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Fターム[5F044LL13]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング (4,630) | 介在物を介して接続 (286)

Fターム[5F044LL13]に分類される特許

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【課題】NSMD型ランド構造を有するBGA型パッケージの半導体装置の信頼性を向上させる。
【解決手段】配線基板WBの表面に配置された半導体チップと、配線基板WBの裏面s2に配置された配線MW、配線MW端のランド部ML、ソルダレジストSR、ボール電極EB、および、保護樹脂PRとを有する半導体装置であって、半導体チップと配線MWとは電気的に接続され、ソルダレジストSRは配線基板WBの裏面s2において配線MWを覆うように形成され、ソルダレジストSRはランド部ML上においてNSMD型の開口部OFを有し、ボール電極EBはランド部MLに電気的に接続されるようにして形成され、保護樹脂PRはボール電極EBとランド部MLとの接触部を含むソルダレジストSRの開口部OF内を埋め込むようにして形成され、保護樹脂PRは有機酸、溶剤、および、硬化剤を含む熱硬化性樹脂である。 (もっと読む)


【課題】半導体装置がプリント基板に搭載された基板ユニットにおいて、アンダーフィルを充填することなく、基板ユニットの信頼性を向上できるようにする。
【解決手段】複数の端子21´を有する半導体装置20と、この半導体装置20を搭載し複数の端子21´のそれぞれと電気的に接合する複数の基板端子11´を有する基板10aと、端子21´と基板端子11´とを各々電気的に接合させる、端子21´または基板端子11´の接合部11,22の面積よりも小さな面積の接合部32´,33´を有する複数の導体部31´とを備えて構成する。 (もっと読む)


【課題】電極に印刷が可能であり、リフロー熱処理条件では再溶融しないバンプであって、接続時の潰れによる短絡を防止できるバンプを提供する。
【解決手段】リフロー温度では再溶融しないはんだ合金から構成され、実装時の少なくとも接合面に複数の孔を有するバンプであって、バンプの断面における孔の合計面積÷バンプ全体の面積×100で算出される孔の割合が5%〜80%であることを特徴とするバンプ。 (もっと読む)


【課題】電極数を極力低減すると共に、実装時に実装基板との平行度を保って接続不良の防止を図り、且つ半導体回路の破壊をも抑制した半導体チップを提供すること。
【解決手段】例えば、所定の間隙を持って対向させた各メモリバンク22A〜22D間により形成された十字状の接続バンプ配置領域23が設けられている。そして、十字状の接続バンプ配置領域23における領域23Aに、信号入出力用接続バンプ21A(第1の電極)が群をなして配設させている。一方で、当該信号入出力用接続バンプ21Aが群をなす領域23Aに直交する領域23B内に電力・接地用接続バンプ21Bの群を配設させることで、記憶装置チップ20を配線チップ10に実装した際、当該記憶装置チップ20が傾くのを当該電力・接地用接続バンプ21Bが支持し(半田を介して支持し)、最小限のバンプ数で平行度が保たれる。このように、例えば記憶装置チップ20を構成する。 (もっと読む)


【課題】 垂直方向のみから荷重をかけることで、接合強度を向上させることができ、さらにX−Y位置精度を高く維持することができるMEMSデバイスとMEMSデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 MEMSデバイス10は、マイクロミラーチップ1と、マイクロミラーチップ1に対向し、積層する電極基板2と、マイクロミラーチップ1と電極基板2に介在し、厚み方向に貫通する貫通孔4を有する複数の中間部材3と、電極基板2に形成され、貫通孔4を貫通することでマイクロミラーチップ1と電極基板2を接合させる金バンプ8を有し、貫通孔4は、垂直方向からの荷重と熱によって金バンプ8が接合パッド6によって垂直方向につぶれると同時に貫通孔4に沿って水平方向にも広がるように変形できる大きさを有し、そのため貫通孔4は、例えば端面3aに向かって径が大きくなるテーパ形状の段差部5を有している。 (もっと読む)


