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Fターム[5F110EE42]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | ゲート (57,237) | 製法 (12,530) | 堆積 (11,688)

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CVD (2,010)

Fターム[5F110EE42]に分類される特許

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【課題】InやZnなどを含む酸化物半導体をチャネル領域に用いたトランジスタを、P型トランジスタのように駆動できる半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタとインバータを有し、インバータの出力はトランジスタのゲートに入力され、トランジスタのチャネル領域はIn、Zn若しくはSnを含む酸化物半導体膜を有し、インバータを構成するトランジスタのチャネル領域はシリコンを有し、インバータにハイ電圧を入力すると、インバータからロー電圧が出力されるとともにトランジスタのゲートにロー電圧が入力されてトランジスタはオフし、インバータにロー電圧を入力すると、インバータからハイ電圧が出力されるとともにトランジスタのゲートにハイ電圧が入力されてトランジスタはオンする半導体装置によって解決する。 (もっと読む)


【課題】 短チャンネル効果が抑制され、メタルS/Dを有するInGaAs−MOSFETの低消費電力化をはかり得る化合物半導体装置を製造する。
【解決手段】 InGaAsをチャネルに用いた化合物半導体装置の製造方法であって、基板上のInGaAs層10上に、ゲート絶縁膜11を介してゲート電極12を形成した後、ゲート電極12の両側に露出するInGaAs層10上に、厚さ5.5nm以下のNi膜14を形成する。次いで、250℃以下の温度で熱処理を施すことにより、Ni膜14とInGaAs層10とを反応させて、ショットキー・ソース/ドレインとなるNi−InGaAs合金層15を形成する。 (もっと読む)


【課題】短時間の電源停止により消費電力を抑えることができ、電源再開時において誤動作を引き起こすことなく初期化することのできる信号処理装置の記憶回路の提供を目的の一つとする。
【解決手段】記憶回路に電源が供給されない間は、揮発性記憶部に記憶していたデータ信号を、不揮発性記憶部に保持する。不揮発性記憶部では、オフ電流が極めて小さいトランジスタを用いることによって、容量素子に保持されたデータ信号は長期間にわたり保持する。こうして、不揮発性記憶部は電源の供給が停止した間も論理状態を保持する。また電源停止時に容量素子で保持されたデータ信号は、電源再開時にはリセット回路を導通状態とすることで、誤動作を引き起こすことのない電位にする。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】酸化物半導体を用いた書き込み用トランジスタ、該トランジスタと異なる半導体材料を用いた読み出し用のトランジスタ及び容量素子を含む不揮発性のメモリセルを有する半導体装置を提供する。メモリセルへの書き込みは、書き込み用トランジスタをオン状態として、書き込み用トランジスタのソース電極と、容量素子の電極の一方と、読み出し用トランジスタのゲート電極とが電気的に接続されたノードに電位を供給した後、書き込み用トランジスタをオフ状態として、ノードに所定量の電位を保持させることで行う。メモリセルの読み出しは、ビット線にプリチャージ電位を供給した後ビット線への電位の供給を止め、ビット線の電位がプリチャージ電位に保たれるか、または電位が下がるか、により行う。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体層を含むトランジスタを有する不揮発性メモリにおいて、保持された情報を容易に消去できる不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】第1のトランジスタ及び第2のトランジスタを有するメモリセルを有し、第1のトランジスタは第1のチャネル、第1のゲート電極、第1のソース電極及び第1のドレイン電極を有し、第2のトランジスタは酸化物半導体からなる第2のチャネル、第2のゲート電極、第2のソース電極及び第2のドレイン電極を有し、第2のソース電極及び第2のドレイン電極の一方は第1のゲート電極と電気的に接続され、メモリセルへの情報の書き込み及び消去は、第2のソース電極及び第2のドレイン電極の一方と、第1のゲート電極との間のノードの電位を高くすることにより情報が書き込まれ、第2のチャネルに紫外線を照射して、ノードの電位を低くすることにより情報が消去される不揮発性メモリによって解決する。 (もっと読む)


【課題】閾値電圧の絶対値及びヒステリシスが小さい有機薄膜トランジスタを製造しうる有機薄膜トランジスタ絶縁層材料を提供すること。
【解決手段】(A)分子内にビニルオキシ基を含有する低分子化合物及び/又は分子内にビニルオキシ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物と、(B)分子内にN−マレオイルアミノ基を含含有する低分子化合物及び/又は分子内にN−マレオイルアミノ基及び活性水素と反応しうる第2の官能基を電磁波の照射もしくは熱の作用により生成しうる第1の官能基を含有する高分子化合物とを、含有し、前記2種類の高分子化合物のうちの少なくとも一方の高分子化合物を含有する有機薄膜トランジスタ絶縁層材料。 (もっと読む)


