【課題】露光不良を抑制できる、ステージ装置、露光装置、クリーニング方法及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】
基板ステージ２の基板保持部５（上面５ａ、表面Ｐ１ａおよび先端部Ｐ１ｂ）に、フィルム部材７が配置してある。フィルム部材７は、上面５ａ、表面Ｐ１ａおよび先端部Ｐ１ｂから着脱することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 統一した基準でかつ1番目のショットからモールドによる成形の良否を判定できるインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、モールド10によって成形された樹脂を撮像する撮像部40と、前記撮像部により撮像された画像の少なくとも一部の領域を、前記撮像部による撮像に先立って予め設定された基準状態の画像と比較して、前記モールドによる成形の良否を判定する判定部である制御部100と、を備える。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを高精度で形成することのできる半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板に第１パターンを形成する工程と、第１パターンの状態を計測する計測工程と、第１パターンを化学的に処理してリソグラフィーに対する耐性を付与するフリージング工程であって、計測工程の計測結果に基づいて処理条件を変更するフリージング工程と、基板に第２パターンを形成する工程とを具備し、フリージング工程は、処理液を塗布する工程と、第１加熱工程と、不要な処理液を除去するストリッピング工程と、第２加熱工程と、を具備し、変更する処理条件は、第１加熱工程の加熱温度、ストリッピング工程の処理時間、第２加熱工程の加熱温度のうちの少なくともいずれか１つである。 （もっと読む）

【課題】
例えば、スループットの点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
待ち行列中のジョブの情報に含まれる原版の情報に従って、前記原版を介して基板を露光する露光装置であって、前記原版を保持し且つ移動される原版ステージと、前記原版を待機させる待機部を有し且つ前記原版ステージに前記原版を搬送する搬送手段と、前記待機部で前記原版を待機させるか否かを設定する設定手段と、前記ジョブの情報と前記設定手段による設定とに従って前記搬送手段を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 波面収差を正確かつ効率的に測定しうる測定装置を提供する。
【解決手段】 被検光学系３１の波面収差を測定する測定装置は、被検光学系の収差情報を含む干渉縞を撮像する撮像素子５３と、前記撮像素子により撮像された干渉縞から波面収差を算出する算出部５５ａと、算出部により算出された波面収差に基づいて波面の状態を示す評価値を算出し、該評価値が許容範囲内である場合に該波面収差を被検光学系の波面収差として決定する判定部５５ｂと、を備える。 （もっと読む）

【課題】例えば可撓性を持つ長尺のフィルム状部材を目標とする経路に沿って高精度に搬送する。
【解決手段】フィルム状基板Ｐを搬送するラダー式ステージ装置２８であって、フィルム状基板Ｐを支持するために、フィルム状基板Ｐの移動方向に直交する方向に長手方向が配置される複数のロッド３０Ａ〜３０Ｌと、ロッド３０Ａ〜３０Ｌを閉じたループ状の軌跡に沿って連結するチェーン３２Ａ，３２Ｂと、チェーン３２Ａ，３２Ｂを介してそのループ状の軌跡に沿ってロッド３０Ａ〜３０Ｌを移動する駆動モータ３６Ａとを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ面内の膜厚分布およびエッチングプロセス変動に応じた寸法のバラツキを制御できるように露光条件を決定する。
【解決手段】中間膜又はレジストの膜厚が異なる複数のウェーハの複数領域に対して、領域間で露光量が異なるように露光を行った後、現像処理及びエッチング処理により、フォトマスク上の第１マスクパターンに対応する第１モニタパターン及び第２マスクパターンに対応する第２モニタパターンを前記複数領域の各々の被加工膜に形成し、第１モニタパターンの寸法が所定範囲内となる場合の第２モニタパターンの寸法をウェーハ毎に取得し、データベースを作成する。デバイス量産工程においてＰＰＥの経時変化により第２マスクパターンに対応するパターンの寸法が変動した場合、データベースを参照し、中間膜又はレジストの膜厚を寸法変動が低減するような値に変更する。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数で、耐熱性、耐久性が優れる高分子化合物を使用し、金属の積層量を任意に制御できる金属膜のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】シリコーン系樹脂を含む基板表面に所望のパターンの遮蔽材を被覆する工程、遮蔽材を被覆した基板表面に積算光量１，０００〜１，０００，０００ｍＪ／ｃｍ^２の活性エネルギー線を照射して被照射部分と未照射部分を形成する工程、及び被照射部分と未照射部分を有する基板表面に金属を積層する工程により金属膜のパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】長寸法で、真直案内精度の高いステージ機構を提供する。
【解決手段】第１と第２の弾性支点平行リンクは、それぞれ両端部に弾性ヒンジ部を備え、連結機構の中心線に対称に配置された４個の平行リンクを有し、第１の弾性支点平行リンクの１つの頂点は、可動部の一端と結合し、第１の弾性支点平行リンクの前記１つの頂点に対抗する他の１つの頂点は、第２の弾性支点平行リンクの１つの頂点に結合され、第２の弾性支点平行リンクの１つの頂点に対抗する他の１つの頂点は、フレームに結合され、少なくとも２組の第１と第２の弾性支点平行リンク機構部は、モータの軸の回転に応じて連結機構を介して可動部を所定の距離だけ一方向に適宜移動させると共に前記モータの軸の回転に基づく軸周りの回転に対しては、剛性を保持する。 （もっと読む）

