【課題】板状の被搬送物を浮上搬送し所定位置に停止させる場合、特に被搬送物に対しその表裏面に制動手段が接することなく、従って、表裏面に損傷等の発生を見ることなく、かつ、被搬送物と制動手段との接触面積を少なくして制止することが出来る制動装置を得る。
【解決手段】半導体ウエハー或いは液晶ガラス等の板状体よりなる被搬送物を浮上搬送する装置であって、被搬送物下位の搬送路に被搬送物支持手段として、前記搬送路に清浄空気を吹き出すファンフィルターユニットを設け、かつ、搬送路の両側縁それぞれに制動ローラを被搬送物側端縁と対向するよう直立して設け、対向する搬送路側縁の制動ローラ同志をその対向間隔を変更し得るよう、ローラ支持体に支持した （もっと読む）

【構成】 処理装置４の物品搬出入用のシャッタ８の周囲３方に、出退自在な庇２２を設ける。無人搬送車が到着すると、庇２２を前進させて処理装置４と無人搬送車の間の隙間を塞ぎ、処理装置４や無人搬送車からの高クリーン度の空気で物品の搬出入経路を充たす。搬出入後のシャッタ８等を閉じると、庇２２を後退させて無人搬送車の走行を容易にする。
【効果】 無人搬送車と処理装置との隙間から、低クリーン度の空気が物品側に侵入しない。 （もっと読む）

【課題】低温検査済みの半導体ウエハを短時間で結露しない温度まで復帰させることができ、低温検査時間が短縮されても次の半導体ウエハを供給して低温検査を円滑に実行することができる半導体ウエハの搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエハ搬送装置１７は、搬送アーム１７Ａが出入する出入口１７Ｆを有するアーム収納室１７Ｅを備え、アーム収納室１７Ｅに乾燥空気を異なる位置から供給するガス噴出口２３Ａ及び第３の配管２３Ｇを有するガス供給手段２３を設け、ガス噴出口２３Ａから搬送アーム１７Ａによってアーム収納室１７Ｅ内に搬入される半導体ウエハＷに向けて乾燥空気を供給するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】設備の規模を抑えつつ基板等が載置された棚間に均一に気流を誘導することが可能である。
【解決手段】ストッカ１００内の空間は側板１０４、１０５、天井板１０３及び床２０２によって画定されている。ストッカ１００内には、基板の容器１２０が載置される複数の棚１１１を有する棚装置１１０が設置されている。側板１０４には、棚装置１１０に対向するように送風装置１０２が固定されている。側板１０４と棚装置１１０との間には気流を妨げる部材等が配置されておらず、送風装置１０２から棚１１１同士に挟まれた空間の開口１１０ａまで直線経路に沿った気体の流路が確保されている。 （もっと読む）

【課題】所謂ミニエンバイロメント方式を採用する際に、清浄度の低い外部環境のガスが局所クリーン領域に取り込まれることを抑制することができる局所クリーン搬送装置における物品受渡し時の清浄度保持装置を提供する。
【解決手段】クリーンルーム１１内の複数箇所に設けられ、清浄度がクリーンルーム１１内の清浄度より高い作業領域１２の物品受渡し部１３間における物品の搬送を手動台車１４で搬送されるポッド１５に収容して行う。物品受渡し部１３内はクリーンルーム１１内の圧力より高い圧力（陽圧）となっている。ポッド１５が移動部材２２上に載置され、移動部材２２と共にカセット１７が下降する途中で開口充填部２２ｂと受渡し口部２０ａとの隙間から物品受渡し部１３内のガスが排出され、クリーンルーム１１内のガスが物品受渡し部１３内に入り込むのが抑制される。 （もっと読む）

【課題】コストを低減し、省スペースを実現する。
【解決手段】ストック１は、収納用フープ２０と複数のパージユニット５０と測定用フープ３０とスタッカクレーン６０とを備えている。収納用フープ２０は、内部に半導体ウェハを収納している。測定用フープ３０は、内部に流量計を備えている。パージユニット５０は、収納用フープ２０が載置される複数のパージ台からなるパージ棚５１を備えており、パージ台上に載置された収納用フープ２０内に窒素ガスを供給する。スタッカクレーン６０は、パージ台へ収納用コンテナ２０を搬送するとともに、複数のパージ台同士の間で測定用フープ３０を搬送する。 （もっと読む）

【課題】 マスクブランクス又はフォトマスク等の基板を収納するものであって、収納した基板に塵埃が付着するのを防止できる基板収納ケースを提供すること。
【解決手段】 基板収納ケース１が、ケース本体２とケース蓋体３とからなり、ケース本体２の開口縁に、ケース蓋体３と嵌合する薄肉案内縁２２が形成されている。薄肉案内縁２２に負圧緩和手段１０が設けられ、ケース蓋体３の開口部内側に、ケース本体２と異なる硬度の材質により形成された塵埃抑止手段１１を設けられている。負圧緩和手段１０は通気口である。塵埃抑止手段１１はケース本体２と異なる硬度の材質により形成された硬質テープである。 （もっと読む）