【課題】電源電位の供給が遮断されたときでもデータの保持が可能で、且つ、低消費電力化が可能なプログラマブルなアナログデバイスを提供する。
【解決手段】アナログ素子を含むユニットセルを複数並列に接続されたプログラマブル回路とし、ユニットセル毎に導通または非導通の切り替えを行う。また、当該ユニットセルのスイッチとして、オフ電流を十分に小さくすることができる第1のトランジスタと、ゲート電極が第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極と電気的に接続された第2のトランジスタと、を含む構成とし、当該第2のトランジスタのゲート電位によってユニットセルの導通または非導通を制御する。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタおよび/または電子デバイスの電荷キャリア移動度を増大させ、高い移動度および優れた安定性を達成する。
【解決手段】薄膜トランジスタの半導体層は、半導体組成物として、ポリマー結合剤および小分子半導体を含む。また、半導体層は、ソース電極およびドレイン電極の間の方向に配列したアライメント層上に堆積されている。アライメント層は、電子デバイスの電界効果移動度を増大させるために使用される。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低温かつ安価な製造工程により作製可能であり、トランジスタ特性に優れる薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供することを主目的とするものである。
【解決手段】本発明は、基板と、ゲート電極と、ゲート絶縁層と、酸化物半導体層と、ソース電極と、ドレイン電極と、を有する薄膜トランジスタの製造方法であって、酸化性ガスを含む雰囲気で酸化物半導体層を形成する酸化物半導体層形成工程と、上記酸化物半導体層形成工程後、上記酸化物半導体層の少なくともチャネル領域に酸素欠損を付与して上記チャネル領域のキャリア濃度を制御するキャリア濃度制御工程と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、優れた動作速度および安定性を有し、低温プロセスでの製造が可能な薄膜トランジスタを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に配置された酸化物半導体層と、上記酸化物半導体層表面にチャネル領域となる間隔を空けて形成された二つの低抵抗層と、上記酸化物半導体層上の一部に形成され、シランカップリング剤を有する界面層と、上記界面層を介して上記二つの低抵抗層とそれぞれ接続するように配置されたソース電極およびドレイン電極と、上記界面層を覆うように形成され、樹脂を含有するゲート絶縁層と、上記チャネル領域を含むように上記ゲート絶縁層上に形成されたゲート電極と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタを提供することにより上記課題を解決するものである。 (もっと読む)


【課題】電力の供給がない状況でもデータの保持が可能、かつ書き込み回数にも制限がない、新たな構造の半導体記憶装置を提供する。また、単位面積あたりの記憶容量を増加させる。
【解決手段】一対の電極と、一対の電極の側壁と接して設けられた絶縁膜と、該絶縁膜を介して一対の電極間に設けられ、一対の電極の上面の高さよりも上面の高さの低い第1のゲート電極と、第1のゲート電極上に設けられた第1のゲート絶縁膜と、第1のゲート絶縁膜および一対の電極と接して設けられた酸化物半導体膜と、少なくとも酸化物半導体膜上に設けられた第2のゲート絶縁膜と、第2のゲート絶縁膜を介して酸化物半導体膜上に設けられた第2のゲート電極と、を有する第1のトランジスタと、一対の電極の一方を介して第1のトランジスタと接続されるキャパシタと、を有し、該キャパシタに保持される電位に応じてデータが記憶されるメモリセルからなる半導体記憶装置である。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ワイドギャップ半導体、例えば酸化物半導体を含むメモリセルを用いて構成された半導体装置であって、メモリセルからの読み出しのために基準電位より低い電位を出力する機能を有する電位切り替え回路を備えた半導体装置とする。ワイドギャップ半導体を用いることで、メモリセルを構成するトランジスタのオフ電流を十分に小さくすることができ、長期間にわたって情報を保持することが可能な半導体装置を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】電源電圧の供給の停止及び再開を行う構成において、揮発性の記憶装置と不揮発性の記憶装置との間のデータの退避及び復帰の必要のない半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性の半導体記憶装置とする際、揮発性の記憶装置と不揮発性の記憶装置を分離することなく構成する。具体的に半導体記憶装置には、酸化物半導体を半導体層に有するトランジスタ及び容量素子に接続されたデータ保持部にデータを保持する構成とする。そしてデータ保持部に保持される電位は、電荷をリークすることなくデータの出力が可能なデータ電位保持回路及び電荷をリークすることなくデータ保持部に保持した電位を容量素子を介した容量結合により制御可能なデータ電位制御回路で制御される。 (もっと読む)


