【課題】 過電流検出による保護と、温度検出による保護とを、好適に行うことが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】 半導体基板を有する半導体装置であって、半導体基板が、メイン素子領域と、メイン素子領域よりも小さい電流が流れるサブ素子領域を有しており、サブ素子領域が、半導体基板を平面視したときに半導体基板の中心と重なる位置に形成されており、半導体基板上であって、半導体基板を平面視したときにサブ素子領域と重なる位置に、温度検出素子が形成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の出力トランジスタが並列接続された構成を備え、出力トランジスタを含む各電流経路間で分担電流を高精度に均一に揃えることができる半導体装置、および当該半導体装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】互いに並列に接続された複数の出力トランジスタを備える半導体装置であって、出力トランジスタごとに設けられ第１の制御信号を供給する駆動回路と、第１の制御信号に含める出力トランジスタのコンダクタンスの情報を有するデータを記憶するメモリと、メモリにデータを入力するための第１の外部入力端子と、各駆動回路に出力トランジスタを１つずつ入れ替わり導通させる第２の制御信号を入力するための第２の外部入力端子とを備え、各駆動回路は、メモリに記憶されている駆動対象の出力トランジスタについてのデータを読み出して、コンダクタンスの情報を含む第１の制御信号を生成する。 （もっと読む）

【課題】過熱検出回路の検出温度がばらつくことを抑制する。
【解決手段】コンパレータ１７０には、第１抵抗１１０と第１定電流源１２０の間の電圧Ａと、ダイオード１３０と第２定電流源１４０の間の電圧Ｂが入力される。第１リーク電流源１５０は、ドレインが第１抵抗１１０と第１定電流源１２０の間に接続されており、ソース及びゲート電極が第１定電流源１２０と第２配線１０４の間に接続されている。第２リーク電流源１６０は、ドレインが第１配線１０２とダイオード１３０の間に接続されており、ソース及びゲート電極がダイオード１３０と第２定電流源１４０の間に接続されている。 （もっと読む）

【課題】抵抗体とヒューズ素子が並列に接続された半導体装置において、ヒューズ素子切断時に抵抗体への損傷がなく、抵抗体とヒューズ素子とを積層すること。
【解決手段】半導体基板上に第１の絶縁膜を介して形成された抵抗体を設け、抵抗体の上に第２の絶縁膜を介して形成された遮光層を設け、遮光層の上に第３の絶縁膜を介して形成されたヒューズ素子のヒューズ部を有し、抵抗体と遮光層とヒューズ部を重畳した半導体装置とする。 （もっと読む）

【課題】静電気放電が印加されたときの熱破壊を抑制すること。
【解決手段】半導体装置１の半導体活性層１６には、ｎ型領域２３とｐ型領域２６とｎ型の埋込み領域３０が形成されている。ｎ型領域２３は、カソード電極Ｋに電気的に接続している。ｐ型領域２６は、アノード電極Ａに電気的に接続している。埋込み領域３０は、半導体活性層１６のうちのｐ型領域２６の裏面側の少なくも一部を含むように形成されており、ｐ型領域２６の裏面に接触しているとともに、不純物濃度が半導体活性層１６の不純物濃度よりも濃い。 （もっと読む）

【課題】 消費電流を抑えるため間欠動作するようにした温度検出用半導体集積回路において、外部端子を増加させることなく回路の評価および検査が行えるようにする。
【解決手段】 発振回路（１６）を備え、消費電流を抑えるため間欠動作する温度検出用半導体集積回路において、温度検出回路（１１）の出力と基準電圧とを比較する電圧比較回路（１３）の出力に対応した信号を出力する外部端子（ＤＥＴ）と、該外部端子に負電位が印加されたことを検出した場合に、温度検出回路と基準電圧回路と電圧比較回路を活性化させる信号を生成する制御回路（１７）と、制御回路が活性化信号を出力しかつ温度検出回路の出力が基準電圧を超えたと電圧比較回路（１３）が判定した場合に電流を流す電流回路（ＳＷ１，Ｒ０，ＳＷ２）とを設けるようにした。 （もっと読む）

【課題】チップ内の温度差が小さい高信頼性の半導体集積回路を提供できるようにする。
【解決手段】熱解析部１１は、設計する半導体集積回路のデータから熱解析を行い、温度分布を算出し、ベクトル生成部１２は、算出された温度分布の温度勾配に応じたベクトルを生成し、ダミーパターン生成部１３は、生成されたベクトルにしたがってダミーパターンを生成し、半導体集積回路のレイアウトデータに追加する。このようなダミーパターンを生成することで、温度分布が平均化され、チップ内の温度差が小さい高信頼性の半導体集積回路を提供できるようになる。 （もっと読む）

