【課題】導電性フイルムとＮＤフィルタフイルムの機能を１枚のフイルムに持たせることができるようにする。
【解決手段】導電性膜１０は、支持体１２と、該支持体１２の一方の面上に該支持体１２側から順にＮＤフィルタ層１４と導電性層１６とが形成されて構成されている。導電性膜１０を製造する場合、露光、現像処理を行うことによってＮＤフィルタ層１４となる第１ハロゲン化銀塩乳剤層１８と、露光、現像、めっき処理を行うことによって導電性層１６となる第２ハロゲン化銀塩乳剤層２０とを有するハロゲン化銀感光材料２２を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】導電性と透明性に優れた透明導電材料を提供することにあり、加えて軽量で柔軟性に富む透明導電素子をコストや環境適性に優れた液相成膜法で提供する。
【解決手段】金属ナノワイヤと金属ナノ粒子を含む透明導電材料であって、該金属ナノ粒子の少なくとも一部が、該金属ナノワイヤの少なくとも一部に接合していることを特徴とする透明導電材料その製造方法及びそれを用いた透明導電素子。 （もっと読む）

【課題】現像条件の変動による影響が少なく、塗布面状が良く、露光現像処理後の細線の形状に優れたハロゲン化銀感光材料を用いて、ムラが少なく、細線形状に優れた導電性膜前駆体を提供する。
【解決手段】導電性膜前駆体１０は、支持体１２と、該支持体１２の一方の面上に該支持体１２側から順に非感光性のＵＬ層（ｕｎｄｅｒ ｌａｙｅｒ層）１４と導電性機能層１６とが形成されて構成されている。導電性機能層１６は、ハロゲン化銀塩乳剤層１８を露光・現像して形成された細線パターン２０（金属銀部）と光透過部２２（例えばゼラチン）とを有する。ハロゲン化銀塩乳剤層１８の銀に対するバインダの量が体積比で０．３以上２．０以下であり、ＵＬ層１４とハロゲン化銀塩乳剤層１８とのバインダ量の比が１／１より大きい。 （もっと読む）

【課題】めっきでのムラや抵抗バラツキが少なく、かつ表面抵抗及びヘイズ性に優れた導電性膜を供給することができる導電性膜前駆体を提供する。
【解決手段】導電性膜前駆体１０は、ハロゲン化銀塩乳剤層１６を細線パターン露光、現像処理を行うことで得られる導電性膜前駆体１０であって、現像銀を有する層が支持体に対し最外層になっており、現像銀を有する層の銀に対するバインダの量が体積比で０．３以上２．０以下であり、現像銀で形成された細線１８を垂直に切った断面の形状において、細線の半分の厚みでの側面部２２の傾きが０．７以上である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一部分が互いに連結された複数のループパターンを有するカーボンナノチューブ透明導電膜およびその製造方法を提供する。本発明に係るカーボンナノチューブ透明導電膜は、スプレーコーティングによって形成された少なくとも一部分が互いに連結された複数のループパターンを有することにより、透過度および伝導性が非常に改善される。また、このようなカーボンナノチューブ透明導電膜は、透明電極に非常に適した伝導性および面抵抗特性を持っている。
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【課題】光に対して透明な金属電極の提供。
【解決手段】透明基板と、複数の開口部を有する金属電極層とを具備してなる光透過型金属電極。この金属電極層は切れ目無く連続しており、また、前記開口部に阻害されない連続した金属部位の直線距離が、利用する可視光域波長３８０〜７８０ｎｍの１／３以下である部位が全面積の９０％以上であり、平均開口部径が１０ｎｍ以上、入射光の波長の１／３以下の範囲にあり、前記開口部の中心間ピッチが平均開口部径以上、入射光の波長の１／２以下の範囲にあり、さら金属電極層の膜厚が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】透過率の高い光透過性導電膜及び電磁波遮蔽材料を提供する。
【解決手段】支持体上にハロゲン化銀粒子を含む少なくとも１層の乳剤層を有する感光材料をパターン露光後、連続して現像処理工程、定着処理工程、物理現像処理工程を施すことによる導電性金属部形成方法において、更に、銀溶解処理工程を施すことを特徴とする導電性金属部形成方法及び光透過性導電膜、並びに光透過性が高い電磁波遮蔽材料。 （もっと読む）