【課題】金属ワイヤ等の多数の接合部材を電極表面に簡易且つ精度良く接続することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】半導体素子2又は回路基板の表面に形成された複数の端子1に、導電材料3を介して接合部材4を接続する半導体装置の製造方法は、前記複数の接合部材4を保持する工程と、保持された前記接合部材4を、前記接合部4材の融点未満の温度に加熱する工程と、前記端子1の表面に形成された前記導電材料3に前記接合部材4を接触させることにより、前記導電材料3を溶融させて、前記端子1に前記接合部材4を接続させる工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】二つの電子部品のバンプ電極同士が小さい荷重によって十分な機械的強度をもって接合された実装構造を提供する
【解決手段】実装構造100はMEMSチップ110と配線基板130とを有している。MEMSチップ110はバンプ電極150Aを有し、配線基板130はバンプ電極150Bを有している。バンプ電極150A,150Bは互いに対応する位置に設けられて配置されている。バンプ電極150A,150Bは、それぞれ、山型突起152A,152Bを有している。MEMSチップ110と配線基板130は、バンプ電極150Aとバンプ電極150Bとが互いに対向するように配置されて加圧される。これにより、互いに接触した山型突起152A,152Bが塑性変形し、バンプ電極150A,150Bが互いに接合される。 (もっと読む)


【課題】インレット用基材が軟質材からなる場合においても、ICチップのバンプをインレット用基材上に設けられたアンテナ上に超音波接合し、接合品質を向上させることができるインレットの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によるインレット10の製造方法において、まず、予め一方の面にアンテナ12が設けられたインレット用基材11を準備する。次に、アンテナ12が設けられたインレット用基材11が、アンテナ12側の面を上方に向けて受台21上に配置される。次に、インレット用基材11の対向する一対の端縁11aを、両方向へ引っ張りながらアンテナ12上にICチップ13のバンプ13aが超音波接合される。 (もっと読む)


【課題】電解メッキにより発生するソルダのメッキ偏差から生じさせる不良を防止でき、リフロー時ソルダが必要以上に金属ポストの側面に広がることを防止することにより、ソルダの使用量を最小化できるポストバンプ及びその形成方法を提供する。
【解決手段】ポストバンプの形成方法は、電極パッドが形成されている基板に、電極パッドの形成位置に対応する開口部が形成されたレジスト層を形成する段階S200と、開口部の一部に金属性物質を充填し、金属ポストを形成する段階S300と、開口部の残りの一部にソルダを充填する段階S400と、ソルダに熱を加えてリフローする段階S500と、レジスト層を除去する段階S600と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】従来の半導体装置の検査装置は、気泡などが存在しても光を完全に遮断することがないアンダーフィル剤の充填状態を検査するために、そのまま適用することは困難である。
【解決手段】半導体パッケージ12を、該半導体パッケージ12の一面に形成されたはんだバンプ13により回路基板11に接続し、接続した半導体パッケージ12と回路基板11との間の隙間15にアンダーフィル剤16を充填して構成した半導体装置10の検査装置1であって、前記半導体装置10の前記アンダーフィル剤16内へ光を照射する発光具2と、前記発光具2から発光され前記アンダーフィル剤16内を透過した光を受光する受光具3と、前記受光具3の受光量を算出し、前記受光量の多少により前記アンダーフィル剤16の充填状態の良否を判定する制御装置5とを有する。 (もっと読む)


【課題】高温下に晒すことなく、回路基板に確実に実装し得る、信頼性に優れた半導体装置、かかる半導体装置を備える高い信頼性が得られる電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体装置10は、ビア33内に設けられた導体ポスト42と配線パターン41とを有するインターポーザー30と、前記導体ポスト42に接合された端子602と、導体ポスト42に形成された接合膜80とを有している。この半導体装置10が備える接合膜80は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、表面85付近に存在する脱離基が脱離し、これにより接合膜80の表面85に、回路基板が備える導体部との接着性が発現するものである。 (もっと読む)


【課題】半導体チップと回路基板との接続信頼性を高める。
【解決手段】半導体チップ20と回路基板30とを、絶縁性樹脂シート11を貫通する端子部12を有する端子シート10によって、電気的に接続する。端子シート10の端子部12は、接着層12a、応力緩和層12b及びバリア層12cを備えた構成とする。半導体チップ20と回路基板30との間に端子シート10を配置してリフローを行うと、接着層12aは半導体チップ20の電極21及び回路基板30の電極31と接合し、応力緩和層12bはその端子シート10に加わる応力の緩和に寄与し、バリア層12cは端子部12の形状維持と接着層12a及び応力緩和層12bの側方への流出抑制に寄与する。これにより、接続不良やショートが効果的に抑制される。 (もっと読む)


