【課題】半導体装置のテストのためのテストハンドターで半導体装置の移送速度を増加させることができるバッファトレイのピッチ調節方法を提供する。
【解決手段】半導体装置を収納するための多数対の単位バッファトレイを含むバッファトレイのピッチ調節方法において、単位バッファトレイ対間の第１ピッチは第１駆動部１１０によって調節され、単位バッファトレイの対内で第１単位バッファトレイと第２単位バッファトレイとの間の第２ピッチは第２駆動部１４０によって調節されることができる。半導体装置は、テストハンドラーのテストトレイとカストマートレイとの間でピッチが調節されたバッファトレイを経由して移送される。 （もっと読む）

【課題】微小なチップを正確にピックアップできるようにする。
【解決手段】ウェハ状態のチップを、エジェクタ１５のニードル１７ａによる突き上げと連動して、移載ヘッド７の吸着ノズル８により吸着し、基板に移送搭載する際に、吸着ノズルの位置を示すノズルマーク２０ａが上面に付されたノズル位置検出治具２０を吸着ノズルで吸着してウェハ位置に載置し、移載ヘッド上のニードル先端迄の距離と略同じ距離の位置に設けられた、移載ヘッドの位置を示すヘッド基準マーク２２を、エジェクタと連動して移動する認識カメラ２４により撮像し、移載ヘッドを退避して、ウェハ位置に残されたノズル位置検出治具上のノズルマークを認識カメラにより撮像し、ヘッド基準マークとノズルマークのずれを求め、該ずれを考慮して、チップの中心とノズル中心とニードル中心が一致するように、エジェクタの位置を制御する。 （もっと読む）

【課題】
マスクステージの熱膨張等による変形による基準マークと干渉計用反射鏡の距離のシフトを抑制し、露光工程におけるスループットを低下させずに、原板のパターンを基板上に高い重ね合せ精度で転写する露光装置を提供する。
【解決手段】
マスクステージ上に設けられ、マスクの位置決めのための基準マークが形成される基準部材と、前記マスクステージの駆動方向の位置をレーザを照射することにより検出する干渉計と、前記マスクステージ上に固定され、前記レーザを前記干渉計に反射する干渉計用反射鏡と、を有する露光装置において、前記干渉計の前記レーザの照射方向である計測方向に対して前記基準マークと前記干渉計用反射鏡がほぼ同じ位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡便な構造でロックアンロック機構を備えたフローティング装置およびフローティング装置を用いた調整機構を提供する。
【解決手段】固定部３５に対して可動部３６を対向させ、前記固定部３５と前記可動部３６との間に転動部材３２を介在させて前記可動部３６が前記固定部３５に対して移動できるようにしたカセットフローティングステージ３０において、前記カセットフローティングステージ３０にロックアンロック機構３４を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージに保持された物体に精度良くパターンを形成する。
【解決手段】ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃは、Ｙ軸方向に関して同一ユニット内の他のＹヘッドと位置が異なるＹヘッド６５₁，６４₅を含むので、ノズルユニット３２周囲の空き空間の形状に応じて、ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃに属する各Ｙヘッド６５，６４を、Ｘ軸方向に関しては所望の間隔を維持して、配置することが可能である。ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃに属する各Ｙヘッド６５，６４は、露光時にウエハステージＷＳＴ上のＹスケール３９Ｙ₁，３９Ｙ₂に対向してウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及びθｚ方向の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】低コスト且つコンパクトな駆動機構によってシート拡張を安定して確実に行うことができるシート拡張装置を提供する。
【解決手段】チップピックアップ装置に用いられウェハリング９に保持されたウェハシート１０を拡張するシート拡張装置において、ウェハリング９を保持した保持プレート７を下降させる保持プレート昇降機構を、保持プレート７を昇降させるエアシリンダ１５と、保持プレート７の下降動作における下降速度を規制する速度規制部材として機能するストッパ部材１７と、ストッパ部材１７を数値制御可能なモータによってベース部材に対して下降させてストッパ部材１７のベース部材に対する下降速度を調整する速度調整手段とで構成する。これにより、駆動力の大きいエアシリンダを用いて、シート拡張動作における保持プレート７の下降速度の精細な制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置のコーナー部とトレイとの接触に起因する、半導体装置の接続用端子の破損を防止することができ、また、量産性に優れた半導体集積回路装置用トレイおよび当該トレイを使用した半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の収納部が、トレイ１０の表面側にトレイ表面から突出して形成され、平面視において、半導体装置の１辺の長さより短い辺を有する長方形状の複数のブロック１４を備える。当該複数のブロック１４の半導体装置の設置部側には、半導体装置を設置したときに、半導体装置のコーナー部を除く外縁部を下方から支持する支持面１７と、半導体装置の水平方向の移動を規制する規制面１６とを有するステップ部が形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板側面に異物が付着した場合でも所定の基板処理を行える基板処理装置を提供する。
【解決手段】吸入部３７ａの吸入方向を側面ＰＳの相対移動方向として設けている。吸入ヘッド３７は、側面ＰＳの移動方向前方側に気流が生じるように、吸入部３７ａを当該移動方向の前方側に配置している。側面ＰＳの移動方向、すなわち側面ＰＳに付着した異物の移動方向の前方側で吸入部３７ａが待ち受けるため、より確実に液体等の異物を吸入することができる。 （もっと読む）

