【課題】インクジェットプリンタを用いた塗布法によって良好なパターン形状を形成できる透明導電膜形成用インクを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜形成用インクは、透明導電性粒子と、分散剤と、表面改質剤と、溶媒とを含み、前記溶媒の含有量は、前記インク全体の重量に対して、５５〜８５重量％であり、前記溶媒は、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル及びジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートからなる群から選らばれる少なくとも一種であり、表面張力を２３ｍN／ｍ〜２７ｍN／ｍ、固形分濃度を１５重量％〜４５重量％でることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無機材料、デバイス及び有機電界発光素子に関する。特に、効率に優れ、素子寿命の長いデバイス及び有機電界発光素子及び該デバイス及び有機電界発光素子に用いる電極材料として有用な無機材料を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるホスフェート化合物で修飾されたことを特徴とする無機材料。
Ｔ−ＯＰＯ（ＯＨ）_２・・・・・・（１）
〔式中、Ｔはフッ素原子を含む炭素数５個以上の長鎖アルキル基を含む基、アリール基を含む基、又はヘテロアリール基を含む基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】延展性試験、疲労試験において表面抵抗値変化が極めて少なく、柔軟性に優れ、さらに環境安定性や銀ペーストとの相性もきわめて良好な透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 透明な有機高分子フィルムの基板上に、透明な有機高分子導電性化合物層が形成され、さらにその上に透明な無機導電性化合物層が形成されている透明導電性フィルムであって、該無機導電性化合物層が形成されている面の二乗平均粗さＲｍｓが０．１〜８ｎｍであり、十点平均粗さＲｚが３〜３０ｎｍであることを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】付着した指紋が目立たず、帯電防止性に優れ、ディスプレイ画像の視認性に優れたディスプレイ用表面材と、その製造方法と、その面材を備えたディスプレイとを提供する。
【解決手段】ディスプレイの表面に配置されて用いられるディスプレイ用表面材である。ポリオレフィン樹脂と金属酸化物とを含有する機能層が基材上に設けられている。ポリオレフィン樹脂１００質量部に対して金属酸化物を２００〜４５００質量部含有する。ポリオレフィン樹脂が、不飽和カルボン酸またはその無水物と、オレフィン化合物と、側鎖に酸素原子を含むエチレン性不飽和化合物との３成分を含む共重合体であって、不飽和カルボン酸またはその無水物の含有率が０．０１質量％以上５質量％未満であり、（オレフィン化合物）／（側鎖に酸素原子を含むエチレン性不飽和化合物）＝７５／２５〜９９／１（質量比）である。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で高い仕事関数を有し、透明陽極から発光層への正孔注入効率を高くすることが可能な有機ＥＬ用透明陽極基板、ならびに該透明陽極基板を簡便な塗布法にて製造することができる、有機ＥＬ用透明陽極基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなり、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下である透明導電性膜からなる有機ＥＬ用透明陽極基板であって、（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む前駆体液を透明基材上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱するアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基材上に形成するものである。 （もっと読む）

【課題】透明基材としてのガラス基板の表面処理と導電性無機粒子の体積含率を含めたコーティングコーティング組成物とを、特定の要件を満たすようにして、製品の製造段階においてはモジュール等への組み立て工程中の洗浄工程に耐えうる硬度や耐溶剤性を保持し、帯電防止機能が高くかつ透明性に優れる透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜は、透明基材の上に、導電性無機粒子と樹脂成分と含むコーティング組成物を塗布した透明導電膜あって、前記透明基材は、該基材表面をシランカップリング剤で処理したガラス基板であり、前記導電性無機粒子の前記組成物における体積含率が、２５％以上５５％以下であり、前記樹脂成分は光硬化モノマーと開始剤とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポットライフに優れた組成物を用いて形成され、耐擦傷性、耐ブロッキング性、印刷インクに対する密着性、及び印刷インクの印刷精度に優れるアンカーコート層を有する電磁波シールド層形成用基材の製造。
【解決手段】透明基材２０１上に、活性水素を含む基を有する合成樹脂、少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネート、及び有機金属触媒を含む組成物を塗布し、硬化させることによりアンカーコート層２０２を形成する工程を有し、前記有機金属触媒の含有量が、前記組成物の全固形分に対して０．５〜１．０質量％である電磁波シールド層形成用基材。 （もっと読む）

