【課題】少量の分散剤でも導電性微粒子を安定に分散させた導電性微粒子分散組成物、及び、圧縮後における基材との密着性が高く、さらに導電率・ヘイズ・透過性が高い導電膜を提供する。
【解決手段】ゼータ電位が＋１０ｍＶ以上の導電性微粒子１００体積部に対し、重量平均分子量が２０００〜８００００の範囲内の分散剤を５〜７０体積部の割合で含有する導電性微粒子分散組成物。 （もっと読む）

【課題】金属ナノワイヤを含有する透明導電膜を低いヘイズで形成することができる透明導電膜付き基材を提供する。
【解決手段】透明基材１の表面に金属ナノワイヤ３とカーボンナノフィラー４を含有する透明導電膜２が形成されている。そしてカーボンナノフィラー４は透明導電膜２の表面部に偏在して分布している。透明導電膜２に入射される光を表面部に偏在するカーボンフィラー４に吸収させて、透明導電膜２中の金属ナノワイヤ３に到達する光を少なくし、金属ナノワイヤ３で光が分散されることによるヘイズを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のパターンの視認性を低くして、表示品質が損なわれるようなおそれがない透明導電膜付き基材を提供する。
【解決手段】透明基材１の表面に金属ナノワイヤ３を含有する透明導電膜２を備えて形成される透明導電膜付き基材に関する。透明導電膜２の屈折率と、透明基材１の透明導電膜２との接触界面部の屈折率との差を、０．０２以下に設定する。透明基材１の表面に形成した透明導電膜２をパターニングするにあたって、透明導電膜２と透明基材１の屈折率の差による、透明導電膜２のパターン形状の視認性を低くすることができる。 （もっと読む）

【課題】より入手しやすいＴｉを母体材料とした透明導電膜を提供する。
【解決手段】透明導電膜は、ＴｉＯＮの結晶から構成されてる。この結晶は、後述するように、面心立方格子構造のＴｉＯもしくはＴｉＮの回折点（２００）と同じ位置にＸ線の回折ピークを示す結晶性を有するものである。また、透明導電膜は、金属Ｔｉターゲットを用いた反応性スパッタ法により形成できる。このスパッタ法において、酸素ガスの流量は、ターゲットの表面に金属Ｔｉが露出した状態が定常的に保持される上限の流量よりも少ない流量とすればよい。 （もっと読む）

【課題】電気伝導性フィルムを提供する。
【解決手段】フレキシブルな支持体、伸張性のある金属または金属合金層、および架橋ポリマー保護層を含む電気伝導性フィルムが、少なくとも１つの恒久的に変形された曲面状領域を有する。フィルムは、光透過性とすることができ、また複合曲率の領域を有することができ、および金属または金属合金層は実質的に連続とすることができる。フィルムによって、破損または腐食に対する感受性が、市販の電磁干渉（ＥＭＩ）シールド・フィルムと比較して減る。 （もっと読む）

【課題】膜厚が薄く、低抵抗率及び高透過率を有する透明導電膜を提供する。
【解決手段】基板上に設けられる、酸化インジウム錫膜からなる透明導電膜であって、膜厚が８〜２０ｎｍの範囲であり、Ｘ線回折法における（２２２）面のピーク強度Ｉ_１と（４００）面のピーク強度Ｉ_２との比Ｉ_１／Ｉ_２が０．１〜１．０の範囲であり、抵抗率が１．５×１０^−４Ωｃｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電気伝導性フィルムを提供する。
【解決手段】フレキシブルな支持体、伸張性のある金属または金属合金層、および架橋ポリマー保護層を含む電気伝導性フィルムが、少なくとも１つの恒久的に変形された曲面状領域を有する。フィルムは、光透過性とすることができ、また複合曲率の領域を有することができ、および金属または金属合金層は実質的に連続とすることができる。フィルムによって、破損または腐食に対する感受性が、市販の電磁干渉（ＥＭＩ）シールド・フィルムと比較して減る。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便なインク塗布法を用いて形成される良好な透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度と膜抵抗安定性に優れ、パターンが目立たず、視認しにくいパターン透明導電層を有する透明導電性基材、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材上にパターン透明導電層を形成後、その上に透明異方性導電オーバーコート層を形成した透明導電性基材であって、そのパターン透明導電層は、焼成された導電性酸化物を主成分とし、透明異方性導電オーバーコート層は、導電性酸化物微粒子を含有するバインダーマトリックスを主成分とし、導電性酸化物微粒子の平均粒径の１〜３倍の範囲の厚みを有し、その導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスの体積含有割合が５：９５〜２５：７５で、かつ透明導電層と垂直方向には導電性を示すが、水平方向には導電性を示さない導電性の異方性を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板への密着性を確保しつつ、導電性高分子薄膜の導電性を向上させる、導電性薄膜付き基板の提供。
【解決手段】基板Ｃの表面上に、下地膜Ｂおよび導電膜Ａをこの順に有する導電性薄膜付き基板であって、前記導電膜Ａがポリチオフェン系高分子を主成分として含み、前記下地膜Ｂが、前記基板Ｃに物理的または化学的に作用して密着しており、さらに前記導電膜Ａに対して分子配向制御能を備える、導電性薄膜付き基板。 （もっと読む）