【課題】浮上回転によりパーティクルフリーを実現し、その構造や制御の簡略化を図ることができる処理装置を提供すること。
【解決手段】浮上用電磁石アッセンブリＦの磁気吸引力により、被処理体Ｗを支持する回転浮上体３０を浮上し、回転浮上体３０の水平方向位置を位置用電磁石アッセンブリＨの磁気吸引力により制御しつつ、回転浮上体３０を回転電磁石アッセンブリＲの磁気吸引力により回転している。浮上用電磁石アッセンブリＦは、磁気吸引力を垂直方向下方に向けて作用して、処理容器２の内壁に非接触で吊持するように、回転浮上体３０を浮上する。 （もっと読む）

【課題】筐体内外に収納容器の搬入搬出を行うロードポートにおいて、収納容器の蓋体を装着したり外したりするのを可能とし、構造をシンプルにする。
【解決手段】基板処理装置は、複数の基板を収納し基板出し入れ口を蓋体によって塞がれた収納容器２と、収納容器を載置するロードポートと、該ロードポートで基板出し入れ口に対する蓋体の着脱を行う着脱装置と、ロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して対向方向に遠近動作を行う第一載置ユニット１８Ａと、第一載置ユニットとは別体として設けられロードポートで収納容器を載置し着脱装置に対して昇降を行う第二載置ユニット１８Ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】カセットとフリーローラの摩擦接触により発塵した場合でも、この塵埃によるカセット内部やクリーンルームの汚染を防止するようにした無人搬送台車を提供すること。
【解決手段】部品等を収容するカセット１と、カセット１を載置するフリーローラ２と、フリーローラ２とステーション３のフリーローラ２との間でカセット１を移動させるプッシュプル移載装置４とを備えた無人搬送台車において、フリーローラ２の下方に、フリーローラ２の上方から空気を取り込む空気清浄装置５を設ける。 （もっと読む）

【課題】 大気側と成膜チャンバーとの間の搬送の際に一時的に基板が配置されるチャンバーにおいてもトレイを使用することで、形状や大きさの異なる基板についても同じ装置で容易に成膜処理できるようにする。
【解決手段】 成膜チャンバー４とロードロックチャンバー６との間には、未成膜基板用移載機構２４及び成膜済み基板移載機構２５を備えた補助チャンバー７２が設けられている。補助チャンバー７１〜７３及び成膜チャンバー４は、常時真空に維持される。未成膜の基板９は、ロードロック用トレイ１１に載せられてロードロックチャンバー６から補助チャンバー７２に搬送され、ロードロック用トレイ１１から成膜用トレイ１２に移載される。成膜済みの基板９は、成膜用トレイ１２に載せられて成膜チャンバー４から補助チャンバー７２に搬送され、成膜用トレイ１２からロードロック用トレイ１１に移載される。 （もっと読む）

【課題】被搬送物の安定な載置を確保しつつ装置全体の重量を抑制し、室内に気流がある場合にはその気流を妨げにくい。
【解決手段】棚ユニット１２０は、棒形状のフレーム部材１２１〜１２５から構成されている。フレーム部材１２１〜１２４は軌道９２に平行に配置されており、互いに離隔している。フレーム部材１２１〜１２４の間には、棚ユニット１２０を鉛直方向に貫通する貫通領域１２０ａ〜１２０ｃが形成されている。フレーム部材１２１及び１２２の間は被搬送物の幅より小さく離隔しており、フレーム部材１２１及び１２２の上面に被搬送物が載置される。棚ユニット１２０を軌道９２に固定する固定ユニット１１０も、一方向に長尺なフレーム部材１１１〜１１４で構成されており、固定ユニット１１０同士も離隔して配置されている。 （もっと読む）

