【課題】電圧降下が小さい整流素子を得ること、及び、コンバータ回路の作製コストを抑制することを課題とする。
【解決手段】光電変換素子と、当該光電変換素子の出力を昇圧又は降圧し、スイッチング素子及び整流素子を有するコンバータ回路と、を有する光電変換装置において、当該スイッチング素子として、ノーマリオフの第１の酸化物半導体トランジスタと、当該整流素子として、ダイオード接続されたノーマリオンの第２の酸化物半導体トランジスタとを有する光電変換装置に関する。 （もっと読む）

【課題】従来の半導体装置は、チップ面積を抑制しながら内部電源電圧の変動を抑制することができなかった。
【解決手段】本発明の半導体装置は、電源電圧の電圧値を他の電圧値に変換して内部電源電圧を生成する第１の電源回路ＰＷＲ０、第２の電源回路ＰＷＲ１と、第１の配線ＭＴ０２を介して第１の電源回路ＰＷＲ０から内部電源電圧ＶＤＬ０の供給を受ける第１の内部回路ＭＡ０と、第２の配線ＭＴ１２を介して第２の電源回路ＰＷＲ１から内部電源電圧ＶＤＬ１の供給を受ける第２の内部回路ＭＡ１と、第１の配線ＭＴ０２と第２の配線ＭＴ１２とを互いに接続するブロック間配線ＭＴ３と、第１の内部回路ＭＡ０と第２の内部回路ＭＡ１が同時に動作する期間の長さを制御する制御回路ＣＮＴ０、ＣＮＴ１と、を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板への高周波信号の減衰を十分に抑制し、半導体装置の特性を十分に安定させる。
【解決手段】半導体装置１００は、第１導電型領域（例えばＮ型ウェル領域２）と、第１導電型領域の下面を覆うように配置された第１の第２導電型領域（例えばＰ型の半導体基板１）と、を有している。半導体装置１００は、更に、第１導電型領域の側面を取り囲むように配置され、且つ、第１の第２導電型領域と接している第２の第２導電型領域（例えばＰ型ウェル領域３）を有している。半導体装置１００は、更に、第２の第２導電型領域に電気的に接続されているとともに固定電位端子にも電気的に接続されているガードリング４と、第１導電型領域の上面を覆うように配置された絶縁膜５と、絶縁膜５上に配置されたアナログ素子（例えば抵抗素子６）と、を有する。 （もっと読む）

【課題】センス比の温度分布依存性を除去し、センスＭＯＳＦＥＴによる電流検出の精度を向上できる電流制御用半導体素子、およびそれを用いた制御装置を提供することにある。
【解決手段】電流制御用半導体素子１は、同一半導体チップ上に、電流を駆動するメインＭＯＳＦＥＴ７と、メインＭＯＳＦＥＴ７に並列に接続し、メインＭＯＳＦＥＴの電流を分流して電流検出を行うためのセンスＭＯＳＦＥＴ８とを有する。メインＭＯＳＦＥＴは、複数のチャネルを有し、一列に配列されたマルチフィンガーＭＯＳＦＥＴを使用して形成される。マルチフィンガーＭＯＳＦＥＴ７の中心から、最も遠いチャネルまでの距離をＬとすると、マルチフィンガーＭＯＳＦＥＴの中心から（Ｌ／（√３））の位置に最も近いチャネルを、センスＭＯＳＦＥＴ８のチャネルとして使用する。 （もっと読む）