【課題】干渉縞の発生を抑えるとともに、帯電防止性能に優れた導電性ハードコートフィルム及びそれを用いた反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】導電性ハードコートフィルムは、透明基材フィルム上に金属酸化物微粒子、紫外線硬化性樹脂及び溶媒を含む導電性ハードコート層塗布液を塗布、乾燥及び硬化してなる導電性ハードコート層が積層されて構成されている。該導電性ハードコート層１ｇあたりの残存溶媒量は０．１〜１．０ｍｇに設定されている。また、導電性ハードコート層は、相対蒸発速度が０．１〜０．５である溶媒を全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する導電性ハードコート塗料を透明基材フィルム上に塗布、乾燥及び硬化してなる層である。導電性ハードコートフィルムの表面抵抗率は、１．０×１０^８〜１．０×１０^１３Ω／□である。前記導電性ハードコート層上に反射防止層を積層することにより反射防止フィルムが形成される。 （もっと読む）

ポリビニルアルコールまたはゼラチン内に分散された銀ナノワイヤを含む透明導電フィルムが、一般的な水性溶媒コーティング技術を使用して、水性溶媒からのコーティングによって調製することができる。これらのフィルムは、良好な透明性、導電性、および安定性を有する。可撓性支持体上のコーティングは、可撓性導体材料の製造を可能にする。 （もっと読む）

【課題】良好な透明性及び導電性を有する透明導電膜を低コストで提供することを課題の一とする。また、亜鉛及びアルミニウムを含む導電性酸窒化物からなる透明導電膜の抵抗率を低減することを課題の一とする。また、亜鉛及びアルミニウムを含む導電性酸窒化物からなる透明導電膜を提供することを課題の一とする。
【解決手段】亜鉛を含む酸化物からなる透明導電膜において、アルミニウム及び窒素を含ませ、亜鉛及びアルミニウムを含む導電性酸窒化物からなる透明導電膜を形成することで、該透明導電膜の抵抗率を低減することができる。また、亜鉛及びアルミニウムを含む導電性酸窒化物からなる透明導電膜の成膜後に加熱処理を行うことにより、該透明導電膜の抵抗率を低減することができる。 （もっと読む）

