【課題】穏やかな生産環境の下、従来よりもコストを抑えて導電膜を形成できる導電膜形成用材料を提供する。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明の導電膜形成用材料は、導電繊維を形成すべき原料及び／又は導電繊維と、溶剤とを含有するものであって、被着体の表面に導電膜形成用材料を塗布する工程と、塗布した導電膜形成用材料から溶剤を揮発除去する工程と、溶剤を揮発除去した後に残存した導電繊維を形成すべき原料及び／又は導電繊維を網目状に絡めて導電膜を形成すると共に当該導電膜を被着体の表面上に固定する工程とを有する導電膜の形成方法に用いられる導電膜形成用材料である。 （もっと読む）

【課題】透明であり、導電性に優れる導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性積層体１０は、透明基材１１と、透明基材１１の少なくとも片面に形成された金属系電極層１２と、金属系電極層１２の表面に形成された導電性高分子層１３とを有し、導電性高分子層１３が、π共役系導電性高分子と酸からなるドーパントと水とを含有する導電性高分子混合液に中和処理を施したｐＨ４〜１０の導電性高分子溶液から形成された層である。本発明の導電性積層体の製造方法は、透明基材１１上に金属系電極層１２を形成する工程と、金属系電極層１２上に導電性高分子溶液を塗布して導電性高分子層１３を形成する工程とを有し、導電性高分子溶液として、π共役系導電性高分子と酸からなるドーパントと水とを含有する導電性高分子混合液に中和処理を施したｐＨ４〜１０の溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】高いキャリア濃度を保ちつつ、スズ添加酸化インジウムの結晶性を向上させ、高い導電性を有する透明導電膜を備えた透明導電性基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明導電性基板は、透明基材と、該透明基材の一面上にスズ添加酸化インジウムからなる透明導電膜を配してなる透明導電性基板であって、前記透明導電膜は、透明基材側から離れるにつれて、スズの添加濃度が高くなるように濃度勾配を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大気中で安定して仕事関数が４．５ｅＶより低い値を保持することができる酸化物透明導電膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウム錫などの酸化物透明導電膜に、セシウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、およびルビジウムのいずれかのアルカリ金属を含有させる。スパッタリング室１１内にボンベ１８からアルゴンなどのプラズマガスを流し、スパッタリング室１１内に配置されたターゲット１２からガラス基板１５に酸化物透明導電膜材料をスパッタリングする。ガラス基板１５の中心位置Ｐはターゲット１２の中心位置Ｑからずれた位置に配置されている。ターゲット１２からガラス基板１５に酸化物透明導電膜材料をスパッタリングするとき、スパッタリング室１１内のプラズマ空間の中心からガラス基板１５にかけての空間にセシウム蒸発源２１によりセシウム蒸気を導入する。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルディスプレイに適用可能であり、導電性が向上したカーボンナノチューブ透明電極およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板と、前記透明基板の上に形成されるカーボンナノチューブ薄膜と、を含み、前記カーボンナノチューブ薄膜は、カーボンナノチューブおよびドープされた分散剤を含むカーボンナノチューブ組成物から形成されることを特徴とする、カーボンナノチューブ透明電極およびその製造方法である。 （もっと読む）

透明アンテナは、１００ＭＨｚ〜２０ＧＨｚの周波数帯で電磁波を放射する放射エレメントを有する。透明導電膜は、ＩＴＯ薄膜とＦＴＯ薄膜との一方又は両方からなり、３５０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視光波長領域の光を透過する。透明導電膜は、膜厚１００ｎｍ以上、可視光波長領域での透過率が４０％以上、シート抵抗が２０Ω／□以下である。 （もっと読む）

【課題】高速成膜が可能な成膜技術により比抵抗の小さいＺｎＯ系透明導電膜を低コストに提供する。
【解決手段】Ｚｎ合金ターゲットを用いて成膜されてなるＺｎＯ系透明導電膜において、ガスフロースパッタリング法により成膜されてなることを特徴とするＺｎＯ系透明導電膜。ガスフロースパッタ装置では、スパッタガス導入口１１からアルゴン等を導入し、アノード１３及びターゲット１５間での放電で発生したプラズマによりターゲット１５をスパッタリングし、はじき飛ばされたスパッタ粒子をアルゴン等の強制流にて基板１６まで輸送し堆積させる。ターゲット表面を強制流が流れるため、反応性ガス導入口１８からの酸素ガスがターゲット表面まで拡散するのが防止される。高い圧力下で成膜を行うため、高エネルギー粒子による薄膜へのダメージが極めて小さくなり、比抵抗が小さくなる。 （もっと読む）