【課題】ラッチ回路を有する半導体装置におけるデータの破壊を抑制する。
【解決手段】ラッチ回路に含まれる第１トランジスタＰ４と、ラッチ回路に含まれ、第１トランジスタＰ４と共通のウェル４０内に形成された、第１トランジスタＰ４と同じ導電型の第２トランジスタＰ１と、第１トランジスタＰ４と第２トランジスタＰ１との間に設けられ、ウェル４０を電源に接続するウェルコンタクトＷＣと、を備える。第１トランジスタＰ４側のウェル４０内で発生した電荷は、ウェルコンタクトＷＣに流れるため、第１トランジスタＰ４におけるソフトエラーの影響が、第２トランジスタＰ１に伝搬することを抑制することができる。これにより、ラッチ回路内における２箇所のノードにおいて、同時に論理の反転が生じることを抑制することができるため、データの破壊を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】 ICないしLSIの標準電源電圧用のトランジスタ構成部分ないしはプロセス技術を活用して高電圧動作電界効果トランジスタを該ICないしLSI中に作りこむ。
【解決手段】 電界効果トランジスタの動作電圧を大きくするために、ゲートを分割してドレインにより近い分割ゲートへドレイン電位により近い電位でかつドレイン電位に応じて変化する電位を供給する手段をとる。 （もっと読む）

【課題】高耐電圧により大電流化が可能で、オン抵抗が低く高速動作が可能で、高集積化と省エネルギーが可能で、素子間分離の容易な、電気熱変換素子駆動用の半導体装置を提供する。
【解決手段】電気熱変換素子とそれに通電するためのスイッチング素子とがｐ型半導体基体１に集積化されている。スイッチング素子は、半導体基体１の表面に設けられたｎ型ウェル領域２と、それに隣接して設けられチャネル領域を提供するｐ型ベース領域６と、その表面側に設けられたｎ型ソース領域７と、ｎ型ウェル領域２の表面側に設けられたｎ型ドレイン領域８，９と、チャネル領域上にゲート絶縁膜を介して設けられたゲート電極４とを有する絶縁ゲート型電界効果トランジスタである。ベース領域６は、ドレイン領域８，９を横方向に分離するように設けられた、ウェル領域２より不純物濃度の高い半導体からなる。 （もっと読む）

【課題】１チップ化しつつ、高温化による誤動作を抑制し、かつ、半導体パワー素子に流れる電流を低減し、チップサイズの増大を抑制することができるインバータ回路を提供する。
【解決手段】コンバータ電源回路部２の電源供給ライン８中、例えば、ＩＰＤ２０におけるパワーＭＯＳＦＥＴ２２０のハイサイド側に電流制限抵抗２４０を備える。この電流制限抵抗２４０によって電源供給ライン８に流れる電流の電流値を制限することができるため、パワーＭＯＳＦＥＴ２２０での発熱を抑制することが可能となる。したがって、インバータ回路１内の素子の定格温度を超えることを防止することが可能となり、誤動作が生じることを抑制できる。これにより、インバータ回路１の信頼性の向上を図ることが可能となる。また、パワーＭＯＳＦＥＴ２２０として必要な能力を軽減することが可能となり、大面積な素子としなくても済む。 （もっと読む）

【課題】半導体装置を構成する回路ブロックにおけるトランジスタの信頼性劣化を考慮した半導体装置の設計方法を提供する。
【解決手段】経時劣化計算部１１は、複数のトランジスタで構成される回路のネットリスト（回路記述ファイル１０１）、設計情報１０２を用いて、複数のトランジスタのうちの１つのトランジスタの回路定数を変化させて劣化後の回路動作特性（第１の特性）を算出する。解析部１２は、第１の特性に変曲点があるかどうかを判定し、ある場合、変曲点に相当する回路定数を修正後の定数と決定する。変曲点がない場合、経時劣化計算部１１は、更に劣化前の回路動作特性（第２の特性）を算出し、解析部１２は、第１及び第２の特性に基づき、修正後の定数を決定する。解析部１２は、ネットリストのうちの１つのトランジスタの回路定数を修正後の定数へ修正し、修正回路記述ファイル１０３を生成する。 （もっと読む）

