【課題】電気伝導が主として有機材料によって行われ、導電性の優れた透明導電膜または透明導電体の実現が可能な透明導電性組成物、およびそれを用いた透明導電膜または透明導電体を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性組成物は、導電性高分子と、前記導電性高分子に対するドーパントと、親水化されたフラーレンとを含み、前記導電性高分子が、前記ドーパントがドープされた状態で水系溶媒中に分散する性質を有する。導電性高分子は、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン、ポリアニリン、およびポリピロールからなる群から選ばれる少なくとも１種の高分子である。 （もっと読む）

【課題】 導電性に優れた、かつ導電性の経時安定性が高く、青味の少ない透明微粉末とその製造方法、および該粉末を含む分散液および塗料を提供する。
【解決手段】 窒素を１〜５００００ppm含有し、好ましくは、ＢＥＴ比表面積１〜２００m²/gまたは一次粒子径１〜５００nm、粉末のＬ値５０〜８３、ａ値−２〜＋２、ｂ値−６〜＋７、体積粉体抵抗率１０^-1〜１０⁴Ω・cmである金属酸化物微粉末、例えば、酸化スズ粉末からなり、微粉末表面に０.０１〜１０％のカーボン量を有し、環境加速試験の体積粉体抵抗率の変化量が５０倍以下、好ましくは１０倍以下である透明導電性微粉末。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、エッチング性に優れ、低抵抗値、高い透過率、良好な表面平滑性を併せ持つ透明電極及び透明電極の製造方法を提供することである。
【解決手段】 透明基材上に透明高屈折率層と金属粒子とを交互に積層し、総膜厚が３０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下であって、かつ表面抵抗値が１Ω／□以上、１３Ω／□以下であることを特徴とする透明電極。 （もっと読む）

【課題】 高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する導電性膜を製造することができ、かつ、圧力性が改善された導電性膜形成用感光材料を提供すること。
【解決手段】 支持体上に銀塩乳剤を含む乳剤層を有し、前記乳剤層を露光して現像処理を施し、さらに物理現像および／またはメッキ処理を施すことにより導電性膜を製造可能な導電性膜形成用感光材料であって、
前記乳剤層が実質的に最上層に配置され、前記乳剤層に酸化防止剤を含有することを特徴とする導電性膜形成用感光材料。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。安価に大量生産できる導電性膜、とくに透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料に露光と現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を活性化液で処理したのち１５秒以上１０分以下の時間で無電解銅めっき処理を行うことにより厚さ１μm以上のめっき層を設けたことを特徴とする透光性導電性膜の製造方法。とくに一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）または（Ｄ）で表される特定のメルカプト又はチオン化合物を含むめっき液を用いる上記方法。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗が小さく、充分な熱線反射機能を有する透明導電フィルムを提供しようとするものである。
【解決手段】本発明は、透明な基材フィルム２と、基材フィルム２の表面にスパッタリングにより順次積層形成された、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）からなる第１導電層３１、Ａｇ（銀）からなる第２導電層３２、ＩＴＯからなる第３導電層３３とを有する。第１導電層３１の膜厚は５〜１００ｎｍであり、第２導電層３２の膜厚は５〜５０ｎｍであり、第３導電層３３の膜厚は５〜１００ｎｍであることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、側壁基を機能化して、塗布されたカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）ネットワークを変化させ、ナノチューブの導電性に影響を与えることによってカーボンナノチューブ透明導電性被覆物／フィルムをパターン化する方法を対象とする。化学修飾を受けて生じた領域は、変化されていない領域より、高い又はより低い導電性を有する。これにより、パターン化されたフィルムが得られ、前記パターンは、電極、画素、ワイヤ、アンテナ又はその他の電気部品を形成するように成形される。更に、化学修飾されたＣＮＴの領域は、それらの元の導電状態に戻すことが可能であり（即ち、可逆で反復可能）、又はこれを固定化して、不変のパターンを得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できること。
【解決手段】透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。上記透明導電性積層体は、０．１２５ｍｍの光学くしを使用した場合の透過法で測定した像鮮明度が１０％以上６０％以下である。 （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できること。
【解決手段】透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。上記透明導電性積層体は、１．０ｍｍの光学くしを使用した場合の透過法で測定した像鮮明度が３０％以上８０％以下である。 （もっと読む）

ヘイズ率が高く、基板全体として見た場合にヘイズ率のばらつきが少なく、かつ光透過性に優れた太陽電池用透明導電性基板及びその製造方法を提供する。 基体上に、ＴｉＯ_２層、ＳｉＯ_２層およびＳｎＯ_２層が該基体側からこの順に形成されており、前記ＳｎＯ_２膜の層厚は、０．５〜０．９μｍであり、Ｃ光源ヘイズ率が２０〜６０％であることを特徴とする太陽電池用透明導電性基板。
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【課題】 ペン入力耐久性を低下させることなくニュートンリングの発生を防止した透明導電性積層体およびそれを備えたタッチパネルを提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電性積層体１０は、透明なフィルム基材１の一方の面に、凹凸構造層２、第１誘電体薄膜３、第２誘電体薄膜４および透明な導電性薄膜５が順次積層されており、前記フィルム基材１の他方の面に透明な粘着剤層７を介して透明基体８が貼り合わされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低抵抗で平滑なＩＴＯ透明導電膜付きカラーフィルター基板を得ることを課題とする
【解決手段】ＩＴＯ透明導電膜の成膜にプラズマガンを用いるイオンプレーティング法が用い、ＩＴＯ透明導電膜を成膜されるときのカラ−フィルターが設けられた基板の温度が９０℃〜１６０℃であり、ＩＴＯ原料に照射するプラズマビームの単位面積あたりの投入出力が０．５〜１．６ｋＷ／ｃｍ^２である成膜方法である。また、ＩＴＯ透明導電膜の成膜にプラズマガンを用いるイオンプレーティング法が用いられ、ＩＴＯ原料に照射するプラズマビームの単位面積あたりの投入出力が０．５〜３ｋＷ／ｃｍ^２であり、ＩＴＯ透明導電膜を成膜されるときのカラ−フィルターが設けられた基板の温度上昇が５０℃以下であるＩＴＯ透明の成膜方法。 （もっと読む）

