【課題】 適正な膜抵抗の評価を行うことができ、安定した抵抗値が得られる透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に透明導電膜を形成する透明導電膜の製造方法において、製膜室３で形成された透明導電膜の膜厚を測定するとともに、後段の評価室４で上記形成された透明導電膜の抵抗値を測定し、上記測定された膜厚と抵抗値の測定結果を製膜室３での製膜条件にフィードバックして透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗率の透明導電膜を、有機フィルム上に低温で形成することを可能とする透明導電膜の形成方法を提供すること。
【解決手段】Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ系ターゲットを用いたＤＣマグネトロンスパッタリング法により有機フィルム上に透明導電膜を形成する方法であって、前記スパッタリングは、−７０〜−１３０Ｖのバイアス電圧、０．１〜０．７Ａのターゲット電流で行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
可視光透過率及び導電性に優れ、安価な透明導電膜を提供する。
【解決手段】
メタタングステン酸アンモニウム水溶液と、塩化ルビジウム（ＲｂＣｌ）の水溶液とを、ＷとＲｂの原子比がＲｂ/Ｗ＝０．３３となるように混合し、さらに界面活性剤を添加して成膜用溶液を得、当該成膜用溶液を透明石英基板へ塗布した後、熱処理して当該基板上に透明導電膜を得た。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム膜をアルゴンガス雰囲気中で成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を２００〜３５０℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を５０〜１５０Ω／□とすることを特徴とする透明導電膜の製法である。 （もっと読む）

【課題】
酸化インジウムをターゲットに用い、ガラス基板を非加熱の状態で、スパッタリング法によって酸化インジウム膜を形成した透明導電性基板は、該透明導電性基板を様々な温度で加熱処理すると、比抵抗が大きく変化してしまうという欠点を有していた。
【解決手段】
酸化インジウムターゲットを用いてスパッタリング法で非加熱のガラス基板上に酸化インジウム導電膜を成膜するときに、酸素ガスの量が２．５容積％以下のアルゴンガス雰囲気中で酸化インジウム膜を成膜し、酸化インジウムの成膜後、該酸化インジウムの成膜されたガラス基板を１００〜２００℃の温度で加熱処理し、酸化インジウムのシート抵抗を、５０〜１５０Ω／□とする酸化インジウム膜の製法。 （もっと読む）

【課題】多結晶ＩＴＯ薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】まず、基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、非晶質ＩＴＯ薄膜を多結晶ＩＴＯ薄膜に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。多結晶ＩＴＯ電極の製造方法をさらに提供する。まず、ＴＦＴアレイ基板上に非晶質ＩＴＯ薄膜を形成する。次に、複数の非晶質ＩＴＯ電極を形成するため、非晶質ＩＴＯ薄膜をパターン形成する。非晶質ＩＴＯ電極を複数の多結晶ＩＴＯ電極に変換するため、急速熱アニーリングプロセスを実施する。平坦性の向上した多結晶ＩＴＯ薄膜が形成される。処理時間が短縮され、プロセス処理能力が改善される。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機ＥＬ発光素子の上面側の電極に適する低抵抗性の透明導電膜を室温で製膜する。
【解決手段】基板１の上に第１の電極２を形成し、その上に発光層３を形成し、その後、ガリウム添加酸化亜鉛を主成分とするターゲット材１１を用い、酸素ガスを含有しない雰囲気とし、スパッタ装置内空間１０にＡｒガスのフローのみを流入し、かつ基板１に対して加熱することなく、通常レベルの磁場１２を備えるスパッタ法によりガリウム添加酸化亜鉛膜をマスク１５越しに基板１の上に製膜する製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 熱安定および低電気抵抗の酸化インジウムスズ膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化物誘電層２０を形成し、即ち、基板１０の表面に酸化物薄膜を形成するステップａと、酸化物誘電層２０を表面処理し、即ち、酸素をイオン源設備に送入し、酸素がイオン源を通過した後に発生するイオン束により酸化物誘電層２０に表面処理を実行するステップｂと、透明導電膜を形成し、即ち、イオン処理を通過した後の酸化物誘電層２０の上に酸化インジウムスズ膜３０を積層するステップｃとを含む。基板１０は、プラスチックの本体１１と本体１１の一側面に形成される硬質コーティング１２から構成され、本体１１の他側は基板１０の表面１０ａを形成する。酸化物誘電層２０にイオン処理を予め実行することで、酸化物誘電層２０の安定性および精密度を高める。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、かつ、廃液処理の必要がない簡便な方法で、表面改質処理を行うことができる透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、スパッタリング法により酸化亜鉛を含有する透明導電膜を製膜するステップと、前記透明導電膜の製膜後、反応性イオンエッチング法により前記透明導電膜の表層部を除去するステップと、を含む透明導電膜の製造方法、及びその製造方法により得られた透明導電膜を含む透明導電基板である。上記方法により、透明導電膜の表面改質処理を行うことで、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 製膜後の透明導電膜について、煩雑な工程を経ることなく、表面改質を行うことが可能であり、かつ、表面改質処理後の廃液を簡便な方法で処理し得る透明導電膜の製造方法を提供する。また、透明導電膜と異方導電性フィルム接着剤との間で、高い接着強度及び低い接触抵抗を長期間維持することが可能であり、かつ耐久性に優れた透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に設けられ、酸化亜鉛を含む透明導電膜について、酸性水溶液を用いて、その表層部を除去することを特徴とする透明導電膜の製造方法、及びその製造方法で製造された透明導電膜を含む透明導電基板である。酸性水溶液を用いて、透明導電膜の表面改質処理を行うことにより、全体として均一な化学組成を有し、かつ、その表面が粗面化された透明導電膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 タッチパネルなどの用途に適した表面抵抗を有し、かつ高温高湿度での信頼性にすぐれる、つまり耐湿熱性能にすぐれる透明導電性フィルムを提供する。


