説明

Fターム[5F044LL13]の内容

ボンディング (23,044) | フェイスダウンボンディング (4,630) | 介在物を介して接続 (286)

Fターム[5F044LL13]に分類される特許

61 - 80 / 286


【課題】溶融状態の金属材料を選択的に端子上に凝集させることができないことに起因する、隣接する端子間におけるリーク電流の発生が低減された導電接続シート、かかる導電接続シートを用いた端子間の接続方法、接続端子の形成方法、信頼性の高い半導体装置、および、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の導電接続シート1は、樹脂組成物層11、13と、この樹脂組成物層1、13に接合される金属層12とを備える積層体により構成されるものであり、第1の樹脂組成物層11は、その平均厚さが、第2の樹脂組成物層13の平均厚さより薄いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電子部品を積層接続して構成される電子回路において、耐熱性を低下させることなく接合不良を解消することにより高性能化を図る。
【解決手段】接続用電極を含む複数の電子部品が積層接続されて構成される電子回路であって、対向配置される電子部品10,20は、対向する接続用電極同士が直接接合している直接接合部(第1接合部、第3接合部)と、対向する接続用電極同士が金属間化合物30を介して接合している間接接合部(第2接合部)とにより接続されている。 (もっと読む)


【課題】基板の昇温を効率的に行なうことで半導体装置をフリップチップ接続する際の位置ずれや接続不良の発生を低減した半導体装置の接合装置を提供する。
【解決手段】上型ブロック10は、基板保持プレート4に支持された基板1にクランプ面10aを近接させて輻射熱により基板1及び半導体装置3を予備加熱し、当該基板1が基板保持プレート4に支持されままクランプ面10aを半導体装置3に押し当てて絶縁性接着剤2を硬化させると共に半導体装置3のバンプ3aを基板端子部1aと接合させる。 (もっと読む)


【課題】ボイドの発生に起因する、隣接する端子間におけるリーク電流の発生が低減された導電接続シート、かかる導電接続シートを用いた端子間の接続方法、接続端子の形成方法、信頼性の高い半導体装置、および、電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の導電接続シート1は、樹脂組成物層11、13と、この樹脂組成物層11、13に接合される金属層12とを備える積層体により構成されるものであり、樹脂組成物層11、13の金属層12に接合される接合面の表面自由エネルギーをA[mN/m]とし、金属層12の樹脂組成物層11、13に接合される接合面の表面自由エネルギーをB[mN/m]としたとき、A/Bが0.5〜1.5なる関係を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電極同士の接触部分における電気抵抗値の制御が容易で安定した電気特性を備えつつ電子部品同士を確実に接続する。
【解決手段】電子部品相互の接続構造は、例えばRPCB10及びFPC20相互の接続に適用される。RPCB10は、基板11上に形成された電極12を備え、電極12は、凸部12aを備える。FPC20は、基板21上に形成された電極22を備え、電極22は、凹部22aを備える。凹部22aを含めた電極22上には、凹部22aの形状に沿ってワイヤ23がボンディングされ、RPCB10の電極12形成側の面上には接着材13が形成される。電極12,22を凸部及び凹部12a,22aが嵌合するように位置合わせしてRPCB10及びFPC20を熱圧着により接続する。電極12,22はワイヤ23を介して金属結合されるので、電気抵抗値のばらつきが少ない接続を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】コア基板上、あるいは絶縁樹脂フィルム上に形成する配線パターンの割合を均一にすることで、ビルドアップ基板の厚みを一定にし、フリップチップ接合のバンプ位置ずれを防止する構造を実現する。
【解決手段】厚さが均一のコア基板31と、このコア基板31上に形成された配線パターン61と、前記コア基板31及び前記配線パターン61を覆う絶縁樹脂フィルムと、この絶縁樹脂フィルム上に形成されたバンプ接続電極34とからなるビルドアップ基板6aを有し、前記バンプ接続電極34上に形成したバンプ42を介して前記ビルドアップ基板を6a半導体素子4と接続する半導体装置5において、前記コア基板31上に形成する配線パターン61の割合を均一にすることによって前記絶縁樹脂フィルム62の厚さを均一にし、前記ビルドアップ基板6aの厚さを均一化したことにより、フリップチップ接合のバンプ位置ずれ防止ができる半導体装置5を実現できる。 (もっと読む)


