【課題】本発明の目的は、従来のスパッタリングＩＴＯフィルムやそのフィルムを用いた分散型ＥＬ素子よりもフレキシビリティに優れかつ静電気対策も施された透明導電層付フィルム及びフレキシブル分散型ＥＬ素子、具体的には、薄く、柔軟なベースフィルム上に形成された透明導電層を有する透明導電層付フィルム、及びその透明導電層付フィルムを用いたフレキシブル分散型ＥＬ素子を提供することにある。
【解決手段】ベースフィルム上に塗布法によって透明導電層を形成した透明導電層付フィルムであって、前記透明導電層付フィルムの透明導電層側には該透明導電層との界面で剥離可能な微粘着層を有する支持フィルムが裏打ちされており、前記ベースフィルムの厚さは３〜２５μｍであり、且つ、前記透明導電層は導電性酸化物微粒子とバインダーマトリックスを主成分とし、尚且つ、圧縮処理が施されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウム錫（ＩＴＯ）薄膜が本来備える高い導電性と透明度を損なうことなく室温強磁性を発現する低抵抗透明強磁性体材料の製造方法を得ること。
【解決手段】
本発明に係る低抵抗透明強磁性体材料の製造方法は、マンガンを添加した酸化インジウム錫を出発材料として基板上に薄膜を堆積する方法であって、前記堆積方法は、マグネトロンスパッタリング法であることを特徴とする。
従来、蒸着法で堆積できることは知られていたが、蒸着法によると、導電性や透明性が著しく低下していた。しかしながら、本発明のように、スパッタリング法によって堆積すると、導電性や透明性を低下させることなく室温強磁性を付与することができる。 （もっと読む）

【課題】電極として用いることが可能な金属を含む導電薄膜を、表面の凹凸が少ない状態で形成できるようにする。
【解決手段】導電薄膜１０３は、例えば単結晶シリコンからなる基板１０１の上に、例えば、アモルファス状態のシリコン酸化膜よりなる下部絶縁膜１０２を介して形成されたものである。導電薄膜１０３は、ルテニウムと窒素から構成されたものである。導電薄膜１０３は、ルテニウムよりなるターゲットを、アルゴンガス（Ａｒ）、キセノン（Ｘｅ）ガス、窒素ガスからなるＥＣＲプラズマを用いてスパッタリングして形成すればよい。 （もっと読む）

【課題】 耐酸性に優れ、熱処理による抵抗変化が小さい、透明導電膜付き基板の提供を目的とする。
【解決手段】 基板上にスパッタリング法によりＳｎ含有酸化インジウム膜が形成され、プラズマ処理された透明導電膜付き基板において、前記Ｓｎ含有酸化インジウム膜は、ＪＩＳ Ｋ ７１９４(1994)で定義される４探針法により求められる比抵抗が４５０μΩ・ｃｍ以下であり、かつＪＩＳ Ｂ ０６０１(2001) で定義される表面粗さＲａが２ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電膜付き基板である。 （もっと読む）

【課題】無機微粒子の電気的特性などの諸特性、および、光学的特性と機械的特性に優れた塗膜を形成することができるとともに、溶媒の含有率が極めて低い塗膜形成用樹脂組成物とこれを含有する塗膜および塗膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の塗膜形成用樹脂組成物は、分散媒と、無機微粒子と、前記分散媒中にてエマルション粒子を形成する活性エネルギー線硬化型樹脂とを含み、前記分散媒の含有率が７重量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた帯電防止効果と防眩効果を有し、膜の可視光透過率が非常に高く且つ透過画像の色相が自然である導電性防眩膜を形成し得る組成物、そのような導電性防眩膜並びにそのような導電性防眩膜を表示面に有するディスプレイを提供すること。
【解決手段】バインダー成分及び該バインダー成分中に分散した水酸化錫粉体及び透光性微粒子からなり、水酸化錫粉体とバインダー成分との合計質量をＸ、透光性微粒子の質量をＹとした場合にＸ／Ｙの質量比が９９．９／０．１〜５０／５０の範囲内である導電性防眩膜形成用組成物、そのような組成物から得られる導電性防眩膜、並びにそのような導電性防眩膜を表示面に有するディスプレイ。 （もっと読む）