基板上に被膜される導電層を含む、透明導電体が記載される。より具体的には、導電層は、マトリクス内に内蔵され得るナノワイヤのネットワークを備える。導電層は、光学的に透明、かつパターン化可能であって、タッチスクリーン、液晶表示装置、プラズマ表示パネル等の視覚表示デバイス内の透明電極として好適である。本発明の一実施形態によって提供される方法は、基板上にナノワイヤネットワークを形成するステップであって、ナノワイヤネットワークは、複数のナノワイヤを備える、ステップと、パターンに従って、前記ナノワイヤネットワーク上にマトリクスを形成するステップと、ナノワイヤネットワークをエッチングするステップであって、それによって、第２の領域内の非保護ナノワイヤは、溶解される、ステップとを含む。
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【課題】噴霧する液体材料を構成する原料や溶媒の種類に制限されること無く、溶媒に原料が溶ける割合を広く設定することが可能な、ＳＰＤ法による透明導電性基板の製造装置を提供する。
【解決手段】本発明の製造装置２０は、被処理体１１を載置する支持手段２１と、透明導電膜の原料溶液を構成する成分ごとに、それぞれの成分からなるミストを個別に作製する第一生成手段２８及び第二生成手段２９と、前記第一生成手段と個別に繋がり、前記被処理体の一面１１ａに向けて、それぞれの成分からなる第一ミスト２３Ａを噴霧する第一吐出手段２４Ａ及び、前記第二生成手段と個別に繋がり、前記被処理体の一面に向けて、それぞれの成分からなる第二ミスト２３Ｂを噴霧する第二吐出手段２４Ｂと、前記被処理体の温度を調整する温度制御手段２２と、を少なくとも備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性能の面内均一性に優れ、近年大面積での使用が増大している、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）透明タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンス素子、無機エレクトロルミネッセンスランプ等の透明電極や電磁波シールド材などの用途分野に好適に使用することができる導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも片面に、下記一般式で表される繰返し単位からなるポリカチオン状のポリチオフェンとポリアニオンとからなる導電性高分子を０．５〜１．５重量％、フッ素系界面活性剤を１００〜１０００ｐｐｍおよび水と相溶性のある溶媒からなる濡れ剤を１〜１０重量％含有する水系塗料を塗布して、平均表面抵抗値が１〜１×１０^４Ω／□で、その変動誤差が３％以下である導電性フィルムを得る。
【化１】
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【課題】導電性が高い透明導電膜を提供する。
【解決手段】Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる透明導電膜。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の透明導電膜。Ｇａ、ＴｉおよびＯから実質的になる焼結体。ＧａおよびＴｉの合計量（モル）に対し、Ｔｉの量（モル）が０．０２以上０．９８以下である前記の焼結体。チタンを含有する粉末と、ガリウムを含有する粉末とを混合して得られる混合物を成形して成形体を得、該成形体を焼結することにより得られる前記の焼結体。前記の焼結体をターゲットとして、パルス・レーザー蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法およびＥＢ蒸着法から選ばれる方法により成膜する透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】フロートガラス製造過程中に大気圧化学気相堆積（ＡＰＣＶＤ）によって高堆積速度でガリウムまたはアルミニウムドープ酸化亜鉛膜を作り、比較的安価な前駆体物質を利用し、望ましい低抵抗率特性を有する被覆ガラス物品を生産する。
【解決手段】コーティングがその上に堆積されることになる基材表面を有し、その表面が少なくとも４００℃の温度にあるような高温ガラス基材を提供することによって、低抵抗率のドープされた酸化亜鉛被覆ガラス物品が形成される。基材表面に、亜鉛含有化合物、酸素含有化合物及びアルミニウムまたはガリウム含有化合物が方向付けられる。亜鉛含有化合物と、酸素含有化合物と、アルミニウムまたはガリウム含有化合物とが、アルミニウムドープ酸化亜鉛コーティングまたはガリウムドープ酸化亜鉛コーティングが５ｎｍ／秒超の堆積速度で基材表面上に形成されるのに十分な時間の間、混合される。 （もっと読む）