【課題】半導体装置を小型化する。また、メモリセルを有する半導体装置の駆動回路の面積を縮小する。
【解決手段】少なくとも第1の半導体素子を有する素子形成層と、素子形成層上に設けられた第1の配線と、第1の配線上に設けられた層間膜と、層間膜を介して第1の配線と重畳する第2の配線と、を有し、第1の配線と、層間膜と、第2の配線と、は、第2の半導体素子を構成し、第1の配線と、第2の配線と、は、同電位が供給される配線である半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いたトランジスタを有する表示装置において、寄生容量を軽減する。表示装置において、解像度の向上や、高精細化といった高性能化及び高品質化を達成する。
【解決手段】ボトムゲート型のトランジスタにおいて、酸化物半導体膜と重畳して設けられるゲート電極が第1のゲート電極と第2のゲート電極とに間隔を有して分割して設けられる。第1のゲート電極はソース電極又はドレイン電極の一方と重畳して設けられ、第2のゲート電極はソース電極又はドレイン電極の他方と重畳して設けられる。 (もっと読む)


【課題】紫外線照射による表面自由エネルギーの変化が大きい積層構造体並びに該積層構造体を有する電子素子アレイ、画像表示媒体及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】積層構造体10は、基板11上に、ポリイミドを含む濡れ性変化層12及び導電体層13が順次積層されており、ポリイミドは、ポリアミド酸を脱水閉環させて得られ、ポリアミド酸は、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を開環重付加させて得られ、ジアミンは、一般式(1)で表される化合物を含む。
(もっと読む)


【課題】消費電力を抑えることができる記憶回路の提供を目的の一つとする。
【解決手段】記憶回路に電源が供給されない間は、揮発性のメモリに相当する記憶部に記憶されていたデータを、不揮発性のメモリに相当する記憶部に設けられた容量素子によって保持する記憶回路である。不揮発性記憶部では、酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタを用いることによって、容量素子に保持された信号は長期間にわたり保持することができる。こうして、記憶回路は電源の供給が停止している間も論理状態(データ信号)を保持することが可能である。また酸化物半導体層にチャネルが形成されるトランジスタのゲートに印加する電位を、電源電位を供給する配線と前記トランジスタのゲートとの間に設けられた昇圧回路によって高くすることで、1つの電源電位であっても誤動作なくデータ信号の保持を行うことが可能である。 (もっと読む)


【課題】消費電力を低減することが可能な新たな構造の半導体装置及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】メモリセルは、容量素子と、第1のトランジスタと、第1のトランジスタよりオフ電流の小さな第2のトランジスタとを有する。第1のトランジスタは、第2のトランジスタよりもスイッチング速度が速い。第1のトランジスタと第2のトランジスタと容量素子とは直列に電気的に接続されている。容量素子への電荷の蓄積、及び容量素子からの電荷の放出は、第1のトランジスタと第2のトランジスタの両方を介して行われる。こうして、半導体装置の消費電力を少なく、且つ情報の書き込み及び読み出し速度を高速化することができる。 (もっと読む)


【課題】不揮発性メモリを提供する。
【解決手段】一般的なSRAMと同様の回路構成を有し、該SRAMの記憶保持部と電源電位線の間にオフ電流の小さいトランジスタを配することで、記憶保持部からの電荷の漏れが防止された半導体装置(不揮発性メモリ)とする。ここで、記憶保持部からの電荷の漏れを防止するためのオフ電流の小さいトランジスタとしては、酸化物半導体膜により設けられたトランジスタを用いることが好ましい。このような構成はシフトレジスタにも適用することができ、消費電力の小さいシフトレジスタを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路における消費電力を低減すること。また、半導体集積回路における動作の遅延を低減すること。
【解決手段】記憶回路が有する複数の順序回路のそれぞれにおいて、酸化物半導体によってチャネル形成領域が構成されるトランジスタと、該トランジスタがオフ状態となることによって一方の電極が電気的に接続されたノードが浮遊状態となる容量素子とを設ける。なお、酸化物半導体によってトランジスタのチャネル形成領域が構成されることで、オフ電流(リーク電流)が極めて低いトランジスタを実現することができる。そのため、記憶回路に対して電源電圧が供給されない期間において当該トランジスタをオフ状態とすることで、当該期間における容量素子の一方の電極が電気的に接続されたノードの電位を一定又はほぼ一定に保持することが可能である。その結果、上述した課題を解決することが可能である。 (もっと読む)


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