【課題】簡易な方法により大面積で高透過率、低抵抗率の透明導電膜を得ること。
【解決手段】ＣＶＤ反応容器の第１の領域にショウノウを配置する工程と、ＣＶＤ反応容器の第２の領域にグラフェンシートを形成する基板を配置する工程と、第１の領域を加熱して、ショウノウを蒸気化し、ＣＶＤ反応容器内において、不活性ガスのキャリアガスを第１の領域から第２の領域に向けて流すことにより、加熱された第２の領域に配置された基板（Ｎｉ）上にショウノウの蒸気を導く工程と、加熱された第２の領域に配置された基板上において、ショウノウの蒸気を熱分解して、基板上に、グラフェンシートを得る工程を有する。そして、グラフェンシートと接触している基板の表面を、ウエットエッチングして、グラフェンシートをエッチング溶液中に剥離させる工程と、エッチング溶液中に剥離したグラフェンシートを、対象物上に貼り付ける工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】平滑性が高く高導電性でかつ透過性にすぐれた透明導電性体、および、その簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも片面にカーボンナノチューブからなる導電層を有し、導電層の表面粗さＲａが５．０ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性体。また、透明導電性体を製造する方法であって、カーボンナノチューブ分散液を、分散溶媒の沸点以上に加熱した透明基材上に塗布する透明導電性体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】金属ナノワイヤの配線手法を簡易なものとし、導電膜の製造コストを低減することができ、大面積でも低抵抗で抵抗の均一性に優れ、かつ、光透過性が高く、軽量で柔軟性に富む導電膜の製造方法ならびにこの製造方法により得られた導電膜を提供する。
【解決手段】 透明基材上に導電性パターンを有する導電膜を製造する方法であって、
（ａ）透明基材表面に導電性繊維と導電性ポリマーとを含有する分散液を塗工する工程、（ｂ）規則的な凹凸形状を有する鋳型を分散液側から透明基材表面に当接して、透明基材と鋳型の凹部との間に形成される空間に導電性繊維を含有する導電性パターンを形成する工程、
を有することを特徴とする、導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】導電性、透明性、フレキシブル性、電流の面均一性に優れ、高い膜強度を持つ透明電極を、電極やフィルム基板を損傷することなく製造する方法を提供する。さらに、該電極を用いた、寿命に優れた有機電子素子を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、金属細線を有する導電性金属層と、π共役系導電性高分子とポリアニオンに、さらに水酸基を有する特定の重合単位からなるポリマーを添加し導電性ポリマー層を構成した後、周波数１０〜６０ＧＨｚのマイクロ波を照射し該ポリマー層を選択的に加熱処理することを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光散乱が小さく黒締まりが良好で、長波長領域まで高透過率であり、かつ高導電性を有する導電膜及び導電膜の製造方法、並びに視認性のよいタッチパネル及び変換効率の高い集積型太陽電池の提供。
【解決手段】平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが５μｍ以上である金属ナノワイヤーを少なくとも含有する導電膜であって、前記導電膜表面に対し垂直方向から走査型電子顕微鏡で観察した際に、測定対象となる１本の金属ナノワイヤーが他の金属ナノワイヤーと重なる交点の数が、前記１本の金属ナノワイヤーの１μｍ当たり、２個〜２００個である導電膜とする。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に、そして生産性良く製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を用いて基板上に導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工し、パターンを有する導電性膜を形成する工程と、赤外線を照射する工程とをこの順に行うことによって基板上にパターンを有する導電性膜を形成することを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイスに用いることができる、導電性、透明性、フレキシブル性、電流の面均一性に優れた透明電極を、電極やフィルム基板が損傷することなく製造する透明電極の製造方法を提供することである。
【解決手段】フィルム基板上に、パターン状に形成された金属材料からなる第１導電層と、導電性ポリマーを含有する第２導電層を有する透明電極の製造方法であって、前記第２導電層が水酸基含有非導電性ポリマーを含有し、かつ、前記第１導電層または前記第２導電層が、支持台表面の導電体または半導体導電体と接触した状態で、前記フィルム基板側からマイクロ波を照射することを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 所望の形状の導電膜を形成する場合であっても、電気接続性に優れた透明導電膜を容易に形成できる感光性導電フィルム、並びに、これを用いた導電膜の形成方法及び導電パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】 上記課題を解決する感光性導電フィルム１０は、支持体１、導電性繊維と有機導電材料とを含有する導電層２、感光性樹脂層３、及び、必要に応じて保護フィルム４がこの順に積層された構造を有する。 （もっと読む）

【課題】耐久性、導電性、透明性に優れ、透明基体に対する密着性にも優れた導電膜を有する透明導電体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電体は、透明基体１１と、透明基体１１の少なくとも片面に設けられた導電膜１２とを有し、導電膜１２が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとエポキシ化合物の少なくとも一部の水素原子がフッ素原子に置換されたフッ素含有エポキシ化合物とを含有する導電性組成物の硬化物からなる。 （もっと読む）

