【課題】任意の色相に着色することができカラーフィルターの機能を有し、低い電気抵抗値を有すると共に低コストで製造できる透明導電体、前記透明導電体を製造するために好適に用いることのできる転写用導電性フィルム、さらに、前記転写用導電性フィルムを用いて、前記透明導電体を製造する方法を提供する。
【解決手段】基材６と、基材６上の透明導電層３と、基材６と透明導電層３との間に介在する接着層５とを有する透明導電体２０であって、前記導電層３は、導電性微粒子２の圧縮層であり、前記接着層５は、活性エネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を少なくとも含む接着性成分と、着色材４とを含む接着剤組成物の硬化物層であり、前記導電層には、前記接着剤組成物のうちの前記接着性成分が含浸され硬化されている透明導電体。 （もっと読む）

水性溶液中で、グラム単位の量のスケールでの銅ナノワイヤを製造するための合成方法であって、銅ナノワイヤが前記溶液中に分散される方法。銅ナノワイヤは、反応の最初の５分以内に、球状銅ナノ粒子から成長する。銅ナノワイヤは、溶液から収集されて、好ましくは可視光の６０％超を透過する導電性フィルム（好ましくは＜１００００Ω／ｓｑ）を形成するように印刷することができる。
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【課題】導電膜付き電極板を備えたパネル型入力装置の、導電膜の耐久性を向上させる。
【解決手段】電極板１０は、基板１２と、基板１２の表面に設けられる導電膜１４とを備える。導電膜１４は、基板１２の表面に積層され、導電性ポリマーを用いて形成される第１導電部材１６と、第１導電部材１６の表面に分布して載置され、無機系導電性物質を用いて形成される第２導電部材１８とを備える。第２導電部材１８を形成する無機系導電性物質としては、第１導電部材１６を形成する導電性ポリマーの導電率よりも高い導電率を有するものが選定される。 （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な塗布法による優れた透明性と高い導電性を備え、屈折率が小さく、平坦性に優れる低屈折率透明導電膜と、その製造方法を提供する。
【解決手段】主成分に有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物である塗布液を用い、耐熱性基板上に塗布膜を形成し、乾燥塗布膜を形成させ、乾燥塗布膜を焼成して、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の無機膜を形成する製造方法で、有機インジウム化合物、有機錫化合物、有機亜鉛化合物のいずれか一つ以上の有機金属化合物が主成分の乾燥塗布膜を、露点−１０℃を越える酸素含有雰囲気下で、少なくとも無機成分の結晶化が起こる焼成温度以上まで昇温し、含まれる有機成分を除去することで、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛のいずれか一つ以上が主成分の微粒子間に空隙を有する低屈折率の導電性酸化物微粒子層を形成する。 （もっと読む）

【課題】相対密度が高く、抵抗が低く、均一で、良好な酸化物半導体や透明導電膜等の酸化物薄膜を作製しうるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】下記に示す酸化物Ａと、ビックスバイト型の結晶構造を有する酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）と、を含有するスパッタリングターゲット。
酸化物Ａ：インジウム元素（Ｉｎ）、ガリウム元素（Ｇａ）、及び亜鉛元素（Ｚｎ）を含み、Ｘ線回折測定（Ｃｕｋα線）により、入射角（２θ）が、７．０°〜８．４°、３０．６°〜３２．０°、３３．８°〜３５．８°、５３．５°〜５６．５°及び５６．５°〜５９．５°の各位置に回折ピークが観測される酸化物。 （もっと読む）