【課題】露光ステージをステップ移動させながら、近接露光の間隔の設定を行っても、着色画素などに微小な共通欠陥が偏在して発生しないＸＹステップ露光装置を提供すること。
【解決手段】ステップ移動の末期に、減速時の加速度による露光ステージ６０の慣性によって、Ｚステージ７１が台座７２上で露光ステージの進行方向に前傾することを防止するＺアシスト機構１０を、ＺステージとＸＹθ微動ステージとの間に設け、ステップ移動中はＺアシスト機構を作動させＺステージとＸＹθ微動ステージ８０とを固定すること。露光ステージの減速時の速度変化の傾きを４００ｍｍ／ｓｅｃ² 以下にすること。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ等の板状部材を支持する載置手段にアライメント機能を持たせて位置決めを行うことができるシート貼付装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハＷ及びリングフレームＲＦが載置されるテーブル１５を含む載置手段１１と、これら半導体ウエハＷ及びリングフレームＲＦに接着性のシートＳを貼付する貼付手段とを備えたシート貼付装置が構成されている。載置手段１１は、センサと相互に作用してウエハＷの位置決めを行うアライメントユニット２１を備えて構成されている。ウエハＷは、テーブル１５に移載された状態で位置決め処理を受けることとなり、前工程における位置決めが不要となる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造工場で用いられる搬送システムにおいて、棚装置の全ての棚にスライド機構を設けることで起こるコストの上昇と信頼性の低下を回避するとともに、搬送台車の真下より外れて位置する高さの異なる複数の棚に対して搬送台車が直接的に被搬送物の載置及び搬出が可能な懸垂式搬送台車及び搬送システムを提供する。
【解決手段】天井に敷設された軌道上を懸垂状態で走行し、昇降自在な把持機構２２で被搬送物を把持して搬送する懸垂式軌道搬送台車において、その把持機構２２に、水平方向に伸縮自在なスライド機構２３と、前記スライド機構２３の先端に支持され被搬送物を狭持及び開放自在なグリッパ２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】保持治具を含むシステム全体として十分な効果が期待できる基板等の取扱装置及び基板等の取扱方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ１、半導体ウェーハ用の保持治具１０、及び半導体ウェーハ１を着脱自在に吸着した保持治具１０の少なくともいずれかを整列収納する一対の基板収納容器３０・３０Ａと、半導体ウェーハ１、半導体ウェーハ用の保持治具１０、半導体ウェーハ１を吸着した保持治具１０を吸着する吸着プレート４０と、一対の基板収納容器３０・３０Ａと吸着プレート４０の間で半導体ウェーハ１、保持治具１０、あるいは半導体ウェーハ１を着脱自在に吸着した保持治具１０を取り扱う多関節型の搬送ロボット５０と、搬送ロボット５０のアーム５３に装着されて保持治具１０を着脱自在に保持するハンド６０と、半導体ウェーハ用の保持治具１０又は半導体ウェーハ１を着脱自在に吸着した保持治具１０用のアライメント装置７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】自動化の要請や量産化を図ることができ、しかも、高精度な位置決め制御や軽量化を実現できる基板収納容器用の収容槽を提供する。
【解決手段】金属製の底板１と、この底板１上に搭載されて貯えた純水中にオープンカセット２０を浸漬して収容する収容槽１０とを備え、この収容槽１０を、樹脂を含む成形材料により射出成形してその底部にはオープンカセット２０用の配置領域１１を凹み形成する。収容槽１０に半導体ウェーハを手作業により浸漬するのではなく、収容槽１０に複数枚の半導体ウェーハを整列収納したオープンカセット２０をロボットや自動機により浸漬するので、自動化や量産化の要請を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】チャックトップの高さのバラツキを小さくして常に一定のオーバードライブを掛けることができるチャックトップの高さを求める方法及びこの方法を記録したプログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】チャックトップ１１の上面の中心及びその上下左右の５点の理想座標面で座標値ｘ、ｙを指定し、上カメラによって５点に対応するチャックトップ１１の高さを計測する工程と、ＸＹ座標面の所定の象限の上記各指定座標値に対応するチャックトップ１１の中心Ｏ以外の隣り合う２点Ａ、Ｂの計測値がチャックトップ１１の中心Ｏを中心として形成される円周上を変化して得られる点であるとする円錐モデルを設定する工程と、所定の象限内の任意の一点を指定し、この指定座標値、所定の座標変換式及び上記円錐モデルに基づいてチャックトップ１１の任意の点の高さＺを求める工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】製造誤差によりガイド部材の位置がずれても、ガイド部材を再度位置決めし、基板を基板テーブルの所定位置に位置決めすることができるガイド部材の位置決め方法、及び基板の位置決め方法を得る。
【解決手段】基板テーブル２４の円孔４６へ脚部５４を嵌合させ、位置決め冶具５０の基本形状部５２を基板テーブル２４に位置決めする。そして、レール部材３４によって移動可能に保持された第１ガイド３０を基本形状部５２に当てて停止させ、第１ガイドピン３０Ａ部の位置決め位置として設定する。製造誤差により第１ガイドピン３０Ａ，及び第２ガイドピンの位置決め位置がずれていても、位置決め冶具５０によって第１ガイドピン３０Ａ，及び第２ガイドピンの位置決め位置を正規の位置へ設定することができ、これにより、基板を基板テーブル２４の所定位置に位置決めすることができる。 （もっと読む）