【課題】温度が高くなりすぎたりあるいは低くなりすぎたりする発振状態となって、半導体集積回路が誤動作、動作停止等することを防止する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体集積回路１は、回路部の温度又は動作速度に基づいて、温度が安定するように、回路部の制御パラメータを調整して、フィードバック制御を実行する制御部と、温度の時系列データである第１の履歴データと、制御パラメータの時系列データである第２の履歴データとを含む履歴データを格納する履歴レジスタ１７と、履歴データからフィードバック制御の有効性を判定する有効性判定部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の放熱効率を向上させる。
【解決手段】ぺルチェ効果によって吸熱する吸熱部（３２、３５、４１）（３７、４０、４３）と、ぺルチェ効果によって放熱する放熱部（３１、３５、４１）（３６、４０、４３）の両方が単一の半導体チップに集積化されている。このような構成によれば、半導体チップにおいて熱を拡散させ、全体としての放熱抵抗を低下させることができる。これは、放熱効率の向上に寄与する。 （もっと読む）

【課題】出力目標値の設定に別途の基準電圧源を必要とせず、かつ、出力電圧範囲の拡大と回路規模の縮小を実現することのできるレギュレータ回路を提供する
【解決手段】電圧検出回路３００は、監視対象電圧Ｖｏｕｔを分圧して第１電圧Ｖ３１と第２電圧Ｖ３２を生成する分圧回路（３０３、３０７〜３１１）と、エミッタ面積の異なるトランジスタ対（３０５及び３０６）に入力される第１電圧Ｖ３１と第２電圧Ｖ３２を比較して電圧検出信号Ｓ２を生成する比較回路（３０１、３０２、３０４〜３０６、３１２、３１３）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板に半導体素子と内部回路とが設けられた半導体装置において、半導体素子及び内部回路の各温度を検出するセンサを効率的に配置してレイアウトの自由度を高めることができ、且つ半導体素子及び内部回路の各温度をより正確に検出し得る構成を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体基板５の一方面側に、スイッチング素子２０と、このスイッチング素子２０の配置領域から距離を隔てて内部回路３０が配置されている。また、スイッチング素子２０に隣接して、周囲に第１絶縁膜２７が形成された第１温度検出素子２４が設けられている。さらに、内部回路３０よりもスイッチング素子２０に近い側に、周囲に第２絶縁膜２８が形成された第２温度検出素子２５が設けられている。そして、第２絶縁膜２８の厚さが第１絶縁膜２７の厚さよりも大きくなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】放熱性と耐久性に優れた半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】導電ベースプレートと、導電ベースプレート上に接合される半導体チップと、半導体チップと導電ベースプレートとの接合面の中央部に配置された第１接着剤と、半導体チップと導電ベースプレートとの接合面の周辺部に配置された第２接着剤とを備え、第１接着剤は第２接着剤よりも相対的に熱伝導率が高く、第２接着剤は第１接着剤より相対的に接合力が高い半導体装置。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の電流による配線破壊箇所の予測方法において、解析時間を短縮する。
【解決手段】下層配線１４Ａ，１４Ｂをそれぞれ一つの直列抵抗で、第１の下層ビア１５Ａ，第２の下層ビア１５Ｂを１個の抵抗で、第１の上層ビア１７Ａ、第２の上層ビア１８Ｂを１個の抵抗で、第１及び第２の上層配線１６Ａ，１６Ｂを抵抗ブリッジ回路で、パワートランジスタＴＲを直列抵抗で、それぞれモデリングしてなる解析モデルをモデリング用計算機により生成する。回路シミュレータ３により、解析モデルにおけるパワートランジスタＴＲに電流を供給し、解析モデルにおける各抵抗に流れる電流に基づいて、第１及び第２の下層配線１４Ａ，１４Ｂ、第１及び第２の上層配線１６Ａ，１６Ｂにおける各抵抗の電流密度を計算し、各抵抗の電流密度と、配線破壊を起こす電流密度閾値とを比較器４により比較することにより、配線破壊箇所を予測する。 （もっと読む）