【課題】低抵抗な針状ＩＴＯ粉体における抵抗の経時変化を少なくして、大気中での安定性を向上させること。
【解決手段】スズ含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。 （もっと読む）

【課題】良好な表面平坦性を有した、発光輝度が高いディスプレイを提供可能な透明導電膜付きフィルム、これを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置及び有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】透明基材と透明導電性膜とからなり、前記透明導電性膜が平均粒子径０．１〜１μｍの結晶性二次粒子を表面に１〜１００個／μｍ^２ 有する透明導電膜付きフィルム、これを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置及び有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】透明性と導電性が共に高く、かつ保存安定性の良い導電性材料、およびそれが得られるための製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのＸ線回折法での２θ＝３８．２°のピークの半値幅が０．４１以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。また、該導電性材料の製造方法であって、該導電性材料前駆体を現像し、画像形成した後に還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物のいずれかを少なくとも１種類以上含有する後処理液もしくは５５℃以上の温水で処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑であり、研磨工程を必要としないと同時に耐酸性に優れた有機ＥＬ用透明電極、及びこの透明電極を陽極として用い、酸性の有機高分子材料から湿式法（塗布法）によって形成された陽極バッファー層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】支持電解質を溶解した２５℃の極性溶媒中において、結晶性ＩＴＯの酸化還元電位をＥ（Ｖ）としたときに、酸化還元電位が、（Ｅ−０．１）Ｖ以上、（Ｅ＋１．０）Ｖ以下の範囲にある結晶性ＩＴＯ以外の透明導電膜、及びこれを陽極として用いた有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】低抵抗、高透過率な透明導電膜を低温での形成が可能な透明導電膜形成方法と、それにより得られる透明導電膜を提供すること。
【解決手段】透明導電膜形成材料を含有する液体を基材に付与し、該基材上に付与された透明導電膜形成材料を含有する液体を大気圧または大気圧近傍の圧力下で大気圧プラズマ処理することにより透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法であって、該大気圧プラズマ処理が対向する電極間に酸化ガスを含有するガス１を供給し、該電極間に高周波電界を発生させることによってガス１を励起ガス１とし、該励起ガス１に透明導電膜形成材料を含有する液体を晒す工程１と、対向する電極間に還元ガスを含有するガス２を供給し、該電極間に高周波電界を発生させることによってガス２を励起ガス２とし、該励起ガス２に工程１により形成された薄膜を晒す工程２とを含むことを特徴とする透明導電膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム基板上に形成されるＩＴＯ等の透明導電膜の形成方法に関し、抵抗値が低く、且つ表面の平滑性が優れた、生産性が高い透明導電膜付フィルムの形成方法、及び該形成方法で生産された透明導電膜付フィルムを提供する。
【解決手段】圧力勾配型プラズマガンを用いるイオンプレーティング法を用い、連続して搬送される樹脂フィルム基板上に、成膜領域内で前記樹脂フィルム基板の裏面側に接触し樹脂フィルム基板を支持、搬送する支持ロールの温度を１３０℃〜１８０℃の間で任意の一定温度に制御し、透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 透明で低コストの透明導電膜を提供するとともに、該透明導電膜を形成することにより、生産性を向上させ、かつ低コストで高性能、高信頼性の光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 表面に酸化層が形成された金属微粒子を用意する工程と、前記金属微粒子と無機または有機金属化合物を溶解させた有機溶媒に分散させて、混合原料溶液を調整する工程と、前記混合原料溶液を基体の表面に塗布する工程と、前記基体の表面に塗布された混合原料溶液を熱処理して、透明導電膜を形成する工程と、を少なくとも備えることで、基体との接触抵抗を改善し、低コストで高効率の光電変換装置を得る。 （もっと読む）

【課題】ガスフロースパッタリングによる高速成膜におけるアーキングなどの異常放電の発生を抑制して、欠陥のない高品質の薄膜を安定に成膜する。
【解決手段】ガスフロースパッタリング装置による成膜方法において、該ガスフロースパッタリング装置の電源としてパルス電源２０を用いてパルススパッタリングを行う。ガスフロースパッタリング装置において、ＤＣ電源に代えてパルス電源２０を用いることにより、好ましくは対向して設置されている２枚のターゲットに対して、片方がカソードとして放電している時に、もう一方はアノードとして作用するように交互に電力を印加するデュアルカソードパルススパッタリングを行うことにより、広い範囲で安定して放電が可能となり、更なる高速成膜が可能となる。 （もっと読む）