【課題】タングステン酸化物や複合タングステン酸化物を用いた高い導電性を持つ安価な透明導電膜の製造方法及び得られる透明導電膜、それを用いた透明導電部材、並びに、電子ディスプレイ機器、太陽電池の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるタングステン酸化物（Ａ）、及び／または一般式（２）で示される複合タングステン酸化物（Ｂ）を含む透明導電膜の製造方法であって、原料粉末として、平均粒径が０．０５〜５．０μｍ、及び最大粒子径が１５．０μｍ以下であるタングステン酸化物、及び／または複合タングステン酸化物を用い、エアロゾルデポジション法で、透明基材上に透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法など。透明導電膜は、５．０×１０^−３Ω／□を下回る導電性を持ち、これを組み入れることで透明導電部材、並びに、電子ディスプレイ機器、太陽電池を安価に製造できる。
ＷｙＯｚ・・・（１）
ＭｘＷｙＯｚ・・・（２） （もっと読む）

【課題】導電性、透過率が高く、かつ実用上十分な優れた密着性および耐久性を有し、低温成膜が可能でアニール前後の抵抗率変化の少ない透明導電薄膜を提供する。
【解決手段】透明基板３２の少なくとも一方の面上に、無機酸化物層２、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）薄膜層１をこの順に積層した透明導電薄膜において、無機酸化物層２が、高屈折率金属酸化物層２２、低屈折率無機酸化物層２１の順に積層され、前記ＩＴＯ薄膜層が２層１１，１２からなり、高屈折率金属酸化物層２２の屈折率が１．７〜２．８、膜厚が５〜５０ｎｍであり、低屈折率無機酸化物層２１の屈折率が１．２〜１．５、膜厚が１０〜１００ｎｍであり、ＩＴＯ薄膜層１の最表面の層１１の酸化スズの含有量が、ＩＴＯ薄膜層の他の層１２の酸化スズの含有量より大きいことを特徴とする、透明導電薄膜。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は表面平滑性・導電性・透明性に優れ、かつ生産性の高い透明電極およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】透明支持体上に金属ナノワイヤおよび導電性高分子を含む導電層を有する透明電極の製造方法において、金属ナノワイヤおよびバインダーを含む液を塗布することにより第一導電層を形成する工程、前記バインダーを架橋または硬化する工程、導電性高分子および非導電性高分子を含有する水系分散液を第一導電層の上に塗布し第二導電層を形成する工程および金属ナノワイヤ除去液をパターン印刷し水洗する工程を有することを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】視認性と発熱性に優れた透明性の発熱体（透明発熱体）に用いて好適な透明導電体を提供する。
【解決手段】対向して配置された第１電極１２ａ及び第２電極１２ｂと、第１電極１２ａ及び第２電極１２ｂ間に配置された透明導電部１４とを有する第１透明導電体１０Ａであって、透明導電部１４は、１つの透明フイルム基材上に形成された複数の導電性の金属細線によるメッシュパターン１８を有し、このメッシュパターン１８は、第１電極１２ａと第２電極１２ｂ間の電気抵抗分布が変化するパターンにて形成されている。 （もっと読む）

【課題】高価な真空製膜装置を用いることなく、低コストで、光の透過性が良く、光起電装置、ＬＥＤ、照明、ディスプレイなどに用いられる透明導電膜として好適に用いることができる透明導電性組成物およびその導電層を提供すること。
【解決手段】硬化性物質と、導電性物質を含有する多孔質微粒子を含有する導電性組成物で、好ましくは、多孔質微粒子の空隙率が５０〜９０％、平均粒径が３０ｎｍ〜５μｍあり、多孔質微粒子が、珪素又はジルコニウムの元素を含有する酸化物多孔質微粒子である導電性組成物。 （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる透明導電性積層体、およびこのような透明導電性積層体を用いた透明タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明有機高分子基板（１６）の少なくとも一方の面上に、凹凸表面を有する硬化樹脂層（１５）と透明導電層（１４）とが順次積層された透明導電性積層体（１４、１５、１６）であって、硬化樹脂層が、硬化樹脂成分、および硬化樹脂成分中に分散している金属酸化物超微粒子Ａおよび金属フッ化物超微粒子Ｂを有し、超微粒子ＡおよびＢの含有量はそれぞれ、１質量部以上２０質量部未満であり、その質量比（Ａ／Ｂ）が、０．５以上２．０以下であり、かつ硬化樹脂層の膜厚が０．１５μｍ以上１．０μｍ未満であることを特徴とする、透明導電性積層体とする。またこのような透明導電性積層体（１４、１５、１６）を有する透明タッチパネル（２０）とする。 （もっと読む）

