下降させて搬送ローラ531とのニップ部でシート端をクランプし、搬送ローラ531の回転により搬送経路Pに沿って回収ボックス600まで搬送する(同図(c))。 (もっと読む)


【課題】例えば半導体素子製造用の各種基板を収容する荷を搬送する搬送車との間で、荷の出入庫が夫々行われる複数の保管庫が組み合わされてなる保管庫セットが軌道に沿って敷設される保管庫装置において、比較的簡単な構成を採用しつつ、効率良く荷を出入庫することを可能ならしめると共に、稼働率を高く維持する。
【解決手段】保管庫装置に備えられる保管庫10は夫々、荷3を水平一方向及び鉛直方向に往復移動可能な駆動手段11,13,14と、該駆動手段により移動される荷を収容又は載置可能な棚部分を、鉛直方向に複数段に渡って段毎に水平一方向に一又は複数有する棚15とを備える。保管庫装置は、少なくとも複数の保管庫のうち一又は複数の保管庫からなるグループ毎に出入庫を制御すると共に相互に補完制御可能に夫々構成されている複数のコントローラを備える。 (もっと読む)


【課題】ミニエンバイロメント装置のクリーンボックス内に、クリーンエアの好適なダウンフローを形成できる、ウェーハ搬送装置を提供することを課題とする。
【解決手段】半導体ウェーハ4bを加工するミニエンバイロメント装置1に備わるクリーンボックス2の背面の側の側壁部23bにロボット本体20の走行装置21を備え、ロボット本体20を走行させることで、クリーンボックス2の床部23aに、ロボット本体20が走行する軌道を設置することなく、ロボット本体20を走行できる構成とする。 (もっと読む)


【課題】例えばビークル等の搬送車との間で、半導体素子製造用の各種基板を収容する荷の入出庫が連続して行われる保管庫において、簡単な構成で効率良く荷を入出庫する。
【解決手段】保管庫(10)は、筐体(10a)と、筐体内に配置され且つ一の荷(3)及び他の荷(3)を載置可能であり、(i)筐体の外壁に設けられた一の出入口を介して筐体の内側並びに外側間で水平移動可能に構成されており、該外側へ移動された際に搬送車(2)から一の荷が縦載置により載置される入庫ポートとして機能する一の棚部分及び(ii)一の棚部分よりも上方に位置しており、筐体の外壁に設けられた他の出入口を介して、他の荷が搬送車へ横移載により取り出される出庫ポートとして機能する他の棚部分を含む、上下方向に配列された複数の棚部分(15)と、一の棚部分を外側及び内側へ選択的に水平移動させる外内移動手段(21)とを備える。 (もっと読む)


【課題】ロードポートでのポッドのドアを着脱を可能とし、構造をシンプルにする。
【解決手段】収納容器の搬送方法は、複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器を筐体外から搬入搬出部へ搬入し、載置部へ前記収納容器を載置するステップと、開閉装置が該載置部に載置された前記収納容器から前記蓋体を着脱し前記基板出し入れ口を開閉するステップと、昇降装置の作動により前記収納容器が載置された前記載置部を上昇させるステップと、搬送装置の作動により保持機構が前記開閉装置の上方を経由するステップと、前記昇降装置および前記搬送装置の動作により前記収納容器を前記載置部から前記保持部へ受渡すステップと、を備える。 (もっと読む)


【課題】ステージ装置を容易に搬送できる露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置STと、ステージ装置の少なくとも一部を収容する所定空間5を形成する収容体6とを有する。ステージ装置の少なくとも一部は、ステージ装置が収容体の少なくとも一部を有した状態で、所定空間に対して出し入れ自在に設けられている。 (もっと読む)


【課題】
原版ステージ、基板ステージの位置を合わせによる振動が投影光学系へ伝わることを低減し、床の形状の経時的な変化の影響を低減し、安定した露光性能を維持する露光装置を提供する。
【解決手段】
光源からの露光光により照明光学系を介して原版を照明し、前記原版に形成されたパターンを投影光学系を介して基板に投影露光する露光装置であって、前記原版を搭載する原版ステージと、前記照明光学系および前記原版ステージを支持する第1の構造体と、
前記第1の構造体と床との間に前記原版ステージの位置を調整する第1の位置調整機構と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


101 - 120 / 315