【課題】保管倉庫室での塵埃の巻き上がりを防止し、かつ保管棚の全域に亘って清浄空気の流れを発生させて保管棚に収納されている液晶基板の塵埃による汚染を防止することができる保管倉庫室内の空気清浄装置を提供すること。
【解決手段】互いに隣接する清浄空気吹出装置５の拡散ケーシング５２を、内部を流れる清浄空気が整流拡散して吹き出されるように形成するとともに、清浄空気の流れのないデッドスペースが生じないように隣接して配設する。 （もっと読む）

【課題】スループット良く且つ高精度で試料の欠陥の検出が可能な基板検査装置を提供する。
【解決手段】基板検査装置１は、真空状態のワーキングチャンバ３０と、Ｌ_aＢ_６電子源を備えた電子光学装置７０と、ワーキングチャンバへウェーハを搬出入するローダハウジング４０と、ワーキングチャンバに接続され、内部が雰囲気制御されているミニエンバイロメント装置２０と、を備える。ローダハウジング４０は、ミニエンバイロメント装置２０に接続する第１のローディングチャンバと、ワーキングチャンバに接続する第２のローディングチャンバと、第１及び第２のローディングチャンバの間の連通を選択的に阻止する第１のシャッタ装置２７と、第２のローディングチャンバとワーキングチャンバとの間の連通を選択的に阻止する第２のシャッタ装置４５と、を備え、第１及び第２のローディングチャンバには各々真空排気配管と不活性ガス用のベント配管とが接続される。 （もっと読む）

【課題】従来と比較して初期投資額を抑制できる半導体装置の製造設備を提供する。
【解決手段】クリーンルームであり、半導体装置の製造装置が配置された第１のフロア１と、第１のフロア１の床から第１のフロア１の内部の空気を排気させ、該排気した空気を清浄して第１のフロア１の天井から該第１のフロア１に供給する空調手段６３と、第１のフロア１より下のフロアである第２のフロア３と、第２のフロア３に配置されたレチクル保管庫４と、レチクル保管庫４に設けられ、第１のフロア１の床から排気された空気をレチクル保管庫４の内部に吸入する吸入口４１とを具備する。 （もっと読む）

【課題】収納空間に送り込まれるエアから化学汚染物質も適切に除去できるようにすると共に、収納空間から送り出されるエアの一部を効率的に循環させて化学汚染物質および粒子汚染物質の除去フィルタにかかる負担を軽減させる。
【解決手段】吸気部１と排気部２との間の流路中に、換気手段３により常時エアが通り抜けるようにされた収納空間４を有すると共に、この収納空間４の二次側４ｂが吸気部１と排気部２とに共に連通した混合室５に連通され、この混合室５と収納空間４の一次側４ａとの間に化学汚染物質の除去フィルタ６及び粒子汚染物質の除去フィルタ７が介装されている。 （もっと読む）