【課題】有機高分子成型物からなる基板上に、透明性および加湿熱信頼性にすぐれるとともに、比抵抗が低すぎることのない、完全結晶化してなる透明導電層を有する透明導電積層体を提供する。
【解決手段】有機高分子成型物からなる基板上に、Ｓｎ原子の量が、Ｉｎ原子とＳｎ原子とを加えた重さに対し、１〜６重量％であるＩｎ・Ｓｎ複合酸化物からなる、膜厚が１５〜５０ｎｍ、ホール移動度が３０〜４５cm² ／Ｖ・Ｓ、キャリア密度が（２〜６）×１０²⁰個／cm³ である、完全結晶化している透明導電層を有することを特徴とする透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】触媒量の酸化剤を利用した酸化重合によりポリチオフェンを合成する方法、該ポリチオフェンを含む分散体、及び導電性フィルムを提供する。
【解決手段】酢酸パラジウム（ＩＩ）等のパラジウム系触媒及び酢酸銅（ＩＩ）等の銅触媒と酸化剤として酸素の存在下で、３，４−エチレンジオキシチオフェン等の置換チオフェンを酸化重合するポリチオフェンの製造方法、及びポリチオフェンと、パラジウムと、ポリスルホン酸水溶液を含む分散体。該分散体から導電性フィルムが得られる。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、且つ、低い表面抵抗率を有すると共に、表面平滑性を有していて安価に製造することが可能な、透明導電性フィルムの製造方法及び透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】（１）透明樹脂基材２の片面上に、溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを、細線メッシュパターン用のネガ型の遮蔽マスク８として形成し、（２）遮蔽マスク８が透明樹脂基材２を覆っている状態で、透明樹脂基材２の上に、スパッタまたは真空蒸着により、金属薄膜９を形成し、（３）遮蔽マスク８を溶剤に溶解させて除去し、金属薄膜５からなる細線メッシュパターンを表出させ、（４）細線メッシュパターンの金属薄膜５が成す凸状部と、金属薄膜５が形成されていない凹状の開口部７の一部または全面に、透明性を有する導電樹脂層６を、前記凸状部が埋没するように被覆し、導電樹脂層６による被覆表面の表面高低差が５０〜４００ｎｍとする。 （もっと読む）

【課題】（i）抵抗値が５〜５０００Ω／□で、(ii)柔軟性（フレキシビリィティ）に富み、(iii)導電性部と透明基材との密着性が高く、(iv)可視光領域において７０％以上の光線透過率を有し、かつ、製造コストを低減できるタッチパネル用電極フィルム及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】プライマー層のうち導電パターン層が形成されている部分の厚さは、前記導電パターン層が形成されていない部分の厚さよりも厚く、且つ該導電性組成物が導電体粒子とバインダー樹脂を含み、該導電パターン層中の該導電体粒子の分布は、(i)相対的に、該プライマー層近傍において分布が疎であり、又該導電パターンの頂部近傍において密である、又は（ii）相対的に、該導電体粒子の間隔が該プライマー層近傍において大であり、該凸状パターン層の頂部近傍において小である、ことを特徴とするタッチパネル用電極フィルム、及びそれを用いたタッチパネル。 （もっと読む）

本発明は、基板（１）と、少なくとも１つの極薄金属膜（３）と接触する導電膜（２）からなる層状構造部と、を備え、２つの膜（２，３）が異なる材料からなり、前記導電膜（２）がＣｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌから選択され、前記極薄金属膜（３）がＮｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびこれらの混合物から選択される電極に関する。電極は、光電子デバイスに特に有益であり、良好な導電率、透過率および安定性を示す。
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【課題】着色がなく、低抵抗な透明導電膜を提供すること。
【解決手段】重合度の分布ピークが３のＰＥＤＯＴよりなるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳと前記重合度の分布ピークが１１のＰＥＤＯＴよりなるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳとを混合した分散液を塗布することにより、波長４５０ｎｍでの透過率Ｔ１と波長７５０ｎｍでの透過率Ｔ２との比Ｔ１／Ｔ２が０．５〜２．０である透明導電膜を得る。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に２層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には少なくとも１層のアンダーコート層を有し、かつ、パターン化された透明導電体層は、２層のアンダーコート層を介して設けられており、前記透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層の厚みが、前記透明なフィルム基材から第二層目のアンダーコート層の厚みよりも大きいことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】アーク放電法による単層カーボンナノチューブの製造において触媒として用いることによって、すぐれた透明性と導電性を有する透明導電膜を得るための導電性材料として好適に用いることができる単層カーボンナノチューブを与える触媒を提供することを目的とし、更には、上述した触媒を用いるアーク放電法による単層カーボンナノチューブの製造方法と、このようにして得られる単層カーボンナノチューブを導電性フィラーとして用いてなる透明導電膜を提供する。
【解決手段】本発明によれば、硫黄１モル部に対し、コバルト０．９〜３．２モル部、鉄０．４５〜２．２モル部、ニッケル０．４５〜２．２モル部からなることを特徴とする、アーク放電法による単層カーボンナノチューブ製造用触媒が提供される。本発明による触媒を用いて得られた単層カーボンナノチューブを用いることによって、透明性と導電性にすぐれる導電膜を製膜することができる。 （もっと読む）