【課題】所望の結晶性を有する酸化亜鉛薄膜を形成する。
【解決手段】基板上に積層された酸化亜鉛薄膜であって、ウルツ鉱型の結晶性薄膜であり、該結晶性薄膜のｃ軸が基板に略垂直方向に配向しており、かつ該結晶性薄膜のｃ軸方向の極性面の一つである亜鉛面が最上層に形成されているものである。また、基板上に積層された酸化亜鉛薄膜であって、ウルツ鉱型の結晶性薄膜であり、金属薄膜層上に薄膜形成技術によって形成される。 （もっと読む）

【課題】金属銀パターンの物理現像の際、銀が処理槽内壁に析出するのを防止し汚れにくくし、搬送ローラーをマイナスに帯電することにより金属銀パターンには銀が析出するのを促進し物理現像効率を向上した物理現像処理装置を提供する。
【解決手段】支持体上にハロゲン化銀粒子を含む少なくとも１層の乳剤層を有する感光材料をパターン露光後、連続して現像、定着、物理現像を施すことによる金属銀部形成方法に用いられる物理現像処理装置において、該物理現像処理装置の液槽が導電性を有しかつ直流電源の陽極側に接続され、該感光材料の乳剤面が接する搬送ローラーが導電性を有しかつ直流電源の陰極側に接続され、該直流電源により通電しながら物理現像を行うことを特徴とする物理現像処理装置、それを用いた金属銀部形成方法及び光透過性導電膜、並びに光透過性が高い電磁波遮蔽材料。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低温かつ短時間で導電性被膜を製造可能であり、前記特性に加えて、被膜外観、強度に優れた導電性被膜の製造方法、該製造方法により製造された導電性被膜、および該導電性被膜を有する積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】保護物質によって被覆された導電性微粒子と、陰イオン交換能を有する物質とを、無機微粒子の存在下で接触させることを特徴とする導電性被膜の製造方法により上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】高価で資源枯渇の懸念のある原料Inを有しない透明導電体の開発において、単一ドーピング法という従来の開発手法の限界を超えるとともに、Co-doping理論を実現させる窒素添加を、雰囲気からのガス供給では膜面内に窒素濃度の偏析が生じてしまう問題を解決して、ITOと同等レベルの低抵抗率な透明導電膜を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛、酸化亜鉛に対してn型ドーパントとなる元素、および金属窒化物からなる焼結体であって、酸化亜鉛中の亜鉛の原子数をZn、酸化亜鉛に対してn型ドーパントとなる元素の原子数をA、および金属窒化物中の金属元素の原子数をB、窒素の原子数をCとするときに、(A+B)/(Zn+A+B)の値が0.02以上0.08以下であり、かつ、C/(A+B)の値が0.3以上0.７以下である焼結体を作製することで、ドーパントの適切濃度範囲をターゲットの組成の段階で実現させ、当該焼結体をスパッタすることで、低抵抗率透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、上記従来の問題を有しない導電性被膜の製造方法、該製造方法により製造された導電性被膜、および該導電性被膜を有する積層体を提供することを目的とする。
より具体的には、本発明は、通常の紙やプラスチック、繊維、ガラス等、任意の基材上に、低温かつ短時間で導電性被膜を製造でき、上記特性に加えて、例えば、１０^-6Ω・ｃｍオーダーの低い体積抵抗値を有し、基材との密着性の優れた導電性被膜を製造する方法、この方法により製造された導電性被膜、およびこの導電性被膜を有する積層体を提供することを目的とするものである。
【解決手段】窒素および／または硫黄原子を含む保護物質によって被覆された導電性物質と、陽イオン交換能を有する物質とを接触させることを特徴とする導電性被膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ合金中の合金元素を少なくしても、透明酸化物導電膜との接触抵抗を低くすることのできる低接触電気抵抗型電極、およびこうした電極を製造するための有用な方法、並びにこうした電極を備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の低接触電気抵抗型電極は、酸化物透明導電膜と直接接触するＡｌ合金薄膜からなる低接触電気抵抗型電極において、前記Ａｌ合金は、Ａｌよりもイオン化傾向が小さい金属元素を０．１〜１．０原子％の割合で含有し、且つＡｌ合金薄膜の酸化物透明電極と直接接触するＡｌ合金薄膜表面は、最大高さ粗さＲｚで５ｎｍ以上の凹凸が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、色彩上の表現が要求される意匠性分野においての使用のために充分な透明性を有する導電性粉体、特に、溶剤やポリマーマトリックスに対する分散性に優れ、低いＰＷＣでも導電性が得られる透明導電性粉体を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）第１の基材としての薄片状酸化アルミニウムと、（ｂ）この第１の基材の表面を被覆し、タングステンがドープ、またはタングステンとリンがドープ、またはリンがドープされた酸化スズを含有する被覆層とを有する第１の粉体成分を含有することを特徴とする透明導電性粉体。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、ガスバリア性が良好で、カールの発生が抑制されたガスバリア性シートを提供する。特に、有機ＥＬディスプレイ等の耐久試験として行われるヒートサイクル試験後においても、カールの発生が抑制され、ガスバリア性能も維持されるガスバリア性シートを提供する。
【解決手段】基材２上にガスバリア膜３を有するガスバリア性シートにおいて、ガスバリア膜３を、ＳｉＮ_ｘＯ_ｙ膜（ただし、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．２５〜１）とし、かつ、ガスバリア膜３のＳｉ−Ｎ結合に対応するＩＲ吸収（８３０ｃｍ^−１〜８４０ｃｍ^−１）の単位厚さあたりの吸収強度を０．５×１０^−３／ｎｍ〜１．８×１０^−３／ｎｍとし、ガスバリア膜３の屈折率を１．７〜２．１とすることによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