【課題】高温環境の下で処理されるガラス基板等のワークを搬送する際、ハンドを効率良く均一に冷却することができるとともに、従来に比較して軽量な構造のハンドおよびこれを用いたワーク搬送ロボットを提供する。
【解決手段】外部と隔絶され中空１１ａを有する形状に形成されてワークを載置する載置部１１と、載置部１１の一端側の中空１１ａに冷却媒体を導入する媒体導入管１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄと、載置部１１の他端側の中空１１ａから冷却媒体を排出する媒体排出口１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 半導体や液晶パネルの製造工程における基板搬送を簡易な構造で、迅速かつ高精度で行えるようにする。
【解決手段】 第１スライダ２０と第２スライダ３０とが同期をとって伸長するリニアスライダ１０が収容される際、第１スライダ１０はベースハウジング１１内に完全に収容され、第２スライダ３０は収容状態の第１スライダ２０上まで縮退する。一方、第１スライダ１０は、ベースハウジング１１内に設けられた１対のプーリ間に掛け渡されたベルトＢの一部に固定された保持プレート２２によって、ベルトＢの走行方向に移動して伸縮するとともに、第２スライダ３０は、両端部がベースハウジング１１内の保持プレート２２に軸支された１対の従動プーリ２３，２４ととの間に掛け渡されたワイヤ１８の一部に固定された部位を介して第１スライダ２０の伸縮と同期してスライドする。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置において、汚染された移載室の雰囲気を待機室内に取り込むことを回避し、且つ、タクト延伸とならずに、清浄な雰囲気（大気）をロードロック室内に取り込むことを可能にする。
【解決手段】 基板処理装置における基板を処理する処理室２０１と、該処理室の下方に配置される待機室（ロードロック室１４１）と、該待機室にゲートバルブ１４３を介して隣接し前記基板が搬送される移載室１２４と、前記待機室（ロードロック室１４１）に前記基板処理装置外から大気１６を導入する導入路１５と、該導入路内に少なくとも有機系ガス、および／ないし酸性ガス、および／ないしアルカリ性ガス除去フィルタ（ケミカルフィルタ２０）と除塵フィルタ（ガスフィルタ３０）とを備える構成とする。 （もっと読む）

略平坦な物体を、複数の支持要素を用いて、搬送及び正確に操作するシステム及び方法。該システムには、１つ又は複数の駆動ユニットに配列し、各駆動ユニットには少なくとも１つの真空予圧駆動ホイールを含む、複数の該真空予圧ホイールと、真空予圧駆動ホイールの各々に隣接する１つ又は複数のカウンタプレートに配置して、導入した押下力を上記物体に付与する１つ又は複数の真空予圧ポートとを含む。各駆動ユニットの真空ポートを主真空管に、該主真空管に真空源に接続する制御可能な弁を備えて、流体工学的に接続する。該主真空管を真空源に接続すると、上記物体と上記真空予圧駆動ホイールとの間の垂直力を増大させ、それに従い水平方向駆動力を増大させる。 （もっと読む）

【課題】化学吸着剤４１を清浄に保った状態でケミカルフィルター２６を組み立てる。
【解決手段】本体部３３の下側を構成する受け皿部３７と、本体部３３の上側を構成するキャップ３８と、受け皿部３７の底部に装着される下側フィルター部３９と、上記キャップ３８の天井部に装着される上側フィルター部４０と、上記受け皿部３７及びキャップ３８を合わせてできる空間に充填される化学吸着剤４１と、上記受け皿部３７及びキャップ３８の合わせ目を覆って取り付けられるリング枠４２とを備え、上記下側フィルター部３９と上記受け皿部３７との間の全周、上記上側フィルター部４０と上記キャップ３８との間の全周、上記受け皿部３７と上記リング枠４２との間の全周及び上記キャップ３８と上記リング枠４２との間の全周を超音波接合した。 （もっと読む）

【課題】 消費電力の増加を抑制できるクリーンルーム内の装置のメインテナンス方法を提供すること。
【解決手段】 内部を一定以上の清浄度に保つことができるクリーンルーム１内の装置２のメインテナンス方法であって、クリーンルーム１内の清浄度に関し、装置２を含む空間を他の空間よりも清浄度を高くし、かつ、前記他の空間の清浄度を、装置２の稼働時におけるクリーンルーム１内の清浄度よりも低くする工程と、装置２をメインテナンスする工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】搬送物の搬送中のみならず、受け渡しに際しても、搬送物の周囲を清浄な状態に保ち、搬送物の汚染を防止することができる無人搬送車を提供する。
【解決手段】走行機構を有する架台部１０と、架台部上に回動可能に設置され、搬送物を収容する移載部２０とを備え、搬送物の受け渡しに際して、移載部が回動される構造の無人搬送車１である。移載部２０は、搬送物を外部から遮蔽するためのカバー２２と、カバー内に清浄な空気を供給するためのファンフィルターユニット２５とを備える。搬送物の受け渡しの際には、ファンフィルターユニットから搬送物に清浄な空気が吹き付けられる。 （もっと読む）