【課題】高導電性と高透明性を両立した透明導電膜を簡易に形成することができる透明導電膜形成用基板を提供する。
【解決手段】基板４の表面に、ナノ粒子１を単分散状態で配置して付着させたことを特徴とする。ナノ粒子１をマスクとして基板４の表面に導電材料６を被覆した後にナノ粒子１を除去することによって、ナノ粒子１の除去跡が光が透過する開口部８となると共にこの開口部８以外の部分にメッシュ状の導電材料６の膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】これまでの透明電極付き基板では、表面粗さは基板に依存しており、その上に形成される下地層や透明電極層では表面粗さを制御できず、この為、ミクロンオーダー以下の凹凸の制御ができず、光学設計にも限界があった。
【解決手段】下地層として、一部または全部が粒子状の酸化ケイ素からなる層を用いることで、ナノレベルの凹凸の制御および屈折率の制御が可能となり、結果として透明電極付き基板の光学特性を大きく向上することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】低コストで、タクトタイムの短縮が可能な導電パターンの形成方法及びこれに用いる組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導電パターン形成方法によれば、ＡｌＮ粉末、ガラスフリット及び溶剤を含むペーストを基板上に塗布する塗布工程と、塗布された前記ペーストを乾燥し、乾燥塗膜を形成する乾燥工程と、レーザー光の照射により、前記乾燥塗膜に導電パターンを描画するレーザー描画工程と、前記乾燥塗膜のうち、前記レーザー光の未照射部分を、現像液を用いて除去する現像工程とを含むことを特徴とする （もっと読む）

【課題】基板上に、基板との接着性が十分であり且つ表面抵抗率が十分小さい導電パターンを十分な解像度で簡便に形成することを可能とする感光性導電フィルム、並びに、この感光性導電フィルムを用いた導電膜の形成方法、導電パターンの形成方法及び導電膜基板を提供する。
【解決手段】感光性導電フィルム１０は、支持フィルム１と、該支持フィルム１上に設けられ導電性繊維を含有する導電層２と、該導電層２上に設けられた感光性樹脂層３とを備え、該感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートするラミネート工程と、前記基板上の前記感光性樹脂層に活性光線を照射する露光工程と、を備える方法により形成された導電膜基板。さらに、露光した前記感光性樹脂層を現像することにより形成された導電パターンを備える導電性基板。 （もっと読む）

本発明は、ドープした酸化物からなり、光起電モジュールの電極を形成することができる透明な電気伝導性層と組み合わされた透明ガラス基材であって、前記ガラス基材と前記透明電気伝導性層との間に、当該ガラスに対する付着特性が良好である少なくとも１種の第１の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物の層が挿入され、次いで当該ガラスに対する付着特性が良好である少なくとも１種の第２の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物と、透明電気伝導性層を、任意選択的にドープされた状態でもって、形成することができる少なくとも１種の第３の窒化物又は酸窒化物、あるいは酸化物又は酸炭化物との混成層が挿入されていることを特徴とする透明ガラス基材に関する。本発明はまた、そのような基材を含む光起電モジュールのため、付形した加熱ガラスのため、プラズマスクリーンのため、フラットランプ電極のため、低輻射率ガラスのために、そのような基材を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】導電性及び透明性に優れたパターン電極、および該電極を用いた有機電子デバイスを簡便に提供する。
【解決手段】透明支持体１０上に、金属繊維を含有する導電性金属層１を有し、更にπ共役系導電性高分子とポリアニオンを含んで成る導電性ポリマーおよび下記ポリマー（Ａ）を含有する導電性ポリマー層２とを有する透明パターン電極２０において、該導電性金属層と該導電性ポリマー層が、パターン像様の積層構造を有することを特徴とする透明パターン電極。
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【課題】膜はがれを起こすことなく、透明性及び導電性が大幅に向上した導電膜及び該導電膜の製造方法の提供。
【解決手段】金属ナノワイヤー及び分散剤を含有する金属ナノワイヤー含有膜を作製する金属ナノワイヤー含有膜作製工程と、前記金属ナノワイヤー含有膜を浸漬液中に浸漬する浸漬工程とを含む導電膜の製造方法である。該浸漬液が、金属ナノワイヤー含有膜中の分散剤を溶解可能な溶媒である態様、前記浸漬液が、エタノール、エチレングリコール、メタノール及び水から選択される少なくとも１種である態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】内部への水分の浸入を防止して、白化を防止することができる透明導電膜層シー
トを提供する。
【解決手段】 透明導電膜層シート５は、波長５５０ｎｍにおける面内方向リタデーショ
ン値Ｒｅが２０ｎｍ以下で水蒸気透過性が高い材質からなる基体シート７と、基体シート
７の一方面の上に形成された透明導電膜層３と、透明導電膜層３を覆うように形成された
粘着層４と、基体シート７の他方面に積層された水蒸気バリア性のある材質からなる保護
シート１とを備えている。保護シート１を立体形状に加工して、粘着層４の側面を被覆す
るように構成してもよい。 （もっと読む）

【課題】内部への水分の浸入を防止して、白化を防止することができる透明導電膜層シー
トを提供する。
【解決手段】透明導電膜層シート５は、水蒸気バリア性のある材質からなる基体シート１
と、基体シート１の一方面の上に形成された透明導電膜層３と、透明導電膜層３を覆うよ
うに形成された粘着層４と、粘着層４の上に積層された、波長５５０ｎｍにおける面内方
向リタデーション値Ｒｅが２０ｎｍ以下の光学等方性シート７とを備えている。透明導電
膜層シート５は、光学等方性シート７の上に形成された透明導電膜層３と、その透明導電
膜層３を覆うように形成された粘着層４とを更に備えていてもよい。基体シート１が、粘
着層４の側面まで被覆されるよう立体形状に形成されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法を使用することなく、ガラス基板に導電膜を設ける表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】表示装置用のガラス基板の表面にエッチング液を接触させて、ガラス表面の算術平均粗さＲａを０．７ｎｍ〜７０ｎｍに設定する化学研磨工程と、化学研磨工程後のガラス表面に導電性ポリマーを塗布して、４００〜１２００Ω／ｓｑの導電膜を形成する成膜工程と、を有し、成膜工程後のガラス基板の全光線透過率を、板厚０．５ｍｍのガラス基板において８７％以上とする。 （もっと読む）