【課題】ワイヤーボンディング方式を採用する必要がなく、従ってワイヤーボンディング方式の作用に起因する問題がない、積層された複数個の半導体素子(6、1014)を供えた半導体装置を提供する。
【解決手段】各半導体素子自体と共に、基板(2)と最下層半導体素子(6)との間及び各半導体素子間に配設されている絶縁性接着フィルム(4、8、12)に、独特な電気的接続手段を配設することによって、ワイヤーボンディング方式の必要性を回避する。 (もっと読む)


【課題】基板が備えるビア内に設けられた導体ポストに、金属性のバンプを高い寸法精度でかつ確実に接合することができ、高い信頼性が得られる半導体装置、かかる半導体装置を備える信頼性に優れた電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体装置10は、ビア33内に設けられた導体ポスト42と配線パターン41とを有するインターポーザー30と、導体ポスト42に接合されたバンプ70と、導体ポスト42とバンプ70とを仮接合する接合膜80とを有している。この接合膜80は、その少なくとも一部の領域にエネルギーを付与することにより、表面85付近に存在する脱離基が脱離し、これにより接合膜80の表面85に発現した接着性によって、導体ポスト42とバンプ70とを仮接合しているものである。 (もっと読む)


【課題】 電極の厚みを変えることなく、フリップチップ接合のバンプ位置ずれを防止することができる半導体装置を実現する。
【解決手段】 半導体素子側に設けられた電極パッド上の各バンプを、パッケージ基板側の電極に当接させることにより、前記半導体素子と前記パッケージ基板とをフリップチップ接合する半導体装置において、前記パッケージ基板の最表面をソルダレジストで覆うと共に、前記電極上の前記ソルダレジストを取り除くことにより、電極の厚みを変えることなく、フリップチップ接合のバンプ位置ずれを防止するように構成した。 (もっと読む)


【課題】マザー基板の一面側に電子部品を搭載してなる電子装置において、マザー基板の一面側の全面ではなく、電子部品の実装部位に限定したマザー基板の多層化を図る。
【解決手段】マザー基板10と、マザー基板10の一面11側に搭載された電子部品30とを備える電子装置において、マザー基板10の一面11側の一部には、層状をなす配線部材20が搭載されており、電子部品30は配線部材20を介してマザー基板10に電気的・機械的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と回路基板の熱膨張量の差があっても、従来よりも電気特性の高信頼性を期待できる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】突起電極103を有する半導体素子101が、突起電極106を有する回路基板104の上に配置され、半導体素子101と回路基板104がスペーサ109を介してと当接して間隔が決定され、互いに向き合う突起電極103,106の間に隙間が形成され、この隙間に導電性弾性体108が介装されている。 (もっと読む)


【課題】低抵抗な接続構造や歪みの少ない接続構造を実現できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体部品1の電極2を有する面が回路基板7に対向している半導体装置において、ハンダ層3が、半導体部品の電極と回路基板の電極とのいずれか一方に接し、平均粒径0.1μm以下の金属粒子からなる金属粒子層4がハンダ層に接し、導電性フィラーと樹脂とを含んでなる導電性フィラー層5が金属粒子層に接し、もう一方の電極6が導電性フィラー層に接することにより、電気的接続が形成される。 (もっと読む)


【課題】電極パッドと突起電極との間の密着性を十分確保することができ、しかも総厚みを薄くできる実装構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体チップ本体4aと半導体チップ本体4bを加熱して熱硬化性樹脂3a,3bを熱硬化させながら回路基板10に押し付けて、回路基板10の電極パッド2aに半導体チップ本体4aに設けられた突起電極8aが当接し、回路基板10に形成された電極パッド2bに半導体チップ本体4bに設けられた突起電極8bが当接し、それとともに半導体チップ本体4aに設けられた突起電極8aを、電極パッド2aと回路基板10と硬化途中または硬化した熱硬化性樹脂3bを介して半導体チップ本体4bに当接して圧縮し塑性変形させる。 (もっと読む)


【課題】電子部品と基板との応力差を簡単に緩和できる電子装置とその製造方法を提供すること。
【解決手段】回路基板50の第1電極51と半導体素子60の第2電極62とを接続する接続構造であって、互いに応力の異なる第1金属膜16aと第2金属膜16bとを積層してなる積層体16を湾曲させ、該第2金属膜16bの一方の端部Aを第1電極51に接合し、該第2金属膜16bの他方の端部Bを第2電極62に接合したことを特徴とする接続構造による。 (もっと読む)


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