【課題】導電性を有し、着色あるいは変色のない五酸化アンチモン微粒子を提供する。
【解決手段】リン酸化物を、Ｐ₂Ｏ₅として０．１〜１５重量％の範囲で含有してなることを特徴とするリン含有五酸化アンチモン微粒子。五酸化アンチモン微粒子の平均粒子径が５〜５０ｎｍの範囲にある。リン酸化物が、五酸化アンチモン微粒子に担持されてなる。前記リン含有五酸化アンチモン微粒子が、鎖状に連結し、平均連結数が２〜３０個の範囲にある。五酸化アンチモン微粒子の体積抵抗値が１〜１０³Ω・ｃｍの範囲にあることを特徴とする請求項４に記載のリン含有五酸化アンチモン微粒子。五酸化アンチモン微粒子分散液に、リン化合物を添加したのち、８０〜２５０℃で０．５〜１２時間、乾燥加熱処理して得られたものである。 （もっと読む）

【課題】平滑性、導電性、透明性に優れ、かつ生産性の高い透明電極を提供する。また、それを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】透明支持体上に、透明樹脂層、金属ナノワイヤ含有導電層、及び導電性高分子層が、この順に設置されていることを特徴とする透明電極。前記透明電極の全光線透過率が、５０％以上の透明性を有し、前記金属ナノワイヤの一部が、前記透明樹脂層に埋没し、前記透明樹脂層の膜厚が、前記金属ナノワイヤ含有導電層の膜厚の１０％以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】グラフェンの製造方法、その製造方法によって製造されたグラフェン、そのグラフェンからなる導電性薄膜、透明電極、放熱素子または発熱素子を提供する。
【解決手段】本発明のグラフェンの製造方法は、（ａ）ベース部材１１０と、前記ベース部材上に形成された親水性酸化層１２０と、前記酸化層上に形成された疎水性金属触媒層１３０と、前記金属触媒層上に形成されたグラフェン層１４０とを含むグラフェン部材を準備する段階と、（ｂ）前記グラフェン部材に水を提供する段階と、（ｃ）前記酸化層から前記金属触媒層を分離する段階と、（ｄ）エッチング法を用いて前記金属触媒層を除去する段階とを含む。前記グラフェン上には転写部材１５０が配置される。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた導電性微粒子分散液、透明性に優れ、且つ、帯電防止機能を有する硬化膜を基材の表面に形成することができる導電性微粒子含有光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化膜を提供し、また、特に高屈折率の透明導電膜形成用として有用なこれら分散液、組成物、及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子、金属錯体及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子分散液と、導電性微粒子、金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子含有光硬化性組成物と、この導電性微粒子含有光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化物膜である。 （もっと読む）

【課題】 高温での加熱処理や大掛かりな設備を必要とせずに、電気伝導性および基板との密着信頼性に優れた透明導電性膜を有する透明導電性膜積層体を提供する。
【解決手段】 透明導電性膜積層体は、ａ）透明基材上に、ポリアミド酸溶液を塗布・乾燥し、ポリアミド酸層を形成する工程、ｂ）銀イオンをポリアミド酸層に付着させる工程、ｃ）銀イオンを還元して金属銀粒子を析出させる工程、ｄ）湿式めっき法により、金属銀粒子を触媒核として、ポリアミド酸層の表面に酸化亜鉛を含む透明導電性膜を形成する工程、および、ｅ）透明導電性膜が形成されたポリアミド酸層を加熱してイミド化することにより、ポリイミド樹脂層のバインダー層を透明基材と透明導電性膜との間に介在させた透明導電性膜積層体を形成する工程、により製造される。 （もっと読む）