導電性ナノ構造ベースの透明導電体のコントラスト比を向上させる方法について説明する。コントラスト比は、導電性ナノ構造をめっきし、その後、下層の導電性ナノ構造をエッチングまたは酸化するステップによって、ナノ構造の光散乱および反射率の低減によって大幅に改善する。一実施形態は、基板と、基板上の導電性膜であって、複数の金属ナノ構造を備える導電性膜とを備える透明導電体であって、１０００を超えるコントラスト比を有する透明導電体について説明する。
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【課題】不純物を含まずカーボン粒子同士の密着性が強く、ひいては容易に剥がれず、腐食に強く、長期安定性に優れた透明導電性基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電性基板１は、透明基材２と、該透明基材の一方の面に配された透明導電膜３と、前記透明導電膜上に載置されたカーボンナノチューブからなる配線部４と、を少なくとも備え、前記カーボンナノチューブは、バインダーを含有せずに前記透明導電膜上に載置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、小さいミクロな伝導性構造体を表面に製造することを可能にする方法を記述している。これは、ミクロチャネルを（ホット）スタンピングおよび／またはナノスケールのインプリンティングによって製造すること、次のこのようにして作り出されたチャネルへの毛細管現象および好適な伝導性材料の後処理を用いる伝導性材料の的を絞った導入によって達成される。
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本発明は、気相重合により導電性ポリマー膜を合成する方法に関する。本発明は、特に、重合したチオフェン膜、例えばポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）の合成に関する。 （もっと読む）

【課題】電磁波を遮蔽する上で有効な導電膜の製造において、現像後のフイルムの表面抵抗を低減させる。また、透過率が高く、且つ表面抵抗率が低い透明導電性フイルムを提供する。また、上記の高い光透過率と低い表面抵抗が両立する透明導電性フイルムを低コストで大量に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電性フイルム１０は、支持体１２上に圧密処理された導電性金属からなる細線構造部１４と透明導電性膜１６とを有する。この製造方法は、支持体１２上に銀塩を含有する銀塩含有層を有する感光材料を露光し、現像処理することにより金属銀部を形成する金属銀形成工程と、金属銀部を圧密処理する圧密処理工程とを有する。そして、圧密処理をカレンダーロールにより行う。この場合、カレンダーロールによる圧密処理を線圧力１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ）以上で行う。 （もっと読む）