【課題】高透過率と低抵抗を兼備した優れた特性を備え、高品位な画像を得ることができる透明導電性基板、及び電気化学表示素子を提供する。
【解決手段】透明基板と、透明基板の上に形成されたパターン化された金属電極膜と、金属電極膜を含む透明基板の上に形成された透明絶縁膜と、透明絶縁膜の上に形成された透明導電膜と、を備え、透明導電膜は、透明絶縁膜に設けられた開口部を通して金属電極膜に電気的に接続されている透明導電性基板であって、金属電極膜のパターン形状は、縦横にそれぞれ延在する縦パターンおよび横パターンからなる格子状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル用導電膜として好適な導電性を有し、モアレが十分に低減され、タッチパネル特性に優れるタッチパネル用導電膜を提供する。
【解決手段】銀を含有する導電層１４を有するタッチパネル用導電膜１０であって、導電層１４は銀塩乳剤層１６を露光現像して形成されたものであり、銀塩乳剤層１６の塗布銀量が１．１〜２．５ｇ／ｍ²であり、導電層１４がピッチ６００μｍ以上のメッシュパターンに形成され、導電層１４の表面抵抗が１０００〜２５００オーム／ｓｑ．である。 （もっと読む）

本発明は、低電気シート抵抗及び高光透過性の所望の組み合わせを有する光透過性導電層を提供する。導電層は、平面内に多数の磁性ナノ構造を含み、これらの磁性ナノ構造は、複数の略平行な連続する導電経路となるように配列され、導電層が高い光透過性を示すことが可能な密度を有している。磁性ナノ構造は、ナノ粒子、ナノワイヤ、又は複合ナノワイヤとすることができる。複合磁性ナノワイヤは、ニッケル又はコバルトのような磁性金属層により被覆される銀ナノワイヤを含むことができる。更に、複合磁性ナノワイヤは、磁性金属ナノワイヤに取り付けられるカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含むことができる。基板上に導電層を形成する方法は、多数の磁性ナノ構造を基板に堆積させる工程と、磁界を印加して、基板の表面に平行な複数の導電経路となるようにナノ構造を形成する工程とを含む。
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【課題】感度が高く、破断等に強いタッチパネル入力装置のための透明導電層化構造等を提供する。
【解決手段】タッチパネル入力装置のための透明導電層化構造で、基板４及び層状導電体５を有する。層状導電体５は、基板４上に形成され、導電性高分子の膜を有する透明第一導電層５２と、基板４と反対側の第一導電層５２上に形成され、導電性金属及び／あるいは金属化合物を有する第二導電層５１とを有する。第二導電層５１は、第一導電層５２より大きい導電率を有する。 （もっと読む）

【課題】赤外波長の透過率が高く、かつシート抵抗の小さい金属ナノワイヤーを含有する透明導電層を有し、変換効率の高い太陽電池の提供。
【解決手段】波長１，１００ｎｍ以上２，０００ｎｍ以下の電磁波の平均透過率が８０％以上であり、かつシート抵抗が２０Ω／□以下である透明導電層５００を備えた太陽電池であって、前記透明導電層５００が、金属ナノワイヤーを含有する太陽電池である。該透明導電層５００における厚み方向の導電性に対して平面方向の導電性が大きい態様、該金属ナノワイヤーが、直径５０ｎｍ以下であり、かつ長さ５μｍ以上の金属ナノワイヤーを、全金属粒子中に金属量で５０質量％以上含む態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性および耐水性が共に優れた導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、エポキシエマルジョンと、溶媒とを含有し、エポキシエマルジョンの含有量（固形分換算）が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の１〜５００質量％である。 （もっと読む）

