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Fターム[5F044LL07]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング (4,630) | 導電ペースト、接着剤によるもの (335)

Fターム[5F044LL07]に分類される特許

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【課題】微細なピッチを有する基板パッドを具現すること。
【解決手段】金バンプとインクジェット印刷を利用するプリップチップ方法が提示される。半導体チップに金バンプを形成する段階と、基板の第1パッドにインクジェット印刷を利用してソルダーインクをプリンティングする段階と、金バンプとソルダーインクの接触のため上記半導体チップを上記基板に実装する段階と、基板をリフローする段階を含むプリップチップ方法は、工程費用と工程時間を減らすことができるし、微細なピッチを有する半導体チップを基板に実装することができて、ソルダーレジストを形成する必要がないので微細なピッチを有する基板パッドを具現することができる。 (もっと読む)


【課題】基板のリフローによる信頼度低下を防ぎ、製品の歩留まりとコストの低下を図ったFCパッケージ構造及びその製作方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の接続パッド62が設けられた複数のIC基板ユニット60aを有する基板60を提供し、パターンのある絶縁層64を形成して基板60と接続パッド62を覆わせ、更に各接続パッド62の上表面を一部露出させる孔を形成し、孔に導電材68を充填し、下表面に複数の導電バンプ72が設けられた複数のチップ70を提供し、チップ70をIC基板ユニット60aの表面に接着し、基板60を切断して、表面に少なくとも一枚のチップ70を有する複数のFCパッケージ構造に分けるステップを含む。 (もっと読む)


a)エポキシ官能基/アミンの比が1より大きい、少なくとも1種のエポキシ樹脂と脂肪族アミンの混入剤;b)導電性充填剤;c)1種以上の腐蝕抑制剤、酸素スキャベンジャー又は両方;d)硬化剤/触媒としてのイミダゾール;並びにe)任意に、有機溶剤、流動添加剤、接着促進剤及びレオロジー改質剤のような他の添加剤を含む組成物である。過剰のエポキシ官能性基の状態でエポキと脂肪族アミンの反応が、残存する活性なエポキシ基を有する可撓性樹脂を生ずる。組成物は、その混入剤を含まない他の導電性接着剤組成物よりも改良された電気的安定性と耐衝撃性を呈する。
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【課題】本発明は、半導体素子の実装方法に関するもので、電気的信頼性の高い実装の実現を目的とする。
【解決手段】そして、この目的を達成するために本発明は、まず樹脂シート102の上面に電気絶縁性基材101を形成し、次にこの電気絶縁性基材101の上面にカバーフィルム110を形成し、その後このカバーフィルム110の上面から前記樹脂シート102に達する穴を形成し、次にこの穴に導電性ペースト104を充填し、その後前記カバーフィルム110を除去し、次に回路基板105に接続パッド106を形成し、その後この接続パッド106と前記穴の開口部とが接するよう前記回路基板105と前記電気絶縁性基材101とを接合し、次に半導体素子107の電極が前記穴内に収まるように前記半導体素子107を前記樹脂シート102側から前記回路基板105に押圧する半導体素子の実装方法としたものである。 (もっと読む)


【課題】 簡単な構造で捻り負荷に対する基板剛性を向上させることができる基板の実装構造及びメモリーカードを提供する。
【解決手段】 制御回路基板11と半導体メモリ基板14bとが導電体を介して接合された実装構造体が筐体内に収納されており、制御回路基板11上に列状に配設した複数の第1の端子51と、前記第1の端子51に対向させて前記半導体メモリ基板14bに配設した複数の第2の端子51とが、導電体を介して接合されており、各端子51は縦長形状であり、各端子51の長手方向の対称中心線を長軸55とすると、長軸55が制御回路基板11の各端子の列方向の稜線53に対して傾斜して配置されている。 (もっと読む)


【課題】 フリップチップ実装での基板への樹脂配置を短時間で行う電子部品の実装方法を提供すること。
【解決手段】 一方の面において露出する第1の電極を有する基板に対して、一方の面において露出する第2の電極を有する電子部品を実装する方法であって、スクリーン印刷法によって前記基板の第1の電極上に10〜500μmの厚さの熱硬化性樹脂層を配置し、その後、前記第1の電極と第2の電極とを接触させ、前記第1の電極と第2の電極の少なくとも一方を加熱しながら、所定の時間だけ、それらが互いに密着するように加圧する加熱・加圧工程によって前記熱硬化性樹脂層を硬化させ、前記第1の電極と第2の電極との接続部分を樹脂封止する。 (もっと読む)