【課題】半導体素子の位置ずれを防止するとともに、はんだ内のボイドの残留も防止する。
【解決手段】枠体1に形成した凹部5に、凹部5周辺の枠体1表面から接合表面3aを突出させた状態で半導体素子3を収納するとともに、枠体1の凹部5に対応して基板2の表面にはんだ4を配置した状態で基板2と枠体1とを位置決めして重ね合わせることにより、枠体1から突出している半導体素子3の接合表面3aと基板2の表面との間ではんだ4を挟持して、その挟持部分を基板2と枠体1との隙間から外部に連通した状態とし、この重ね合わせ状態の基板2と枠体1との間ではんだ4をリフローさせて基板2に半導体素子3を接合する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い半導体装置、前記半導体装置が実装された、信頼性の高い電子部品、信頼性の高い半導体装置の製造方法、および信頼性の高い電子部品の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る半導体装置は、第1の面と、前記第1の面の反対側の第2の面とを有する半導体基板と、前記半導体基板の前記第1の面の上に設けられた電極と、前記半導体基板の前記第1の面の上に設けられ、前記電極の少なくとも一部とオーバーラップする開口部を有する絶縁膜と、前記絶縁膜の上に設けられた樹脂突起と、前記電極と電気的に接続され、一部が前記樹脂突起の上に設けられた配線層と、を有し、前記配線層は、前記電極および前記樹脂突起の上に形成される第1の導電層と、前記第1の導電層の上に形成される第2の導電層とを有し、前記第1の導電層は、前記半導体基板側の第1の面と、前記第2の導電層側の第2の面と、を有し、前記第1の導電層の前記第2の面に、前記第1の導電層の酸化膜または窒化膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】基板へ悪影響を及ぼすことなく、簡単な作業で効果的にACFの残渣等を除去する。
【解決手段】表示部31aと端子部31bとを有する第1基板31と、前記端子部31bにACF6を介して固着される電子部品4,5と、を備える表示モジュール2の再利用方法である。前記第1基板31から、前記電子部品4,5を取り外す第1ステップと、前記第1基板31から、前記電子部品4,5が固着されていた接着領域に残るACF6を除去する第2ステップとを含む。前記第2ステップは、前記接着領域を加熱する第1処理と、剥離液を用いずに加熱された状態のACF6を擦り取る第2処理とを含む。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造方法において、導体パターンの狭ピッチ化を図ること。
【解決手段】回路基板20の導体パターン22と半導体素子30の突起電極31の少なくとも一方に、第1の金属の粉体23を付着させる工程と、粉体23の少なくとも一部を、第1の金属よりも融点の低い第2の金属に置換する工程と、上記置換の後、加熱により粉体23を溶融して接続媒体35にし、該接続媒体35により導体パターン22と突起電極31とを接続する工程とを有する半導体装置の製造方法による。 (もっと読む)


半導体素子(例えば、フリップチップ)は、介在層によってドレインコンタクトから分離されたサブストレートを含む。前記介在層を通じて延びる前記素子の動作時において、トレンチ状のフィードスルー要素を用いて、前記ドレインコンタクトおよび前記サブストレートを電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の実装後において、半導体チップと基板の接合部の融点が高くなる半導体装置の実装方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ11を基板15へフリップチップ実装する半導体装置の実装方法であって、半導体チップ11のAuバンプとSn−Bi系はんだ18を接触させる工程と、Sn−Bi系はんだ18を融点以上180℃以下に30分以上加熱する工程と、を備えることを特徴とする半導体装置の実装方法。 (もっと読む)


【課題】加熱処理に起因する反りを効果的に抑制する電子デバイスパッケージを提供すること。
【解決手段】電子デバイスパッケージは、基板と、第1面が基板と対向するように基板に実装された電子デバイスと、第1面の裏側の電子デバイスの第2面に形成された接着層と、接着層を介して電子デバイスに貼り付けられた金属層と、を備える。接着層の250℃におけるヤング率は、約1MPa以上である。 (もっと読む)


【課題】安定した半導体チップ間の導通信頼性および隣接する半導体チップの接続電極の高い絶縁信頼性、さらに、更なる高密度化の要求に対応しうるチップオンチップ型の半導体装置、および半導体装置の製造方法及び電子部品を提供する。
【解決手段】樹脂組成物と、半田箔又は錫箔から選ばれる金属箔とから構成される積層構造を有する導電接続材料を半導体チップ20,30間に介在させ、熱融着させることにより、電気的接続及び封止を一括で行う。 (もっと読む)