【課題】視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチスイッチを提供する。
【解決手段】透明基板１１の一方面にパターニングされた透明導電膜１２を有する透明面状体であり、透明基板１１と透明導電膜１２との間に介在される単層のアンダーコート層１３と、透明導電膜１２およびアンダーコート層１３の表面を覆う被覆層１４とを備えており、透明基板１１の他方面１１ａ側から透明導電膜１２が形成されている領域に照射される光の反射光における波長毎の反射率である各第１分光反射率に、光の波長毎に設定される各標準比視感度を乗じて得られる波長毎の各第１視感反射率と、各第２分光反射率に、光の波長毎に設定される前記各標準比視感度を乗じて得られる波長毎の各第２視感反射率との差の各絶対値についての３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲における積分値が、７．４以下である透明面状体１。 （もっと読む）

【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｃ１）金属ナノ粒子および金属ナノファイバーの少なくとも一方からなる導電性物質とを含む前駆体分散液、または、前記（Ａ）の反応生成物と、前記（Ｂ）の反応生成物と、（Ｃ２）還元雰囲気下での加熱により金属ナノ粒子を析出する導電性物質前駆物とを含む前駆体液を、透明基材上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施す。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に対する接触抵抗が小さい上に耐溶剤性が高い導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、水溶性エポキシ樹脂と、導電性化合物と、溶媒とを含有し、水溶性エポキシ樹脂の含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の１〜５００質量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、透明導電膜及びそれを備えた透明電極に関する。より詳しくは、表面に凹凸が形成された酸化亜鉛系透明導電膜に関し、前記凹凸は、稜線部が突出部の突出方向に弧を描くか、または、突出部の先端が頂点を有する場合は、該頂点を中心に２つの稜線部のなす角が９０゜以上の鈍角である突出部を含む。本発明の透明導電膜は、湿式エッチング工程を必要とせず、スパッタリング工程のみで形成される。 （もっと読む）

【課題】
透明導電膜付基板について、ＩＴＯ部分のみを後に回収する場合、簡便な手法によって行う。
【解決手段】
基板（１）と、第１の透明導電膜（２）と、前記第１の透明導電膜に対して、前記基板が配置された側とは反対側に配置された第２の透明導電膜（３）とを有し、前記第１の透明導電膜は、Ｚｎ，Ｓｎ，Ｔｉ，Ｖ，Ｎｉ、もしくはＳｉの酸化物を含有し、前記第２の透明導電膜は、酸化インジウムを主成分とし、前記第１の透明導電膜のエッチングレートは前記第２の透明導電膜のエッチングレートより大きく、前記第１の透明導電膜の膜厚は１０ｎｍ以上であり、前記第１の透明導電膜は、Ｂ，Ａｌ、もしくはＧａを含有することを特徴とする透明導電膜付基板。 （もっと読む）

【課題】低抵抗な耐薬品性に優れた非晶質酸化錫系透明導電膜を提供する。
【解決手段】（ａ）原料化合物粉末を混合して混合物を調製する工程；（ｂ）前記混合物を成形して成形体を調製する工程；及び（ｃ）前記成形体を１１００℃以上１３８０℃以下で２時間以上焼成する工程を含む、酸化物焼結体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 簡単なプロセスで安価に製造することができる低抵抗率の透明導電体及びその製造方法、その透明導電体を用いた車両のパネルを実現する。
【解決手段】 まず、液状リン酸を主成分とする溶媒とスズを含む化合物及び銅を含む化合物とを混合し、混合生成物を作製する。次に、混合生成物をガラス基板に塗布した後に加熱処理する。加熱処理は、所定の焼成雰囲気において、脱水反応などの反応が起きる温度まで昇温し、所定時間保持することにより行う。そして、加熱処理された混合生成物を冷却固化させる。これにより、ガラス基板に塗布された混合生成物は、ガラス基板上に透明導電体の膜として形成される。 （もっと読む）