【課題】誤った低いオーバーレイ計算を識別する方法を提供する。
【解決手段】スキャトロメータで１次回折次数と０次回折次数の両方が検出される。１次回折次数はオーバーレイエラーを検出するために使用される。その後、これがバイアスより大きくしかし回折格子のピッチより小さい大きさの誤ったオーバーレイエラー計算である場合、フラグを立てるために０次回折次数が使用される。 （もっと読む）

【課題】２つの光学系を通過した照明光を検出して、その２つの光学系のそれぞれの偏光特性を計測する。
【解決手段】照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＬの偏光特性を計測する方法において、照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬの第１の偏光特性を計測する工程と、照明光学系ＩＬＳと投影光学系ＰＬとの間にプリズム部２２Ａを配置する工程と、照明光学系ＩＬＳ、プリズム部２２Ａ、及び投影光学系ＰＬを通過した照明光ＩＬの第２の偏光特性を計測する工程と、その第１及び第２の偏光特性に基づいて照明光学系ＩＬＳ及び投影光学系ＰＬの各偏光特性を求める工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】脱離ガスによる汚染を低減するラジカル発生装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】ラジカル発生装置は、ラジカル生成ガス５２０からラジカル５６０を生成するホットフィラメント５４０と、ホットフィラメント５４０を収納して、ラジカル５６０が照射される照射口５０５を有し、ラジカル５６０が通過する経路を規定するラジカル生成容器５００と、ラジカル生成容器５００の経路に設けられ、少なくとも表面がタングステン、レニウム、ボロンナイトライド、シリコン酸化物、シリコン炭化物、シリコン窒化物、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムのうち少なくとも一つから構成されている遮蔽板５５０Ａと、を有する。 （もっと読む）

【課題】生産ライン１内の複数の露光装置で使用される複数のレチクルの検査を効率よく実行させることが可能な生産管理装置を提供する。
【解決手段】複数のロットが進行する生産ラインに属する露光装置で露光処理に使用される複数のレチクルに対して検査を管理する生産管理装置１であって、露光処理でレチクルに照射された露光量の積算値を取得するレチクル情報収集部６と、取得されたレチクルの積算露光量と、レチクルの継続使用上限露光量未満に設定された基準値とを比較することにより、検査候補となるレチクルを抽出する検査候補レチクル抽出部７と、抽出された検査候補レチクルが仕掛りロットの露光処理に使用される使用予定期間以外の期間を不使用予定期間として算出する不使用予定期間算出部９と、算出された不使用予定期間内に、抽出された検査候補レチクルの検査を検査装置に実行させるレチクル検査計画実行部１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置等の製造装置において不具合が発生した場合に、その不具合を再現させ、その原因を調査するための再現情報の収集。
【解決手段】製造装置の状態を擬似製造装置によって再現する再現方法は、前記製造装置から出力された動作ログを取得する取得工程と、前記動作ログから抽出キーを使ってパラメータの値を抽出し、抽出したパラメータの値を処理することにより状態再現情報を生成する生成工程と、前記状態再現情報に基づいて前記製造装置の状態を前記擬似製造装置によって再現する状態再現工程とを含み、前記状態再現情報は、前記製造装置に入力された製造条件を示す製造条件情報および前記製造装置の特性を示す特性情報の少なくとも１つを含む。 （もっと読む）