【課題】少ない層間接続プロセス工程数で、コンタクト部分の面積を小さくすることのできる半導体装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】多層導体配線１０は、スルーホール１５は、導体１３の一部は、ひさし部１３Ｃとしてスルーホール１５の内側に露出する。そして、スルーホール１５のスルーホール用孔の内側に埋め込まれた埋め込み金属１６とひさし部１３Ｃとで、側面コンタクト構造を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】アンテナスイッチのコスト削減を図る観点から、特に、アンテナスイッチをシリコン基板上に形成された電界効果トランジスタから構成する場合であっても、アンテナスイッチで発生する高調波歪みをできるだけ低減できる技術を提供する。
【解決手段】ＴＸシャントトランジスタＳＨ（ＴＸ）を構成するＭＩＳＦＥＴＱ_Ｎ１〜ＭＩＳＦＥＴＱ_Ｎ５において、ＧＮＤ端子に近い側に接続されたＭＩＳＦＥＴＱ_Ｎ５から送信端子ＴＸに近い側に接続されたＭＩＳＦＥＴＱ_Ｎ１になるに連れて、ゲート幅Ｗｇが大きくなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】複数の電源を使用する半導体集積回路装置において、接続対象の接続する電源配線を容易に選択ないし変更できる半導体集積回路装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】半導体集積回路装置は、静電気保護素子及び入出力回路素子のうちの少なくとも１つを含む接続対象と、１以上の電源配線及びパッドから選択される２以上の要素と、同一層に形成された複数の配線と、複数の配線のうちのいずれか１つの配線と、接続対象とを電気的に接続する第１コンタクトと、を備える。複数の配線は、電源配線、パッド、又は電源配線及びパッドのうちのいずれかと電気的に接続された配線である。 （もっと読む）

【課題】第１、第２素子形成領域間でノイズが伝播することを抑制することができる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第１、第２素子形成領域２０、３０に形成された半導体素子のうち、第１素子形成領域２０に形成された半導体素子を外部機器と接続し、第１素子形成領域２０と第２素子形成領域３０との間に、第１導電型層６０と、当該第１導電型層６０に挟まれる第２導電型層６１とを配置し、第１、第２導電型層６０、６１の間に、オフ時に半導体層１２の表面から埋込絶縁膜１１に達し、第１、第２素子形成領域２０、３０との間を仕切る空乏層６３、６４を構成する。 （もっと読む）

【課題】ＶＣＯに含まれるスパイラルインダクタとＭＯＳバラクタを接続する配線に付加される寄生インダクタ、および／または寄生容量を低減することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】ＬＣタンクＶＣＯは、第１および第２のスパイラルインダクタＬ１，Ｌ２と、第１および第２のＭＯＳバラクタＣ１，Ｃ２とを備える。第１および第２のＭＯＳバラクタＣ１，Ｃ２は、半導体基板に垂直な方向から見たときに、第１のスパイラルインダクタＬ１と第２のスパイラルインダクタＬ２の間の領域に配置される。 （もっと読む）

【課題】ダイオードセルを有する半導体装置において、ダイオードセルに隣り合う標準セルについて、光近接効果によるゲート長のばらつきを確実に抑制できるレイアウトを提供する。
【解決手段】標準セルＣ１は、Ｙ方向に延び、Ｘ方向に同一ピッチで配置されたゲートパターンＧ１，Ｇ２，Ｇ３を有する。ダイオードセルＣ２は標準セルＣ１にＹ方向において隣り合っている。ゲートパターンＧ１，Ｇ２，Ｇ３は、各終端部ｅ１，ｅ２，ｅ３がＹ方向において同じ位置にあり、Ｘ方向における幅が同一である。ダイオードセルＣ２は、ダイオードとして機能する拡散層Ｄ１〜Ｄ１０に加えて、標準セルＣ１のゲートパターンＧ１，Ｇ２，Ｇ３の終端部ｅ１，ｅ２，ｅ３に対向するように配置された、ゲートパターンＧ４，Ｇ５，Ｇ６からなる複数の対向終端部ｅｏ１，ｅｏ２，ｅｏ３を備えている。 （もっと読む）