本発明は、プラスチックフィルム上に有機電極層が形成された透明電極を開示するところ、フィルム厚さ５０〜１００μｍを基準に熱機械分析法によって５０乃至２５０℃範囲で測定した平均線膨脹係数(ＣＴＥ)が５０．０ｐｐｍ/℃以下であり、黄色度が１５以下であるポリイミドフィルムと、及びフィルム厚さ５０〜１００μｍを基準で熱機械分析法によって５０乃至２５０℃範囲で測定した平均線膨脹係数(ＣＴＥ)が５０．０ｐｐｍ/℃以下で黄色度が１５以下であるポリイミド樹脂上に、伝導性物質が分散された電極層を含むことで耐熱性が優秀で、これを含む機器が過熱されるか、または高温である場合にも短絡されるなどの問題を起こさないで透明で電気伝導度が高い透明電極を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】レアメタルであるインジウムを使用せず、酸化亜鉛を使用し、高い電気伝導性を備えた透明導電膜付き基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜をマグネトロンスパッタリング法により成膜し、前記成膜工程において基板にバイアスを印加して成膜すること、および、印加するバイアスは、成膜の初期段階でのバイアスの値がＲ０、初期段階後のバイアスの値がＲとすると、Ｒ０/Ｒを１．２〜２．５にすることにより課題を達成した。 （もっと読む）

【課題】画像表示装置上に設置した際に画像表示装置の画像の視認性に優れると共に動作不良が防止された入力デバイスを提供する。
【解決手段】本発明の入力デバイス１は、第１の透明導電膜１２と、第１の透明導電膜１２に対向するように配置された透明導電性金属酸化物製の第２の透明導電膜２２とを備え、第１の透明導電膜１２が押圧された際に第２の透明導電膜２２に接触し、第１の透明導電膜１２は、π共役系導電性高分子とポリアニオンと平均粒子径が０．１〜１０μｍの金属粒子とを含有する。 （もっと読む）

本発明は、金属ナノベルト、その製造方法、それを含む導電性インク組成物および伝導性フィルムに関する。前記金属ナノベルトは、高温および高圧を適用する必要なく、常温および常圧で容易に製造可能であるばかりか、それを含む導電性インク組成物を基板上に印刷した後に低温で熱処理または乾燥工程を行っても、優れた導電性を示す導電膜または導電性パターンなどを形成することができる。したがって、前記金属ナノベルトおよびそれを含む導電性インク組成物は、低温焼成が要求される環境下で、各種半導体素子、表示装置、または太陽電池の導電性パターンまたは導電膜などを形成するのに非常に適切に適用される。前記金属ナノベルトは、長さが５００ｎｍ以上であり、長さ／幅の比が１０以上であり、幅／厚さの比が３以上である。
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【課題】希少資源であるインジウムの使用量を削減と、透明導電膜の抵抗値（導電性）・耐薬品性・耐久性を併せ持つ透明導電性基材を提供すること。
【解決手段】
基材４の少なくとも一方の面上に、基材に近い層から順に第１の透明導電膜１、第２の透明導電膜２、第３の透明導電膜３の少なくとも３層が形成されており、第１の透明導電膜及び第３の透明導電膜が錫ドープ酸化インジウムからなり、第２の透明導電膜が酸化亜鉛を主成分とすることを特徴とする透明導電性基材とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた保存安定性を備えながら、良好な導電性および透明性を有する膜を形成することができる透明導電性膜形成用前駆体液を提供する。
【解決手段】 透明導電性膜形成用前駆体液は、（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む透明導電性膜形成用前駆体液であって、硝酸および塩酸の少なくとも一方を含有する。 （もっと読む）

【課題】 優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性基板を製造する、透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ドーパントとしてニオブまたはタンタルがドープされたドープ酸化チタンのアモルファスまたは酸化チタンのアモルファスからなる第一の膜の上に、該第一の膜を構成するドープ酸化チタンまたは酸化チタンのドーパント含有比率よりも高い含有比率で前記ドーパントがドープされたドープ酸化チタンのアモルファスからなる第二の膜が積層されてなる積層膜を、透明基材上に形成した後に、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）