【課題】容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
【解決手段】基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、
基板上にＳｎＯ_２−ｘ膜（０．３≦ｘ≦１．９５）を形成する工程、前記ＳｎＯ_２−ｘ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記ＳｎＯ_２−ｘ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法、または、
基板上に膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を形成する工程、前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜の一部を除去してパターニングする工程、パターニングされた前記膜の密度が６．５グラム／ｃｍ^３以下の酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含む透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】可視光領域において高透過率を有し、透明導電層をパターニングしても、導電面と絶縁面で視認性の差を抑制することが出来る透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明導電性フィルム１は、透明基材２、第２の透明導電層３、絶縁色差調整層４及び第１の透明導電層５を順次積層して形成する。なお、第２の透明導電層３、絶縁色差調整層４及び第１の透明導電層５は、透明基材２の両面に形成されてもよい。第１の透明導電層５をパターニングすることにより形成されている第１の透明導電層５の上面の導電面６と絶縁色差調整層４の上面の絶縁面７とを具備している。 （もっと読む）

【課題】透明導電層がパターン化された透明導電性フィルムにおいて、パターン部とパターン開口部の直下との間での反射光の色相の相違による見栄えの悪化を抑制できる透明導電性フィルムと、これを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明基材(1)上に第１透明誘電体層(2)及び透明導電層(4)がこの順に形成されており、パターン部(P)に白色光を照射した際の反射光の色相ａ^＊値及び色相ｂ^＊値をそれぞれａ^＊_Ｐ及びｂ^＊_Ｐとし、パターン開口部(O)の直下に白色光を照射した際の反射光の色相ａ^＊値及び色相ｂ^＊値をそれぞれａ^＊_Ｏ及びｂ^＊_Ｏとしたとき、０≦｜ａ^＊_Ｐ−ａ^＊_Ｏ｜≦４．００の関係を満足し、かつ０≦｜ｂ^＊_Ｐ−ｂ^＊_Ｏ｜≦５．００の関係を満足することを特徴とする透明導電性フィルム(10)とする。 （もっと読む）

【課題】 金属ナノワイヤを含有する透明導電膜の導電性を確保しながらヘイズを下げることができる透明導電膜付き基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 マトリクス樹脂２中に金属ナノワイヤ３を含有して形成される透明導電膜４を透明基材１の表面に備えた透明導電膜付き基材であって、前記金属ナノワイヤ３が表面を黒化処理されたものであると共に、前記透明導電膜４の表面抵抗値が１０００Ω／□以下である。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子膜、及び固体電解コンデンサなどの電子デバイスに用いられる導電性高分子膜の導電性の向上を目的とする。
【解決手段】本発明の導電性高分子膜は、導電性高分子のモノマーと、酸化剤と、添加剤とを含む重合液を用いて形成される導電性高分子膜である。添加剤として、ドーパントと塩基性物質からなる塩を用いる。本発明の電子デバイスとしての固体電解コンデンサは、導電性高分子層３として、前記導電性高分子膜を用いる。 （もっと読む）

電気伝導性ナノワイヤおよび導電性材料、例えば、良好な太陽電池効率などの高いデバイス性能を提供するスルホン化された位置規則性ポリチオフェンのような共役ポリマーなど、を採用する有機電子デバイス、組成物、および方法を開示する。物理的応力に対する回復力に富む透明導電体を必要とするデバイスを、腐食問題を低減して製作することができる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた導電性微粒子分散液、透明性に優れ、且つ、帯電防止機能を有する硬化膜を基材の表面に形成することができる導電性微粒子含有光硬化性組成物、及びこの光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化膜を提供し、また、特に高屈折率の透明導電膜形成用として有用なこれら分散液、組成物、及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子、金属錯体及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子分散液と、導電性微粒子、金属錯体、活性エネルギー線硬化性化合物、光重合開始剤及び分散媒、並びに必要に応じて配合される屈折率が１．８以上の高屈折率微粒子からなる導電性微粒子含有光硬化性組成物と、この導電性微粒子含有光硬化性組成物を硬化させて得られる導電性微粒子含有硬化物膜である。 （もっと読む）