【課題】優れた塗膜強度、即ち耐摺動特性を有する透明導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シート１０は、透明基材１１と、透明基材１１の上に形成された透明導電膜１２とを含む透明導電性シート１０であって、透明導電膜１２は、透明導電性粒子と、炭素数５〜１６の炭化水素鎖を有する表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含み、透明導電膜１２は、ガラス転移温度が５０〜９０℃である。本発明の透明導電性シート１０の製造方法は、透明基材１１の上に、透明導電性粒子と、表面処理剤と、熱可塑性樹脂とを含むコーティング組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、上記塗膜をカレンダ処理して透明導電膜１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗率が高く、かつ表面抵抗率の材料内での場所による均一性が高く、メッシュ細線の視認性が低い透明導電性材料を提供する。
【解決手段】透明支持体上に断線部を設けた金属細線で描画された任意のメッシュパターンを有する透明導電性材料である。特に、表面抵抗率が１００〜１０００Ω／□であることが好ましい。アナログ方式の抵抗膜式タッチパネル用の電極材として好適な、表面抵抗率が高く、かつ均一であり、メッシュ細線の視認性が低い透明導電性材料である。 （もっと読む）

【課題】 表面抵抗値が高く、かつ、信頼性の高い透明導電積層体を製造することが可能な透明導電積層体の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明の透明導電積層体の製造方法は、透明基材フィルム１１上に透明導電層１２が形成された透明導電積層体の製造方法であって、スパッタリング用ガスおよび酸素ガスを含む混合ガス中において、Ｉｎ_２Ｏ_３およびＳｎＯ_２を含むターゲットを用いたスパッタリング法により、前記透明基材フィルム１１上に前記透明導電層１２を形成する透明導電層形成工程を含み、前記ターゲットが、さらに、第３の成分を含み、前記ターゲットにおける前記Ｉｎ_２Ｏ_３と前記ＳｎＯ_２との合計含有割合に対する前記ＳｎＯ_２の含有割合が、２０〜４５重量％の範囲であり、前記混合ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が、１〜５体積％の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】湿熱耐久性、透明性及び導電性に優れた導電性膜、導電性ポリマー材料、デバイス、及び抵抗膜式タッチパネルの提供。湿熱耐久性、透明性及び導電性に優れた導電性膜を形成し得る導電性ポリマー組成物の提供。
【解決手段】本発明の導電性膜は、導電性ポリマーと、ドーパントと、該ドーパントと錯体を形成しうる無機イオンと、を含む。本発明の導電性膜は、その表面に、ドーパントと錯体を形成しうる無機イオンを局在させることが望ましい。本発明の導電性ポリマー材料、デバイス、及び抵抗膜式タッチパネルは、前述の導電性膜を備える。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物を主とした透明導電膜、該透明導電膜の製造方法、および該透明導電膜を含むデバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電膜１６は、基材１２上に成膜された、添加金属元素を含む金属酸化物の非晶質の前駆体膜１４に対し、高周波電界中で希ガスを主として含むガスのプラズマに暴露し、かつ還元条件下での改質処理を施すことにより得られる。
本発明では、非晶質の前駆体膜１４をプラズマに暴露させた後、還元雰囲気下でアニール処理を施すことによって還元条件下での改質処理を行うことができる。本発明では、上記金属酸化物は、チタンを主とする金属元素とし、ニオブを前記添加金属元素とする酸化物とすることができる。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド性能（導電性）と印刷適性を両立した、電磁波シールドフィルムを簡便・安価に製造し得るポリマー型導電性ペーストを提供する。
【解決手段】グラビア印刷用導電性ペーストは、有機バインダー、導電粉末、着色剤、および有機溶剤を含有する導電性ペーストであって、前記有機溶剤が７６０ｍｍＨｇおける沸点が２４０〜３３０℃の範囲である溶剤を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、ａ）ＵＶ硬化型官能基含有バインダー樹脂；ｂ）フッ素系ＵＶ硬化型官能基含有化合物；ｃ）光開始剤；ｄ）ナノ微粒子；およびｅ）導電性無機粒子を含むことを特徴とするコーティング組成物およびコーティングフィルムを提供する。 （もっと読む）