【課題】 極めて平滑で、抵抗が低く、非晶質である透明導電性薄膜と、該透明導電性薄膜を安定的に成膜可能な酸化物焼結体、およびこれを用いたスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 インジウム、タングステン、亜鉛、シリコンおよび酸素からなり、タングステンがＷ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０３４、亜鉛がＺｎ／Ｉｎ原子数比で０．００５〜０．０３２、シリコンがＳｉ／Ｉｎ原子数比で０．００７〜０．０５２の割合で含有し、かつ、ビックスバイト型構造の酸化インジウム結晶相を主相とする酸化物焼結体とする。 （もっと読む）

【課題】高価で資源枯渇の懸念のあるＩｎ原料を有しない又は極力減少せしめる透明導電体の開発において、母材透明導電体に対して、適切ドーパント量が一義的に決まってしまう単一ドーピングによる材料開発手法の限界を超えると共に、制御困難なドーパントに頼ることなく、濃度制御容易なドーパントによって、従来方法では実現できなかった低抵抗率等の透明導電体として必要な特性を有する新規透明導電体を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化亜鉛、酸化インジウム及び酸化ガリウムからなる透明導電体であり、酸素を除き、インジウムの元素濃度が０．５〜１．５原子％、ガリウムの元素濃度が０．５〜３．５原子％であり、残余が亜鉛であることを特徴とする低抵抗率透明導電体。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ透明導電膜の成膜後、基板がそることのない、ガラス基板上に成膜されるＩＴＯ透明導電膜と同程度の低抵抗のＩＴＯ透明導電膜付きフィルムを得ることを課題とする。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを主とするフィルム基板を用い、プラズマガンを用いるイオンプレーティング法で、成膜時のフィルム基板の温度を９０℃〜１４５℃の温度範囲に保ってＩＴＯ透明導電膜を成膜される、比抵抗が１．１×１０^―４〜３．０×１０^―４Ω・ｃｍの範囲にあるＩＴＯ透明導電膜付きフィルムである。また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】線幅が小さく開口率の高いメッシュ状の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を提供する。
【解決手段】透明フィルム１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット７を印刷する。次いで、このフィルム１のドット７上及びドット７間のフィルム露出面のすべてを覆うように防眩層２、金属層３及び防眩層４を順次に形成する。次に、このフィルム１を水等の溶剤によって洗浄する。ドット同士の間の領域に形成された層２，３，４よりなる導電性パターン防眩層２，４付きの金属層３がフィルム１上に残る。 （もっと読む）

【課題】輝度特性が優れているだけではなく、耐熱性、耐割れ性に優れた透明導電性フィルムを得る。
【解決手段】下記構造式（１）で表されるグルタル酸無水物単位を１０〜４０重量％含有するアクリル樹脂（Ａ）を含有する樹脂組成物から構成される基材の少なくとも一方の面に透明導電性薄膜が積層された透明導電性フィルム。
【化１】


（上記式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、同一または相異なる水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】低抵抗率の透明導電膜を、有機フィルム上に低温で形成することを可能とする透明導電膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ系ターゲットを用いたＤＣマグネトロンスパッタリング法により有機フィルム上に透明導電膜を形成する方法であって、前記スパッタリングは、−７０〜−１３０Ｖのバイアス電圧、０．１〜０．７Ａのターゲット電流で行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の主な目的は、湿式太陽電池作製に好適な表面抵抗の低い透明導電積層体を提供することにある。
【解決手段】 ０．０５〜０．２５ｍｍ厚みのポリエチレンテレフタレートフィルム及び／またはポリエチレン２，６ナフタレートフィルムの少なくとも一方の面に、酸化インジウムと酸化亜鉛よりなる透明導電膜を設けた湿式太陽電池用透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】透明電極のパターニング等の後加工におけるバリア層のダメージを軽減させ、バリア劣化の少ない透明電極付きバリアフィルムを提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム１７の片面上に、酸化珪素（ＳｉＯｘ）または窒化珪素（ＳｉＮｙ）もしくはこれらの混合物（ＳｉＮｎＯｍ）からなるバリア層２、アクリル保護層３を順次に積層し、他面上に密着層４、酸化珪素または窒化珪素もしくはこれらの混合物からなるバリア層５、アクリル保護層６、透明電極層７を順次に積層したこと。アクリル保護層が、アクリルフラッシュ蒸着で形成されたこと。 （もっと読む）