【課題】温度検出回路と絶縁素子とを同一の基板上に形成できるようにし、装置全体の小型化を容易にする温度検出装置を提供する。
【解決手段】温度検出回路２００は、温度センサ３５で検出された温度をデジタル値に変換するＡＤ変換回路４４とデジタル比較回路４５を備えている。デジタル比較回路４５の出力は、第１パルス発生器５２、第２パルス発生器５３を経由して絶縁トランス回路１０１に入力される。絶縁トランス回路１０１で発生する誘導電流によりパルス信号が信号復調回路１０２に伝達される。また、温度センサ３５で検出された温度が限界温度を越えたときにコンパレータ４９からパルス信号が生成され、同様に、信号復調回路１０２に伝達される。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の定格温度（−５０℃〜＋１５０℃）において高精度の温度検出を行うことのできる半導体装置を提供すること。
【解決手段】ｎ型基板１の第１主面に、ｐ型ベース領域３と該ベース領域３表面層のｎ型エミッタ領域４と、前記基板１からなるｎ型ドリフト層１表面と前記エミッタ領域４表面とに挟まれるｐ型ベース領域３表面上にゲート酸化膜７を介して設けられるゲート電極８と、前記エミッタ領域４表面と前記ベース領域３表面に共通に接触するエミッタ電極６と、第２主面のｐ型コレクタ層２とを有するＩＧＢＴと、該ＩＧＢＴに離間して第１主面に形成されるｎ型ウェル領域１５表面層にｎ型カソード領域１１とｐ型アノード領域１２を有する温度センサダイオードを備え、前記ｎ型ウェル領域１５がｐ型ウェル領域１６の表面層に形成され、前記温度センサダイオードのライフタイムが１μｓ以下に設定されている半導体装置とする。 （もっと読む）

【課題】半導体素子が短絡破壊したとき、ヒューズを設けることなく、主電流を遮断できる半導体装置を提供すること。
【解決手段】半導体装置１００を構成するパワー半導体素子を小さな半導体素子１に分割し、この小さな半導体素子１にそれぞれ1本のボンディングワイヤ１７を接続する。小さな半導体素子１が短絡破壊したとき、破壊した小さな半導体素子１に接続するワイヤ１７（ヒューズの役割をさせる）を溶断し、且つ、制御回路３０からオフ信号を健全な半導体素子１に与える。このようにして、半導体装置１００が短絡破壊したとき、ヒューズを設けることなく、主電流を遮断することができる。 （もっと読む）

【課題】隣接する２つのトランジスタ同士が接続された構成を有し、省スペースと電流集中による信頼性の低下の抑制とを両立させた半導体装置を実現できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、第１のトランジスタ１０１と接続された第１のバス１１１、第２のトランジスタ１０２と接続された第２のバス１１２と、第１のバス１１１と第２のバス１１２との間に形成され、第１のバス１１１と第２のバス１１２とを接続するバス間配線１２１とを備えている。バス間配線１２１は、第１のバス１１１における第２のバス１１２と対向する辺の一部及び第２のバス１１２における第１のバス１１１と対向する辺の一部と接続されている。第１のコンタクトパッド１３１は、第１のバス１１１の一部と接続され、第２のコンタクトパッド１３２は、第２のバス１１２の一部と接続されている。 （もっと読む）

【課題】信頼性を向上させることができる半導体装置，半導体装置を用いた回転電機または車両を提供する。
【解決手段】ショットキ接合と、ｐｎ接合を備える半導体装置であって、ｐｎ接合は高濃度Ｐ型拡散層５とＮ型拡散層４で形成され、低濃度Ｐ型拡散層６と金属電極７により、ショットキ接合が形成され整流領域のｐｎ接合部の降伏電圧を、前記ショットキ接合及びガードリング部Ｚ２のｐｎ接合より低くすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体チップに部分的に大きな電流が流れるのを抑制する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体装置は、ゲート電極５を有する半導体チップ１と、半導体チップ１の表面に設けられ、当該表面にかかる応力を検出する応力検出用素子７とを備える。そして、半導体装置は、応力検出用素子７で検出された応力に基づいて、ゲート電極５に印加される制御信号を制御する。また、平面視において半導体チップ１の中央部にかかる応力を検出する応力検出用素子７が、第１応力検出用素子７−１として設けられ、平面視において半導体チップ１の外周部にかかる応力を検出する応力検出用素子７が、第２応力検出用素子７−２として設けられることが好ましい。 （もっと読む）