【課題】 被照射面での照度分布をほぼ均一に維持または調整しつつ、被照射面上の各点での瞳輝度分布をそれぞれほぼ均一に調整することのできる照明光学装置の調整方法。
【解決手段】 光源からの光束に基づいて照明瞳面に所定の輝度分布を有する瞳輝度分布を形成し、該瞳輝度分布からの光束で被照射面を照明する照明光学装置の調整方法である。本発明の調整方法は、被照射面上の複数点に関する瞳輝度分布を得る瞳輝度分布獲得工程と、複数点に関する瞳輝度分布をそれぞれ独立に調整するために、照明光学装置の光路中の複数の位置での所要の透過率分布または反射率分布を決定する分布決定工程と、所要の透過率分布または反射率分布を有する複数の調整膜をそれぞれ形成して複数の位置に配置する調整工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板上にパターンを形成する際におけるパターン欠陥の発生を抑制できるパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】パターン形成方法は、基板上に形成する揮発性の硬化性樹脂の量を算出する工程Ｓ１,Ｓ２と、前記基板上に前記算出した量の硬化性樹脂を形成する工程Ｓ３と、前記基板上に形成した前記硬化性樹脂にパターンが形成されたテンプレートを接触させて、前記パターンに前記硬化性樹脂を充填する工程Ｓ４と、前記硬化性樹脂に前記テンプレートを接触させた状態で前記硬化性樹脂を硬化する工程Ｓ４と、前記硬化した硬化性樹脂から前記テンプレートを離して、前記硬化性樹脂にパターンを形成する工程Ｓ４と、前記硬化性樹脂に形成したパターンに基づき、前記基板にパターンを形成する工程Ｓ４とを含み、前記硬化性樹脂の量を算出する工程Ｓ２において、前記硬化性樹脂が揮発により減少する分を見込んで、前記硬化性樹脂の量を算出する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子の微細パターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光マスクなしに単純露光により２次フォトレジストパターンを形成可能な二重露光パターニング工程を用いた半導体素子の微細パターン形成方法が開示される。この半導体素子の微細パターン形成方法は、被エッチング層が形成された半導体基板の上に第１フォトレジストパターンを形成するステップと、前記第１フォトレジストパターンの上に層間鏡膜組成物をコーティングして層間鏡膜を成膜するステップと、前記結果物の上に第２フォトレジスト膜を成膜するステップと、前記第２フォトレジスト膜に露光マスクなしに第２フォトレジスト膜のしきい値エネルギーＥ_ｔｈよりも低い値のエネルギーを有する光により露光および現像を行うことにより、前記第１フォトレジストパターンの間に層間鏡膜の乱反射による第２フォトレジストパターンを形成するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置データを、指定されたデータ定義に従う表現に変換してユーザーに提供する。
【解決手段】情報処理システムは、随時更新されうるデータ定義に従ってデータベースに記録された装置データを利用するように構成され、データ定義バージョンと当該データ定義が使用された期間とが対応付けられたデータ定義履歴の保持部と、データ定義ライブラリと、ユーザーインターフェースを通して装置データを抽出する抽出部と、前記装置データを指定されたデータ定義に従う表現にする変換部とを備える。前記装置データは、半導体製造装置が発生またはそれを処理したデータである。前記変換部は、前記データ定義履歴を参照することによりデータ定義バージョンを特定し、更に、前記データ定義ライブラリを参照することにより、データ定義を特定し、当該装置データを前記指定されたデータ定義に従う表現に変換して前記ユーザーインターフェースに提供する。 （もっと読む）

【課題】長距離フレアのように広い範囲にわたるフレアの情報を正確に計測する。
【解決手段】投影光学系のフレア情報を計測する方法において、その投影光学系を介して、Ｌ＆Ｓパターンの像２Ｐをレジストが塗布されたウエハＷ２に露光する工程と、その投影光学系を介して、照明領域の形状のパターンの像２７ＲＰをウエハＷ２上に重ね合わせて露光する工程と、露光後のウエハＷ２上のＬ＆Ｓパターンの像２Ｐの複数の位置におけるライン部又はスペース部の像の線幅を計測する工程と、その線幅の計測結果からそのフレア情報を求める工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】描画装置又は検査装置等において用いられるステージ上の異物を確実に低減するステージクリーナを提供することを課題とする。
【解決手段】ステージクリーナの、貫通孔１１を有するプレート１２とステージ１０との間に気体を送風することにより、プレート１２とステージ１０とのギャップを一定に保ち、その状態でプレート１２を移動させることによりプレート１２の端部でステージ１０上の異物１３を除去することを特徴とする。このステージクリーナは例えば描画装置等に設置して使用することができる。 （もっと読む）