【課題】エア浮上によって板ガラスの荷重を最小化させた状態で、板ガラスをその場で回転させたり所望の方向に移送させたりすることができる板ガラスの方向転換装置を提供する。
【解決手段】板ガラス８をエア浮上させるためにエアを吐出するエア吐出板１１を有するエアチャンバと、該エアチャンバにエアを供給するエア吐出ファンが設けられたエア吐出機と、エア吐出機の外周面の隣接部に設けられ、板ガラスを所定方向に移送させる複数のローラー２２が備えられたローラー移送機と、前記エア吐出機の中央部に配置され、ローラー移送機上に置かれている板ガラスをその場で回転させるターニング機とを含んで構成される。板ガラスとローラー２２間の接触面積を最小化させるので板ガラスの表面損傷発生率を著しく下げられることは勿論、板ガラスの大きさにかかわらず全般的に方向転換装置の構造が簡素化され、回転装備の動力と構造を小型化できるなどの効果を有する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ用途で使用する層流ガス・カーテンを提供する。
【解決手段】ガス・カーテン・システムは、流体パージ用ノズル１３０を含む。ノズル１３０は、第１のハウジング２００と、第２のハウジング２０４と、流れ分配板２０６と、複数の流れ調整チャネルとを含む。第１のハウジング２００は、ガスを受け入れ第１の容積を密閉する注入口を有する。第２のハウジング２０４は、第２の容積を密閉し、第１のハウジング２００に流体結合される。流れ分配板２０６は、第１の容積から第２の容積までガスの流れを制御する。第２の容積の一部の範囲内に複数の流れ調整チャネルが配置され、ガス・カーテンを形成するガスを放出する。流れ調整チャネルの長さが、非軸のガス速度流れベクトルを減衰させるために選択される。ノズル１３０は、パージ・ガスがノズル・チャネルから放出された後で発生するガス混合を制限し、ガス容積のパージを開始する。 （もっと読む）

【課題】
循環流を効果的に活用し、フィルタ等の負荷を低減しつつ、装置内の清浄度を高清浄に保つことができるミニエンバイロメント装置を提供する。
【解決手段】
上記課題を達成するためのミニエンバイロメント装置は、中間室２４内の清浄度をセンシングするセンサ手段２０と、循環経路３６を介して再度清浄化する気体の量を調整する遮蔽板３４と、外部気体を清浄化して中間室２４内に取り込んだ際に予測される清浄度を閾値として定め、この閾値と前記センサ手段２０によるセンシング値とを比較し、センシング値が前記閾値を越えた場合に循環流の流量を低下させるように前記遮蔽板３４を制御する制御手段３８と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ワークの着脱時間を短縮することが可能なワーク保持方法および保持装置を提供すること。
【解決手段】 チャック１０のエゼクタ部１３ノズル１４内には常時加圧空気が流通しており、吸着室１８内はワークをチャックする前から負圧状態となっている。また、ワークをチャックした後には圧力センサ１６の検出する圧力値に基づいてチャック完了を検出する。また、ワークをアンチャックするときには、開閉弁２３が排出口２２を閉じて排気室３１内の圧力を上昇させ、エゼクタ部１３から吸着室１８内に加圧空気を導入する。 （もっと読む）