【解決手段】 透明なフィルム基材１の一方の面に、乾式薄膜形成法により、厚さが１０〜１００ｎｍ、光の屈折率が１．４０〜１．８０、平均表面粗さ〔Ｒａ〕が０．８〜３．０ｎｍである透明なＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）薄膜２を形成し、この薄膜２上に、厚さが２０〜３５ｎｍ、ＳｎＯ₂ ／（Ｉｎ₂ Ｏ₃ ＋ＳｎＯ₂ ）重量比が３〜１５重量％であるインジウム・スズ複合酸化物からなる透明な導電性薄膜３を形成して、表面抵抗値が２５０〜５００Ω／□、８５℃，８５％ＲＨ下で５００〜１，０００時間放置後の抵抗変化率が１．５倍以下である透明導電性フィルムを製造する。 （もっと読む）

容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 改善された光学的および電気的膜特性を有する透明で導電性の酸化物膜（ＴＣＯ膜）であり、薄膜太陽電池において使用するのに適する表面構造を有する該膜の提供。
【解決手段】 この課題は、反応性スパッタリングによって基板上に導電性で透明な酸化亜鉛膜を生成し、プロセスにヒステリシス領域を有している方法において、ドーピング剤を含有する金属Ｚｎターゲットを使用し、該ターゲットのドーピング剤含有量が２．３原子％より少なく； 基板のための加熱器を、２００℃より高い該基板温度に調整される様に調整し；
１９０ｎｍ／分より早い静的溶着速度に相当する５０ｎｍ*ｍ／分より早い動的溶着速度に調整し；そして安定な金属プロセスと不安定なプロセスとの間の転換点と安定化されたプロセス曲線の屈曲点との間に位置する、不安定なプロセス領域内で安定化した作業点を選択する各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 （もっと読む）

陰極５０と、陽極２０と、陰極５０と陽極２０の間に介在する発光層４０からなり、陽極２０の少なくとも発光層４０に接する部分が、ランタン、セリウム、ネオジウム、サマリウム、ユーロピウムから選ばれる少なくとも１つ以上の元素と、クロム、タングステン、タンタル、ニオブ、銀、パラジウム、銅、ニッケル、コバルト、モリブデン、白金、シリコンから選ばれる少なくとも１つ以上の元素を含む有機エレクトロルミネッセンス素子。この素子では、陽極から発光層に正孔が効率よく注入され、有機ＥＬ素子の駆動電圧のさらなる低電圧化、及び低電圧駆動による長寿命化が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 高抵抗透明導電膜、特に抵抗膜式タッチパネル装置等の画面位置確定のために使用されるシート抵抗５００〜２０００Ω／□程度の高い表面抵抗率を有する透明導電膜の形成に有用である高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とする焼結体であって、さらに酸化ケイ素又は酸化チタンの少なくとも一方を含有することを特徴とする高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）