【課題】 サイズの異なるチップを基板の電極面に配置し、一度に実装することができる効率のよいMCM(マルチチップモジュール)の製造が可能なマルチチップ実装法を提供する。
【解決手段】 次の工程よりなるマルチチップ実装法、(1)硬化性材料からなるフィルム状接着剤層を用い、チップの電極形成面の大きさと略同一面積のフィルム状接着剤層を、前記チップの電極面に形成してなる複数の接着剤付チップを得る工程、(2)接続すべき複数の接着剤付チップの電極と基板の電極を対向させて、それぞれ位置合わせする工程、(3)電極の位置合わせを終了した複数のチップの電極と基板の電極を、接続すべき電極間で同時に加熱圧着し、同一基板に複数のチップの電気的接続を得る工程。 (もっと読む)


【課題】 印刷後の基板の一時保存量の増加を抑えるように印刷工程とその次工程との間でタクトタイムを調整できるとともに、印刷装置の印刷用部材のクリーニングからの経過時間が長くなったときの印刷不良を防止することができる印刷方法及びそのシステムを提供する。
【解決手段】 印刷工程では、印刷用部材のクリーニングの終了時からのクリーニング後経過時間に応じて、基板1枚あたりの印刷処理間隔を切り換えるようにする。基板搬出工程では、次工程である部品装着工程における処理開始タイミングに合わせて印刷後の基板を搬出する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い電気装置を製造するための電気部品を得る。
【解決手段】本発明の電気部品2は、底面電極膜12と、底面電極膜12上に形成された接続部20とを有しており、接続部20は中間電極膜17と、上部電極膜25とで構成されている。上部電極膜25は、導電性粒子を有する接続用樹脂で構成されており、従って、中間電極膜17上には予め導電性粒子が配置されたことになるので、この電気部品2を他の電気部品3と接続する際に、異方導電性接着剤を用いなくても、中間電極膜17と受側電極膜32との間に導電性粒子が配置されたことになり、中間電極膜17と受側電極膜32とが導電性粒子を介して確実に接続される。 (もっと読む)


【課題】 基板から突出した端子以外に接着剤を付着させずに多くの接着剤を端子に塗布する。
【解決手段】 FPC50の下面40aから突出した端子51に熱硬化性接着剤を塗布するときは、まず、樹脂シート56上に熱硬化性接着剤層60を形成する。次に、FPC50の下面40aが熱硬化性接着剤層60に接触しないように隙間を形成しつつ、端子51の先端部を熱硬化性接着剤層60内に漬ける。そして、端子51を熱硬化性接着剤層60に漬けた状態で、端子51を樹脂シート56の上面57に沿った方向に移動させる。 (もっと読む)


【課題】 接着層から回路基板および半導体基板を剥離しにくくし、また、回路基板の第1の端子と半導体基板の第2の端子との間の電気的な接続をより確実にする基板実装構造を提供することにある。
【解決手段】 本発明の基板実装構造(60)は、第1の端子(42)が設けられた第1の基板(40)と、第2の端子(52)が設けられた第2の基板(50)と、第1の端子(42)と第2の端子(52)とが電気的に接続するように第1の基板(40)と第2の基板(50)とを接着する接着層(20)とを備え、接着層(20)は、樹脂(21)と、樹脂(21)中に分散された絶縁性粒子(22)とを有し、絶縁性粒子(22)は、所定の平均粒径を有し、第1の端子(42)は、第1の端子(42)から第2の端子(52)への電気的な経路において、第2の端子(52)に最も近い最近接部分(43)を有し、最近接部分(43)は、絶縁性粒子(22)の所定の平均粒径よりも短い幅を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、可撓性の基材上に電子部品を実装する電子部品実装装置に関し、可撓性基材上の複数パターンのそれぞれに電子部品を同時多数実装させることで効率向上を図り、しわ発生を防止して歩留りの向上を図ることを目的とする。
【解決手段】実装ステージ13が可撓性の基材シート15に形成された複数のアンテナ23上に搭載されるそれぞれのICチップ16の位置に対応させた複数の突部22を備え、当該ICチップ16が搭載された基材シート15が搬送されてきたときに、当該突部22に形成される所定数の通気孔22Aより当該基材シート15を部分的に吸引して固定し、実装アタッチメント群12が当該突部22上で吸引固定されている基材シート15上のアンテナ23およびICチップ16に対して加熱、押圧することで当該ICチップ16を当該アンテナ23上に電気的接続させる構成とする。
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【課題】 ラジカル硬化系でありながら、高い接着強度を示し、かつ、信頼性試験後においても安定した性能を有し、さらに貯蔵安定性にも優れる接着剤、回路接続用接着剤、接続体及び半導体装置を提供する。
【解決手段】 (a)熱可塑性樹脂、(b)下記一般式(B)及び/または(C)の構造を含み且つ分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基及び2個以上のウレタン結合を有するラジカル重合性物質、(c)ラジカル重合開始剤を含む接着剤。
【化1】



(一般式(B)中、Mは0〜10の整数、Nは1〜20の整数を表す。) (もっと読む)