本発明は、ナノサイズ化されたドープ酸化亜鉛粒子の処理の方法に関する。本発明はまた、本発明の処理方法で処理されるために適したナノサイズ化されたドープ酸化亜鉛粒子の製造方法に関する。本発明はさらに、本発明の製造方法により処理され及び/又は得られるナノサイズ化されたドープ酸化亜鉛粒子に関する。本発明はさらに、前記ナノサイズ化されたドープ酸化亜鉛粒子を含むトナーに関する。
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【課題】導電性、透明性、ニュートンリング防止性に優れた導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面に、（ｉ）特有構造の繰り返し単位を主成分として含有するポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとを含む導電性高分子（Ａ）、および（ｉｉ）導電性高分子（Ａ）の質量に対して１質量％以上３０質量％以下の、平均粒径１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の凝集粒子（Ｂ）を構成成分として含む透明導電層が設けられた導電性フィルムであって、（ｉｉｉ）透明導電層の表面における中心面平均表面粗さＲａが１０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】導電性、透明性、耐環境変動性において良好な特性を示す透明電極付き基板を提供すること。
【解決手段】基材上に少なくとも１層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板であって、上記透明導電性酸化物層が基材に対してｃ軸配向した結晶構造を有しており、更に上記透明導電性酸化物層中に水素がドーピングされている基板、並びに基材上に少なくとも１層からなる酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物層を有する透明電極付き基板の製造方法であって、上記透明導電性酸化物層がプラズマ放電を利用したスパッタリングにより製膜され、且つスパッタリング時のキャリアガスとして、アルゴン及び水素を必須とし、さらに酸素、二酸化炭素から選択される１種以上を添加したものを使用し、且つ全キャリアガス中に水素が２〜３０体積％、酸素及び／又は二酸化炭素が１〜３０体積％含有されている基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低抵抗かつ高屈折率の透明導電酸化物膜を直流スパッタリング法により工業的に生産可能な酸化インジウムスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウムを主原料とし、酸化タンタルおよび酸化チタンを合計量で５．２〜９．２質量％含有し、酸化チタン／酸化タンタルの質量比が０．０２２〜０．１６０である酸化物からなる成形体を、酸素含有雰囲気下、１５３０〜１６３０℃で焼結することにより、相対密度が９７％以上で、比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下であり、成膜により比抵抗が５×１０^-4Ω・ｃｍ以下、可視光領域における光の屈折率が２．０以上、透過率が９６％以上の透明導電酸化物膜を得られる、スパッタリングターゲットを得る。 （もっと読む）

【課題】可撓性と共に高い導電性とを備えながらも導電性の劣化が防止された透明導電性フィルム、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性のフィルム基材１１と、フィルム基材１１上に設けられたカーボンナノチューブ層１３と、カーボンナノチューブ層１３に積層された光透過性の金属酸化物層１５-1とを備えた透明導電性フィルム１-1であり、金属酸化物層１５-1はクラックＡが設けられたクラック含有金属酸化物層１５-1である。クラックＡは、フィルム基材１１の端縁と略平行で互いに垂直をはす２方向に延設されている。 （もっと読む）

【課題】可撓性及び耐薬品性を具備して、フレキシブルディスプレイ装置に好適な透明導電膜を提案する。
【解決手段】可撓性の基板２上に設ける透明導電膜３であって、前記基板側に設けた結晶性の第１透明導電層３−１と、該第１透明導電層上に設けた非結晶性の第２透明導電層３−２とを含んで形成してある。前記第１透明導電層はＳｎＯ_２含有割合が１質量％以上１０質量％未満のＩＴＯ層であり、前記第２透明導電層はＳｎＯ_２含有割合が１０質量％以上のＩＴＯ層（インジウムスズ酸化物の透明膜）またはＩＺＯ層（インジウム亜鉛酸化物の透明膜）とするのが望ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ粒子同士が焼結し粗大化してしまう雰囲気中での加熱工程を経由することなく、簡単な処理方法によって、製造工程で使用する溶媒として高沸点の溶媒を使用することなく製造することができる、透明導電材用塗料に適したＩＴＯ粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】インジウムを含む塩と、スズを含む塩とを有機溶媒中に溶解し、当該有機溶媒に塩基性沈殿剤を含む有機溶媒を添加し、インジウムとスズとを含む前駆体と有機溶媒の混合物を作製する第１の工程と、インジウムとスズとを含む前駆体と有機溶媒の混合物を加圧容器内で２００℃以上、３００℃以下の温度で加熱処理してＩＴＯ粒子を生成させる第２の工程と、によりＩＴＯ粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムスズ立体電極、その製造方法、製造装置、及びそのソーラー電池の製造方法の提供。
【解決手段】酸化インジウムスズ(ITO)立体電極３は、導電層３１、及び導電層３１の表面に形成する複数の酸化インジウムスズ導電ナノロッド３２を備え、酸化インジウムスズナノロッド３２の長さの調整可能範囲は、10nmから1500nmで、有機ソーラー電池４に応用する最適な長さの調整可能範囲は、50nmから200nmで、立体構造を備える酸化インジウムスズ電極３は、有機光電デバイス(有機ソーラー電池、有機発光ダイオードなど)に応用され、主動層３４と電極３５との接触面積を拡大させ、電流の注入或いは導出の効率を効果的に向上させることができる。 （もっと読む）