【課題】電子機器の高機能化及び小型化の要求に伴う、電子材料における端子間の狭ピッチ化にも対応可能な端子間の接続方法、金属箔の凝集方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】樹脂組成物120と、半田箔又は錫箔から選ばれる金属箔110とから構成される積層構造を有する導電接続材料を介して対向する端子11、21間を電気的に接続する方法において、導電接続材料を金属箔110の融点以上に加熱するとともに、さらに、対向する端子11、21間に電圧を印加することにより、電子材料における端子11、21間の狭ピッチ化にも対応可能な端子11、21間の接続方法、金属箔110の凝集方法及びそれを用いた半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板に実装される複数の半導体素子間の接続端子数を増やし、モジュール性能を高めるとともに、必要とされるインターポーザのサイズを小さくし、コストの低減化に寄与すること。
【解決手段】半導体装置50は、最外層の配線層の所要の箇所に画定されたパッド11Pを有する配線基板10と、この配線基板上にフェイスアップの態様で並列して実装された複数の半導体素子(チップ)20a,20bと、各チップ上にまたがって実装されたインターポーザ30とを備える。各チップ20a,20bは、そのフェイス面側に配列された電極パッドのうち一部の電極パッド21が導電性ワイヤ24を介して配線基板10の対応するパッド11Pに接続されている。残りの電極パッド22は、インターポーザ30を介して相互に電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】2つの電子部品を接合するための方法を提供すること。
【解決手段】中空開口挿入部(50)を挿入部の硬度より低い硬度の充填凸面要素(14)に挿入することによって2つの電子部品(12、16)を接合する本方法は、挿入部(50)が充填要素(14)の中に挿入されると、挿入部(50)の中に含まれたガスの排出通路をつくるために、挿入部(50)の開口端(54)の少なくとも1つの表面(52)が解放されたままであることに存する。 (もっと読む)


【課題】 ランド状接続端子とバネ状接触子を電気的に接触させた接触面に低周波振動を印加することによって金属間接合部を生成される実装マウント装置を提供する。
【解決手段】 バネ状接触子2を有するインターコネクタ3を備えた実装基板4に、ランド状接続端子5を備えた電子部品6を接合させる実装マウント装置1であって、ランド状接続端子5は、バネ状接触子2との接触面にSn―Agメッキ7が施され、ランド状接続端子5とバネ状接触子2とを少なくとも一対設け、低周波振動アクチュエータ8を備えた加振台9と、この加振台9の下面に設けられたゴム板14と、を備え、ランド状接続端子5とバネ状接触子2とを対面させて重ね合わせ、低周波振動アクチュエータ8を電気的に駆動させて振動させることによって接触面に金属間接合部10が生成される。 (もっと読む)


【課題】半導体チップのコーナ部に対応する接合部材の耐衝撃性を向上させた半導体チップ実装体の製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板3の実装面に形成された回路パターンに半導体チップを実装する工程と、少なくとも回路基板3と半導体チップとの間に熱硬化性樹脂および磁性体粉末6を含む接合組成物を供給して磁性体粉末含有熱硬化性樹脂の充填物を形成する工程と、充填物を加熱する工程と、加熱による充填物の硬化の間に半導体チップのコーナ部に対応する前記充填物に磁力を加えて、充填物中の磁性体粉末6を半導体チップのコーナ部に対応する充填物の箇所に集中させることによって、磁性体粉末が前記半導体チップのコーナ部に対応する箇所にこの箇所以外の領域より高い密度で存在する接合部材を形成する工程とを含むことを特徴とする半導体チップ実装体1の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ICチップ・パッケージ内の半田要素を伴う電気特性変更用平面部材を提供する。
【解決手段】構造は、集積回路(IC)チップ・パッケージ106の基板104とプリント回路基板(PCB)108を電気的に結合するための半田要素102と、基板104のランディング・パッド120CおよびPCB108のランディング・パッド120Pのうちの少なくとも1つと半田要素102の間に位置決めされた第1の電気特性変更用実質平面部材130C,130Pとを含む。他の実施形態では、電気特性変更用平面部材130C,130Pは、ICチップ110とパッケージ基板の間の半田要素102に利用することができる。 (もっと読む)


61 - 80 / 286