【課題】
カメラ１台でウェーハの回転位置を検出することを可能にする。
【解決手段】
ステージ５と、ウェーハのノッチ部を含むウェーハ外周輪郭像を撮像する１台の撮像装置７と、垂直基準線１３と水平基準線１４とを有する固定された第一視野１２を設定する第一視野設定部９ａと、第一視野よりも狭くかつウェーハの外周のエッジ位置を検出するための垂直基準線に平行な２本のエッジ位置検出線１７ａ、１７ｂを有する可動な第二視野１６を設定する第二視野設定部９ｂと、ウェーハ外周輪郭画像からノッチ代表位置とのずれ量を求めるノッチ代表位置検出部９ｄと、ずれ量に基づいて、第二視野を移動させる第二視野移動部９ｃと、エッジ位置１８ａ、１８ｂを検出するエッジ位置検出部９ｅと、エッジ位置と水平基準線との距離を求め、この距離に基づいて回転量を演算するウェーハ回転量演算部９ｆと、を備えている。 （もっと読む）

本発明は標準化された機械式インターフェース（ＳＭＩＦ）レチクルポッドを提供し、それはレチクルを支持するための制御環境を提供するように形成されており、制御環境は混入物を原因とする結晶生成がほぼ起こらないように維持されている。従って、粒状物を除去し気体の混入物を吸着できるフィルタ部材を有する層状フィルタが提供される。フィルタは表面領域を備えたほぼ平らな形状の内向面を有しており、表面領域はレチクル面のほぼ半分以上の面積である。内向面はレチクルのパターン化表面に隣接して配置されており、レチクルのパターン化表面の面積の大部分に相当する面積を有する。また、ＳＭＥＦポッドは制御環境内に非常に乾燥した気体を注入することによってフィルタを再生すると共に制御環境の混入物を吹き流すように形成されたパージシステムを備える。
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【課題】低コスト、小フットプリント、小フェースプリント、及び高スループットの一つまたはそれ以上を実現するウエハ搬送装置を提供する。
【解決手段】（A）ウエハ収納部とロードロックチャンバーに接続し内部に搬送ロボットを備え、該ウエハ収納部と該ロードロックチャンバー間でエアー流動下でウエハの授受を行うための、ミニエンバイロメントと、
（B）該ロードロックチャンバーの接続部の近傍で該ミニエンバイロメントの外部から該ミニエンバイロメントに開口、接続し、ウエハを一時載置して、該ミニエンバイロメントからのエアーを取り込んでウエハを冷却することができるクーリングステージと、を備えたウエハ搬送装置。 （もっと読む）

【課題】搬送機構によるパーティクルの飛散が抑えられる半導体製造装置を提供すること。
【課題手段】
横方向に伸びる搬送用通路に沿って移動部が移動する搬送機構と、前記搬送用通路に沿って配置され搬送機構との間で基板の受け渡しが行われると共に複数の処理ユニットと、処理ユニットの下部に設けられ搬送用通路側に排気用の開口部を持つ排気室と、排気室に接続される吸引排気路と、前記排気室内または前記開口部に臨む位置にて、搬送用通路に沿って伸びるように設けられ、前記移動部をガイドするガイド部材とを備えるように半導体製造装置を構成する。当該排気室内を吸引排気することで搬送用通路から排気室へと向かう吸引気流が生じるため、ガイド部材を移動部が移動してパーティクルが発生した場合でも、当該パーティクルは気流に乗り排気室内へ流入して搬送用通路から除去されるのでパーティクルの飛散を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】
搬送中における試料に付着する異物の量を抑制することのできる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】
ガス供給手段及びガス排気手段を備えた真空処理室と、該真空処理室内で試料を載置して保持する試料載置電極と、ガス供給手段及びガス排気手段を備えた搬送室と、前記真空処理室と搬送室間を連絡する通路を開閉するゲートバルブと、搬送室内に配置した搬送アーム９及び該搬送アーム先端に配置した試料保持部９ａを備え、試料を該保持部に保持して前記搬送室から真空処理室に搬送し、処理済みの試料を真空処理室から搬送室に搬送する搬送装置と、搬送中の試料の搬送位置に連動して試料にガスを吹き付けて浮遊する塵埃の試料表面への付着を防止するガス吹きつけ手段２５ｃを備えた。 （もっと読む）