【課題】締め付けトルクの管理の必要性が無く、組立作業の簡素化を図った逆止弁及び逆止弁を備えた基板収納容器を提供すること。
【解決手段】逆止弁８は、後端側に装着されハウジング１１に対して相対回転可能とされると共に、ハウジング１１を後方から容器本体２に固定する固定リング１９を備えている。この固定リング１９を後方から押し込むことで、ハウジング１１を容易に固定することができる。このような固定リング１９を備えることで、従前のようなねじによる結合部分を無くす。これにより、締め付けトルクの管理を不要とし、組立作業の簡素化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】真空処理室で処理を施した基板を大気搬送室に搬送するにあたって、大気搬送室側の装置に対する悪影響を回避あるいは軽減することができる技術を提供すること。
【解決手段】本発明は、ロードロック室に大気雰囲気にて後処理を行う後処理室を隣接して設け、大気搬送室に基板を搬送する前に、後処理室にて基板に生成された生成物を除去する。また前記後処理室に対する基板の搬入及び搬出は、前記大気搬送室の搬送手段により行う。前記後処理室と大気搬送室との間は、仕切り壁で仕切られており、この仕切り壁には、前記搬送手段及び基板の通過に必要なスリット状の開口部が形成され、この開口部を介して前記搬送手段により、基板の搬入及び搬出を行う。 （もっと読む）

【課題】基板に対して処理を行う処理容器と大気搬送室と大気搬送室内の搬送手段による基板の搬送経路上に設置された機能モジュールとを備えた基板処理装置において、処理後の基板が大気に接することにより生じる微粒子や腐食性のガスによって機能モジュールが悪影響を受けないようにすることが可能な基板処理装置等を提供する。
【解決手段】ウエハにエッチング等の処理を行う基板処理装置は、例えばオリエンタ４等の機能モジュールを備えている。処理を行うことによってウエハには、大気と接触して腐食性のガス等を生成する物質が付着している。一方、この機能モジュールには第２の気流形成手段（ＦＦＵ６０）が付設されており、クリーンルーム内の大気を取り込んで当該機能モジュールからウエハの搬送手段を備えた大気搬送室１４へと向かう清浄空気の気流を形成している。 （もっと読む）

【課題】被加工物に貼着された保護テープに帯電されている静電気を除去する機能を備えたプラズマエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング室２０ａに配設され被加工物を保持するチャックテーブル６１は内部の電極６２、６３に電圧を印加することによりクーロン力を生成する静電チャックテーブル６からなっている。チャックテーブル６１には上面に開口する複数の細孔６１ｂと連通路が形成されており、連通路に接続されチャックテーブル６１の上面に負圧を作用せしめる吸引手段７と、連通路に接続されチャックテーブル６１の上面に剥離ガスを供給せしめる剥離ガス供給手段８と、吸引手段７と剥離ガス供給手段８の連通路への連通を選択的に切り換える切り換え手段６８と、エッチング室２０ａに大気を導入する大気導入手段１６とを具備している。 （もっと読む）

【課題】装置のイニシャルコスト、ランニングコストを低くでき、広い設置スペースを必要とせず、短い処理時間で銅又は銅合金による回路配線を形成でき、且つクロスコンタミネーションの原因となるエッジ・ベベル部に銅膜が残ることのない半導体基板処理装置を提供する。
【解決手段】回転軸線を中心に回転する回転部材と、回転部材の前記回転軸線を中心とした同一円周方向に沿って配置され該回転部材の回転に伴って公転する保持部材とを有し、保持部材は、該保持部材の軸心を中心に回動するように構成された回転保持装置で保持した半導体基板を洗浄する洗浄ユニットを有する。 （もっと読む）

【課題】収納部に収納されている物品の清浄度を高く保つ物品収納設備の提供。
【解決手段】収納部２を縦横に並べて複数備えた物品収納棚３と、物品収納棚３の前方の移動空間４を移動して収納部２に対する物品の出し入れを行う物品搬送装置５と、浄化空気を物品収納棚３の後部側から収納部２を通過させて移動空間４を上方側から下方側に流動させるダウンフロー式の浄化空気通風手段６と、物品搬送装置５の作動を制御する制御手段とが設けられている物品収納設備において、収納部２が、物品１２として、物品１２を保持している保持状態の物品保持体１３Ａ、及び、物品１２を保持していない非保持状態の物品保持体１３Ｂを収納自在に構成され、制御手段が、保持状態の物品保持体１３Ａを非保持状態の物品保持体１３Ｂよりも上方側に収納させる形態で物品保持体１３を収納部２に収納すべく、物品搬送装置５の作動を制御するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ収納容器内の空気を、清浄化する半導体ウエハ収納容器に使用するシャッター付きブレスフィルター装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ収納容器２の底板３に設置されたブレスフィルター部５は、上端開口部にフィルター１４を備え、底壁１１に通気開口１２を設け、且つ前記通気開口１２上に、該通気開口１２よりは径大なマグネット付きシャッター４が上下動移動可能に設置されると共に、前記通気開口１２内に磁性体吸引板２５を設置して形成され、更に、パージ装置６に設置されるマグネット付きノズル部７は、通気空間２６を備えた筐体２７に、前記ブレスフィルター部５のマグネット付きシャッター４と極性を異にするシャッター開放用マグネット３３を取付けて形成される。 （もっと読む）