X線及びガンマ線放射エネルギー撮像デバイスにおける放射線検出器/撮像基板アレイ(20)が記載され、それらはデバイスの検出器と読出し基板(21)の間の電荷信号接続を提供するために電導性接着剤(38)を使用する。本装置は複数の電導性ボンド(25)を利用し、それらのそれぞれは画素パターンの画素コンタクト(22)を信号コンタクトパターンの信号コンタクトに個別的に連結し、ボンド(25)は電導性接着剤(38)である。この結合技術はカドミウムテルル組成物を含む検出器基板を持つ検出/撮像アレイで特に有用である。本発明は“バンプ”電気コンタクトを持つまたは持たない半導体検出器及び読出し基板で実行できる。電導性ボンド(25)は等方または異方伝導性接着剤(38)のいずれかを利用する。
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【課題】シールド構造を有しノイズ防止が可能で、かつ生産性及び信頼性の高いフリップチップ実装方法及びその実装構造体を提供する。
【解決手段】シールド電極16と電極端子14とが配設された半導体素子10と、外周側接続電極26及び内部側接続電極24が配設された配線基板20と、はんだ粉32、対流添加剤及びはんだ粉の熔融温度で流動性を有する樹脂34を含む樹脂組成物30とを準備する工程と、配線基板20面上に樹脂組成物30を塗布する工程と、半導体素子10と配線基板20とを位置合せして樹脂組成物30表面に半導体素子10を当接する工程と、少なくとも樹脂組成物30を加熱してはんだ粉32を熔融するとともに対流添加剤によりはんだ粉32を自己集合させながら成長させて接続する工程と、樹脂34を硬化させて半導体素子10と配線基板20との間にアンダーフィル樹脂を設ける工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 電子部品の絶縁基板への固定強度が高い電子部品実装基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 電極31Aの側端面31A1と導電パターン11Aの接続部11A1の先端部との間に間隔L2をあけ、電極31Bの側端面31B1と導電パターン11Bの接続部11B1の先端部との間に間隔L3をあけて、電子部品30を、導電性接着剤層20A,20Bを介して、導電パターン11A,11Bに接続する。
このようにすると、電子部品30に引き剥がし力が作用したときに、引き剥がし力が導電パターン11A,11Bには直接に伝わらず、導電パターン11A,11Bが剥がされにくくなる。また、電子部品30は導電性接着剤層20A,20Bによって絶縁基板10の表面に強固に固定されるようになる。 (もっと読む)


【課題】 良好な電気伝導性を有する導電性接着剤を用い、良好な接続信頼性を有する半導体製品、チップ部品の回路基板への接続方法ならびに半導体製品搭載回路基板を提供する。
【解決手段】 半導体製品の電極と回路基板とを導電性接着剤を用いて接着してなる半導体製品搭載回路基板であって、加熱接着後の導電性接着剤の金属成分が95重量%以上、全金属成分中に銀が50重量%以上および粒径0.1μm以下である超微粒子金属粉を含み、導電性接着剤が300℃で融解しないことを特徴とする半導体製品搭載回路基板。 (もっと読む)


【課題】 バンプ形成領域における各導電粒子の密度を低下させることにより、隣位するバンプ間または電極間におけるリークの発生を低下させる。
【解決手段】 駆動用ICチップ7の基板8における回路形成面9の全面に、バンプ10を覆うように導電粒子を含有しない無導電接着材13を配設し、回路形成面9におけるバンプ形成領域11の無導電接着材13上に導電粒子14aを含有する導電接着材14を配設する。 (もっと読む)


【課題】モジュール化された部品その他の電子部品の実装のためのはんだ接合を低温で行ない、しかもはんだ接合による回路接続の導電性と接着剤による接合強度の向上の両方を一括で可能にする導電性接着剤。
【解決手段】(1)フラックス作用を有するエポキシ系接着剤と、SnBi系はんだ粉末とを混合してなる導電性接着剤。(2)フラックス作用を有するエポキシ系接着剤は、少なくともエポキシ樹脂、硬化剤及び有機酸を含有したはんだ付け用フラックスであり、SnBi系はんだ粉末は150〜170℃の融点の鉛フリーはんだ粉末である(1)記載の導電性接着剤。(3)有機酸が側鎖にアルキル基を有する二塩基酸である(2)記載の導電性接着剤。 (もっと読む)


【課題】大面積の接合に有利な接合方法及び接合構造を提供する。
【解決手段】第一の物体の第一の金属からなる第一の金属層11と、第二の物体の第二の金属からなる第二の金属層であるCu基板21aとの間に、内部に空孔を有し、第三の金属からなる多孔質金属層であるCuポーラス板3を介在させ、Agナノペースト4を、第一の金属層11とCuポーラス板3との間、及びCu基板21aとCuポーラス板3との間に設置し、加熱して接合する。 (もっと読む)


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