【課題】 リーク電流モニタ、リーク電流モニタ方法、及び、半導体装置の製造方法に関し、複数種類のデバイス特性をできるかぎり同じ構造のモニタで評価する。
【解決手段】 形状或いはしきい値電圧の少なくとも一方が異なる複数種類のトランジスタを異なった領域に同じ間隔で配置するとともに、前記複数種類のトランジスタの内、設計データにおける設置頻度の比を反映した数のトランジスタのゲート電極同士、ソース電極同士、及び、ドレイン電極同士を電気的に共通に接続する。 （もっと読む）

【課題】従来の半導体装置では、電源制御領域への突入電流の発生を抑制するためにチップ面積が増大する問題があった。
【解決手段】本発明にかかる半導体装置は、オン抵抗が大きな第１のスイッチトランジスタＳＷＬと、オン抵抗が小さな第２のスイッチトランジスタＳＷＳと、を有し、第１、第２のスイッチトランジスタＳＷＬ、ＳＷＳは、異なる領域に電流を供給し、第１のスイッチトランジスタＳＷＳは、制御信号ＣＯＮＴを直列的に伝搬するように直列に接続され、第２のスイッチトランジスタＳＷＬは、前記制御信号を直列的に伝搬するように直列に接続され、第２のスイッチトランジスタＳＷＬのうち初段に配置される第２のスイッチトランジスタＳＷＬは、第１のスイッチトランジスタＳＷＳのうち最も後ろに配置される第１のスイッチトランジスタＳＷＳが出力する制御信号ＣＯＮＴが入力される。 （もっと読む）

【課題】複数のスタンダードセルを有する半導体装置のチップ面積をさらに小さくする。
【解決手段】半導体装置ＳＤ１は第１および第２スタンダードセルＳＣ１，ＳＣ２を備える。第１スタンダードセルＳＣ１は、拡散領域Ａｎ１１、拡散領域Ａｎ１１に対向する機能素子領域ＦＥ１、および金属層ＭＴ１１を有する。第２スタンダードセルＳＣ２は、拡散領域Ａｎ１１に連続する拡散領域Ａｎ２１、拡散領域Ａｎ２１に対向する機能素子領域ＦＥ２、ならびに拡散領域Ａｎ２１および機能素子領域ＦＥ２の間に形成された拡散領域ＣＲ２１を有する。金属層ＭＴ１１および機能素子領域ＦＥ２は、拡散領域Ａｎ１１、拡散領域Ａｎ２１、および拡散領域ＣＲ２１通して電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】ｄｖ／ｄｔサージにより、支持基板と活性層との間の絶縁膜にて構成される寄生容量を充放電する変位電流による回路誤動作を防止する。
【解決手段】低電位基準回路部ＬＶおよび高電位基準回路部ＨＶを構成する絶縁分離された半導体素子の外周に、ｎ型ガードリング４２ｃ等を形成すると共に、活性層２ｃの埋込絶縁膜２ｂ側にｎ型ガードリング埋込層４２ｃ等と同じ導電型の深いｎ型拡散領域４２ｂ等を形成する。また、活性層２ｃにて構成されるｎ^-型層４２ａ等の中にｐ型ウェル４２ｄ等を形成し、このｐ型ウェル４２ｄ内に半導体素子を形成する。ｎ型ガードリング４２ｃ等とｐ型ウェル４２ｄ等は、それぞれ逆バイアスまたは同電位となるように電位固定する。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィ工程で生じる光近接効果に起因するゲート長のばらつきとゲートの寄生容量のばらつきを抑制し、標準セルの実際の特性を反映させたライブラリを設計可能とし、これにより設計マージンを小さくして高性能な半導体集積回路を提供する。
【解決手段】標準セルＳｃ１を配列して半導体集積回路を設計する方法において、標準セルＳｃ１を構成するゲートパターン５の端部に、該ゲートパターン５と垂直な方向にダミーパターン３を配置し、該ダミーパターン３の配置により、ゲートパターン５の端部での該ゲートパターンの占有密度の低下を補う。 （もっと読む）