【課題】処理モジュールに対して基板搬送手段により基板の受け渡しを行なう基板処理装置において、基板へのパーティクルの付着を抑えること。
【解決手段】メインアームＡ３の最上段の保持アーム５１の上に第１の吸引孔６２が形成された整流板６１を設けると共に、この整流板６１の上に第１の通気空間６３を介して案内板６４を設け、前記第１の通気空間６３において、保持アーム５１の先端側のガスノズル７から、保持アーム５１の基端側の第１の吸引口６６に気体を通流させることにより、エジェクタ効果で整流板６１の下方側から第１の吸引孔６２及び第１の通気空間６３を介して前記第１の吸引口６６に吸引される気流を形成する。保持アーム５１に保持されたウエハＷの表面では上方側に流れる気流が発生し、搬送領域Ｒ１内のパーティクルが第１の通気空間６３内に引き込まれ、このため搬送中のウエハＷへのパーティクルの付着が防止される。 （もっと読む）

【課題】無人搬送車の高速化に対応し、走行中の移載口の開口部から侵入する粉塵対策を図り、且つ、収納スペースの小型化と、移載部開口時のデッドスペースの発生を無くした、物品受渡口（移載口）用シャッターを具備する、無人搬送車の提供を課題とする。
【解決手段】ステーション４５との間で物品５５の移載を行う搬送車（無人搬送車１）において、物品５５の通過を許容する移載口が形成された物品収納室３と、複数の板部材３１・３２を屈曲自在に連結して基端側の板部材３２を回動させることにより前記移載口を開閉するシャッター７と、前記シャッター７の開閉時の移動経路がステーション４５へ突出しないように前記複数の板部材３１・３２のうち、先端側の板部材３１の先端部を案内するガイド部４０と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】試料搬送機構内のクリーン度悪化の兆候を的確に検知し、試料を異物付着から保護すること。
【解決手段】 半導体用走査電子顕微鏡用の試料搬送システムＳは、試料室１、試料交換室２、ロードポート１１、試料搬送経路、試料１３の搬送手段、搬送手段を制御する制御装置を備えている。また、試料搬送経路は、除塵用のファンフィルター機構を有し、防塵カバー１４に覆われている。そして、制御装置は、ファンフィルター機構の動作状態、防塵カバー１４の内外の気圧差、防塵カバー１４の内部の気流、および、ファンフィルター機構の寿命、のうち少なくとも１つに基いて、防塵カバー１４の内部のクリーン度が悪化したと判断する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ収納容器の蓋を開けることなく、該半導体ウエハ収納容器内のケミカルガスを除去すると共に、酸の発生を阻止する。
【解決手段】半導体ウエハ９を収納した半導体ウエハ収納容器１の底板５に複数個設けられた呼吸口８のうち、供給側の呼吸口８ａと排出側の呼吸口８ｂに連結固定するドライエアまたは窒素ガス充填装置Ａにおいて、前記各呼吸口８ａ・８ｂは、ＰＴＦＥフィルター７を備えて形成され、且つ前記充填装置Ａは、半導体ウエハ収納容器１内にドライエアまたは窒素ガスを供給するドライエア・窒素ガス供給部１１と、半導体ウエハ収納容器１内に供給されたドライエアまたは窒素ガスにより、半導体ウエハ収納容器１内のケミカルガスを除去すると共に、水分を除去により半導体ウエハ表面の酸の発生を阻止した後のドライエアまたは窒素ガスを排出する使用済ドライエア・窒素ガス排出部１２とにより構成される。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUP内部の酸化性ガスの分圧が時間の経過と共に増加することを防止する。
【解決手段】FIMS内部における開口部１０の上部にカーテンノズルを配置して、該開口部を閉鎖する不活性ガスからなるガスカーテンを形成する。カーテンノズルの少なくとも一部を覆うようにカバーが設けられており、カーテンノズルのノズル開口の周囲のガスがカーテンノズルから放出される不活性ガスのガスカーテンに巻き込まれることが防止される。 （もっと読む）

【課題】被処理体の搬送通路を気体に関して区画する機能および被処理体に付着している異物を取り除く機能を向上させた帯状気流形成装置を提供する。
【解決手段】気流吹出し部４８の噴出口５２より帯状にダウンフローで吹き下ろされた乾燥エアの気流Ｊは、真下の気流吸込み部５０より与えられるバキューム力で垂直下方に引かれ、途中で乱流を生じることなく底面の吸込み口６４まで帯状の層流を保持することができる。さらに、気流吸込み部５０のバキューム力を大きめに調整することで、適度に周囲の気体も、つまりローダ・モジュールＬＭ側の空気や、開状態のドアバルブＤＶの通路を介してロードロック室１４側からの気体も、吸込み口６４に引き込んで排気ライン６８へ排出することができる。 （もっと読む）