【課題】低コストで低抵抗化を実現可能な透明導電体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に設けられた透明導電体の製造方法であって、透明導電体は、アナターゼ型ＴｉＯ_２の酸素をフッ素に置換して得られるアナターゼ型結晶構造を有するＦ：ＴｉＯ_２であり、パルスレーザ堆積法を用い、制御された酸素分圧の雰囲気下において、ＴｉとＦとからなる化合物にパルスレーザを照射し、３００℃以上６５０℃以下加熱された基板１１上に反応生成物をエピタキシャル成長させることにより行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性及び透明性、エッチング性に優れたパターン電極の製造方法及び当該製造方法により製造したパターン電極を提供する。
【解決手段】支持体上に形成された金属微粒子を含有する導電層からなるパターン電極の製造方法であって、支持体上に金属微粒子含有液を塗設して導電層を形成する工程、当該導電層の上に金属微粒子除去液をパターン印刷する工程、及び洗浄工程を有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターン形状を目立たなくする上で有利な透明導電性積層体およびその製造方法並びに静電容量タッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基板としての透明基材１１の両面に光学機能層の一部を構成するＵＶ硬化性樹脂層１２および１２’を形成し、一方のＵＶ硬化性樹脂層１２上に光学機能層の残りを構成する光学機能層１３を形成する。次に、光学機能層１３の上に透明導電膜１４を形成する。次に、透明導電膜１４に導電性パターン領域と非導電性パターン領域とを形成する（パターニングする）。次に、導電性パターン領域および非導電性パターン領域の表面に有機層としてのＵＶ硬化性樹脂１５を形成する。これにより、透明導電性積層体１０を得た。 （もっと読む）

【課題】低抵抗化を実現可能な導電体基板、導電体基板の製造方法、デバイス及び電子機器を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に設けられ、Ｃａ_２Ｎｂ_３Ｏ_１０からなるシード層と、前記シード層上に設けられ、Ｎｂがドープされたアナターゼ型構造の二酸化チタンの結晶を含む導電層とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡便な製造方法でありながら、導電性に優れ、かつ金属配線を設計どおりの微細なパターンに形成可能であり、その形状が均一である透明導電基板とすること。
【解決手段】透明基板層と、前記透明基板層の表面に形成された金属配線と、を備える透明導電基板の製造方法であって、（１）透明基板層２２の表面に、厚さ４０ｎｍ〜２０００ｎｍの金属層２４ａを形成させる工程と、（２）前記金属層２４ａの表面に、特定の化合物（ａ）を含む自己組織化膜２６を形成させる工程と、（３）前記自己組織化膜２６の表面の少なくとも一部を、樹脂層２８で被覆する工程と、（４）前記樹脂層２８により被覆されていない前記金属層２４ａの部分をエッチングにより除去することにより、金属配線２４を形成させる工程と、を含む透明導電基板２０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れた反射防止性、帯電防止性、耐擦傷性、密着性、防汚性を有し、かつ生産性に優れた反射防止フィルムを提供すること。また、反射防止フィルムが取り扱われる環境に依存せず帯電防止性に優れた反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】支持体上に、下記（Ａ）及び（Ｂ）を含む低屈折率層用組成物を用いて形成される低屈折率層を有する反射防止フィルムであって、前記支持体に対して前記低屈折率層を有する側の表面の表面抵抗率ＳＲ（Ω／ｓｑ）の常用対数ｌｏｇ（ＳＲ）が１３．０以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
（Ａ）重合性基を有する多官能フッ素含有モノマー
（Ｂ）π共役系導電性高分子とアニオン基を有する高分子ドーパントとを含む疎水化処理された導電性高分子組成物 （もっと読む）

【課題】透明導電膜が形成される側の表面と反対側の裏面が優れた表面硬度を有するタッチパネルの透明基板に好適な透明樹脂積層板を提供することである。
【解決手段】表面１０ａに透明導電膜２１が形成される透明樹脂積層板１０であって、ポリカーボネート樹脂層１と、該ポリカーボネート樹脂層１の透明導電膜２１が形成される側の片面１ａと反対側の他面１ｂに積層されるアクリル樹脂層２と、を備えるようにした。ポリカーボネート樹脂層１の厚みが、全体の厚みの５０％以上であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に少なくとも２層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には前記少なくとも２層のアンダーコート層を有し、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層は厚みが１００〜２２０ｎｍであり、かつ、有機物により形成されていることを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】干渉縞の発生が抑制され、且つ耐ブロッキング性に優れたタッチパネル用ハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】フィルム基材１の両面にそれぞれハードコート層２，３を積層したタッチパネル用ハードコートフィルムである。上記フィルム基材１の一方の面に積層したハードコート層を第１面ハードコート層２と定義し、他方の面に積層したハードコート層を第２面ハードコート層３と定義した場合に、上記第２面ハードコート層３に樹脂粒子を含有させて第２面ハードコート層３の一方の面に凹凸を形成する。 （もっと読む）