【課題】低コストでありながら、銀凝集防止された透明導電性薄膜およびそれを用いた電磁遮蔽膜を提供する。
【解決手段】透明基体Ｓ上に生成された酸化物透明導電膜と金属膜の積層体であって、その酸化物透明導電膜と金属膜は、膜成分微粒子を基体Ｓ上に、スプレーコート法又は超音波噴霧法を用いた塗布方法により堆積させたのち大気圧プラズマ処理処理装置３０にて、基体Ｓ上に付着させることを特徴とする透明導電性積層膜である。 （もっと読む）

【課題】実質的にスズ、亜鉛、および酸素からなる酸化物焼結体、高い直流電力を投入してもクラックが発生しないスパッタリング或いはイオンプレーティング用ターゲット、及び耐薬品性に優れ非晶質構造の酸化物透明導電膜、それを高速で生産性よく成膜しうる製造方法を提供。
【解決手段】実質的にスズ、亜鉛、および酸素からなる酸化物焼結体であって、亜鉛がＺｎ／（Ｚｎ＋Ｓｎ）の原子数比として０．０５〜０．４８含有され、かつ、主としてスズ酸亜鉛化合物相と酸化スズ相とから構成されることを特徴とする酸化物焼結体；これら酸化物焼結体を加工して得られるターゲット；このターゲットを用いて、スパッタリング法あるいはイオンプレーティング法で基板上に形成される透明導電膜などにより提供。 （もっと読む）

【課題】抵抗値の経時的上昇を抑制することにより、長期間に亘って安定した抵抗値を確保することができ、したがって、長期間に亘って所望の導電性を確保することができる導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電膜は、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＩＴＯ、ＳｎＯ_２、ＡＴＯ、ＺｎＯ、ＡＺＯ、ＧＺＯ、ＩＺＯの群から選択される１種または２種以上の金属酸化物と、アスコルビン酸（ビタミンＣ）、アスコルビン酸エステル、トコフェロール（ビタミンＥ）、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、エリソルビン酸、エリソルビン酸ナトリウム、オリザノール、ルチン、亜硝酸ナトリウムの群から選択される１種または２種以上の酸化防止剤とを、含有している。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を主成分とし、さらにニッケルを含有する酸化物焼結体、それを加工したターゲット、これを用いて直流スパッタリング法やイオンプレーティング法によって得られる耐薬品性に優れた低抵抗の透明導電膜を提供。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とし、さらにニッケルを含有する酸化物焼結体であって、ニッケルの含有量がＮｉ／（Ｚｎ＋Ｎｉ）原子数比として０．０２〜０．２５であり、かつ比抵抗が５０ｋΩｃｍ以下であることを特徴とする酸化物焼結体；酸化亜鉛を主成分とし、さらにニッケルと、ガリウムおよび／またはアルミニウムとを特定量含有する酸化物焼結体；これら酸化物焼結体を加工して得られるターゲット；このターゲットを用いて、スパッタリング法あるいはイオンプレーティング法で基板上に形成される透明導電膜などにより提供。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽性および近赤外線遮蔽性に優れ、透過・反射バンドが広く、内部応力の増加が抑制された導電性積層体およびプラズマディスプレイ用保護板を提供する。
【解決手段】基体１２上に導電膜１４が形成された導電性積層体１０であって、導電膜１４は、基体１２側から酸化物膜２０と金属膜３０とが交互に積層され、金属膜３０の積層数がｎであり、酸化物膜２０の積層数がｎ＋１である（ただし、ｎは６〜８である。）多層構造体であり、酸化物膜２０が、金属酸化物からなる膜であり、金属膜３０が、純銀からなる膜、または金および／またはビスマスを含有する銀合金を主成分として含有する膜である。 （もっと読む）

【課題】透明性が高く、可撓性に優れ、温度変化に対する寸法変化が小さい、各種の光学基板として好適に使用可能な透明多層シートを提供する。
【解決手段】有機材料を含有し、平均線膨張率が５０ｐｐｍ／Ｋ以下である層（Ａ層）と、有機材料を含有し、引っ張り弾性率が１ＧＰａ以下である層（Ｂ層）とを少なくとも備えてなるとともに、１００μｍ厚換算での全光線透過率が６０％以上であり、ヘーズが２０％以下である。 （もっと読む）

【課題】光透過率を低下させることなく薄膜の電導性を向上させることのできる金属ナノ粒子を含むアルミニウム添加亜鉛酸化物（ＡＺＯ）透明導電膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜及びその製造方法であって、本発明の透明導電膜の製造方法は、先ず金属前駆体をゾルゲル法により形成されたアルミニウム添加亜鉛酸化物のアルコール含有反応液中に加えて、アルコールの還元作用によりアルミニウム添加亜鉛酸化物のゾルゲルを形成すると同時に金属ナノ粒子を生成して、金属ナノ粒子を含むＡＺＯゲル溶液を形成し、塗布成膜後に適切な熱処理を経るものであり、この金属ナノ粒子を含むＡＺＯ透明導電膜の可視光線範囲全体の光透過率が８５％以上に達し、抵抗率が２×１０^−３Ω・cm以下である。 （もっと読む）

【課題】 ニュートンリングの発生を低減できる透明導電体を提供すること。
【解決手段】 透明導電体１は、基体１０、透明樹脂層１３及び透明導電層１４がこの順に積層された構成を有する。透明樹脂層１３は、その面方向に屈折率が異なる領域（第１の領域１３ａ及び第２の領域１３ｂ）を複数有している。また、屈折率が異なる領域同士の屈折率差が０．０２以上であると好ましい。これにより、透明樹脂層１３における光の散乱が適度に生じ、ニュートンリングの発生を一層効果的に抑制することが可能となる。 （もっと読む）

本発明による起伏のある透明導電層は、光電装置用の基板に堆積され、隆起部と窪み部との繰り返しによって形成された表面形態を有する。この導電層は、前記窪み部が、半径が約25 nmよりも大きい角を丸めた底部を有すること、この窪み部が実質的に平滑であり、微細な凹凸を示すところでは、該微細な凹凸の平均高さは５ nm未満であること、及びその側面が前記基板の面に関して角度をなしており、角度の絶対値の中央値は30°〜75°であることによって特徴付けられている。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ粉体における抵抗の経時変化を少なくして、大気中での安定性を向上させること。
【解決手段】錫含有水酸化インジウムを不活性ガスおよび還元性ガスの雰囲気下で焼成し、大気中に暴露する前に、０℃以上１００℃以下の温度で、水分を含む、不活性ガスおよび／または還元性ガス雰囲気下で所定の時間処理してＩＴＯ粉体を製造する。 （もっと読む）

【課題】対象物体の表面に低い電気抵抗値を有すると共に摺動特性及び屈曲性に優れる均一厚みの透明導電層を形成するための転写用導電性フィルムを提供し、それを用いた透明導電層が形成された物体を提供する。
【解決手段】支持体１と、支持体１上の支持体１とは剥離可能な導電層４と、導電層４上の接着剤層５とを少なくとも含む転写用導電性フィルムであって、導電層４は、導電性微粒子の圧縮層であり、接着剤層５は、活性エネルギー線反応性基とエーテル結合とを有するエーテル化合物を少なくとも含む接着剤組成物から形成されている転写用導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】絶縁性の透明部材上に、透明導電体として比抵抗がＩＴＯ膜と同等レベルにあるＦＴＯ膜を配してなる透明導電性基板を提供する。
【解決手段】本発明に係る透明導電性基板１０は、透明部材からなる被処理体１１の一方の面１１ａに、比抵抗が４．０×１０^−４Ωｃｍ以下であるフッ素添加酸化スズ膜からなる透明導電体１２を配したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ケイ素膜は優れたガスバリア性を有し、透明性および化学的安定性にも優れているため、透明導電膜のガスバリア層として用いられ、該導電層の作製開始直後に酸素ガス導入を遮断することで、連続成膜に伴う抵抗率の悪化を防止するための透明導電膜の作製方法を提供する。
【解決手段】酸化物ガスバリア層を成膜する工程と導電層を成膜する工程とを含み、該導電層の成膜工程において、成膜雰囲気中の酸素ガス導入を一時的に遮断することで酸素濃度調整層を形成する工程をさらに含む透明導電膜の作製方法。 （もっと読む）

【課題】高透過率の透明性と、低抵抗の導電性とを同時に実現する透明導電性積層体を提供すること。
【解決手段】本発明では、上記課題を達成するために、透明基材（１１）上に、透明基材（１１）側より透明導電性薄膜からなる第１層（１２）、第１層（１２）および第３層（１４）よりも屈折率が低い低屈折率薄膜層からなる第２層（１３）、透明導電性薄膜からなる第３層（１４）を積層してなることを特徴とする透明導電性積層体としたものである。 （もっと読む）