【課題】インジウムの含有量を低減させているにも拘らず、十分に高い光透過性及び十分に低い抵抗率を有する導電性酸化物を提供すること。
【解決手段】酸化インジウム及び酸化スズからなるインジウムスズ複合酸化物と、前記インジウムスズ複合酸化物にドープされたアンチモンとを含有する導電性酸化物であって、前記インジウムスズ複合酸化物中のインジウム及びスズの合計量に対するスズの含有量の原子比率が２．６〜４７．２ａｔ％であり、且つ、前記導電性酸化物中のインジウム、スズ及びアンチモンの合計量に対するアンチモンの含有量の原子比率が２．７〜１４．５ａｔ％であることを特徴とする導電性酸化物。 （もっと読む）

【課題】高い透過率を有すると共に、その透明導電性薄膜のパターンが視認できないようになっている透明導電性積層体の提供を目的とし、且つ、前記透明導電性積層体を形成する過程における透明導電性積層体の色度均一性改善法の提供をも目的とする。
【解決手段】基材１の一面上に、前記基材１の側から第１の薄膜２、第２の薄膜３及び透明導電性薄膜４が順に形成されている透明導電性積層体において、前記第２の薄膜３は、前記第１の薄膜１より低い屈折率を有し、前記透明導電性積層体において、前記透明導電性薄膜４が形成されていない部分の色度（ｂ１^＊）と、前記透明導電性薄膜４が形成されている部分の色度（ｂ２^＊）と、該二つの色度の間の色度差（Δｂ^＊）とは、下記式（１）〜式（３）：
式（１） ｂ１^＊ ＜ １．１５
式（２） ｂ２^＊ ＜ １．１５
式（３） Δｂ^＊＝｜ｂ１^＊−ｂ２^＊｜ ＜ ０．３５
を満たすようにして、透明導電性積層体を形成する。 （もっと読む）

【課題】耐久性及び導電性がともに高い透明導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シート１０は、透明基材１１と、透明基材１１の上に形成された第１透明導電膜１２と、第１透明導電膜１２の上に形成された第２透明導電膜１３とを備え、第１透明導電膜１２は、透明導電性粒子と、バインダ樹脂とを含み、第２透明導電膜１３は、透明導電性粒子と、バインダ樹脂と、表面処理剤とを含み、第１透明導電膜１２の厚さ及び第２透明導電膜１３の厚さが、それぞれ０．５〜３．０μｍであり、第１透明導電膜１２に含まれる透明導電性粒子の重量含有率が、第２透明導電膜１３に含まれる透明導電性粒子の重量含有率より大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性ペーストを印刷して得られた導電体パターン層の金属反射を抑制した透明導電部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材と、該透明基材上に形成された透明プライマー層と、該透明プライマー層上に所定のパターンで形成された導電体パターン層を有する透明導電部材であって、該導電体パターン層は、該透明プライマー層上に形成された導電体粒子と樹脂バインダーを含み、少なくとも該樹脂バインダーの一部が着色されてなる、透明導電部材である。 （もっと読む）

【課題】導電性酸化物微粒子を用いた塗布型の透明導電性シートにおいて、良好な導電性と透明性を兼ね備えた透明導電膜を提供することにある。
【解決手段】金属の薄膜でコートされた導電性酸化物微粒子と未被覆の導電性酸化物微粒子とが混合された導電膜形成用塗料を基材に塗布して導電性塗膜した透明導電性シートであって、該金属の薄膜でコートされた導電性酸化物粒子が全導電性酸化物粒子中に２０〜７０％の割合とすることで、全体的に透明導電塗布膜の抵抗を低下させ、かつ、金属による透明性の低下を極力抑えることができることを見出し、本発明を完成するに至った。 （もっと読む）

【課題】少量の分散剤でも導電性微粒子を安定に分散させた導電性微粒子分散組成物、及び、圧縮後における基材との密着性が高く、さらに導電率・ヘイズ・透過性が高い導電膜を提供する。
【解決手段】ゼータ電位が＋１０ｍＶ以上の導電性微粒子１００体積部に対し、重量平均分子量が２０００〜８００００の範囲内の分散剤を５〜７０体積部の割合で含有する導電性微粒子分散組成物。 （もっと読む）