【課題】基板上に透明電極層を設け、さらにその上に導電性ペーストを原料とした金属配線を形成した透明電極付き基板において、当該透明電極層と当該金属配線の接着性に優れた透明電極付き基板を提供する。
【解決手段】透明電極層と金属配線の間にカーボン膜などの実質炭素を含有する層を形成することで、金属配線の剥離のない、耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。これらのカーボン層はスパッタリング法やプラズマＣＶＤ法により形成することができる。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用表示電極等に用いられるＩＴＯ系非晶質透明導電膜をスパッタ時に水添加することなく製造でき、高エッチング性と低結晶化温度を有し、結晶化後には低抵抗率と高透過率の特性を高い次元で満足する透明導電膜、該透明導電膜製造用のスパッタ時に異常放電のない焼結体ターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウムを主成分とし、Ｇｅ／（Ｇｅ＋Ｉｎ）の原子％で６〜１６％であり、その他の諸特性を有する焼結体ターゲット、該ターゲットを所定の条件でスパッタして得られる非晶質透明導電膜、該非晶質透明導電膜をアニールして得られる結晶質透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】 表面抵抗値が高く、かつ、信頼性の高い透明導電積層体を製造することが可能な透明導電積層体の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本発明の透明導電積層体の製造方法は、透明基材フィルム１１上に透明導電層１２が形成された透明導電積層体の製造方法であって、スパッタリング用ガスおよび酸素ガスを含む混合ガス中において、Ｉｎ_２Ｏ_３およびＳｎＯ_２を含むターゲットを用いたスパッタリング法により、前記透明基材フィルム１１上に前記透明導電層１２を形成する透明導電層形成工程を含み、前記ターゲットが、さらに、第３の成分を含み、前記ターゲットにおける前記Ｉｎ_２Ｏ_３と前記ＳｎＯ_２との合計含有割合に対する前記ＳｎＯ_２の含有割合が、２０〜４５重量％の範囲であり、前記混合ガスに対する前記酸素ガスの混合比率が、１〜５体積％の範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた多層フィルムを作製し、供給する。
【解決手段】透明な樹脂基板１１の少なくとも一方の面に該樹脂基板とは屈折率の異なる光学膜１３、１４を形成し、最外層１５に透明導電膜１５を有する多層フィルムにおいて、該多層フィルムの40℃90%Rhにおける水蒸気透過速度を1.0g/m2・day以下とする。前記光学膜は透明な樹脂基板に近い層から順に、屈折率n1が1.50〜2.20で膜厚d1が1〜10nmである第１の薄膜層１３と、屈折率n2が1.35〜1.50で膜厚ｄ2が10〜40nmの第２の薄膜層１４からなり、また、透明導電膜１５は、屈折率n3が1.90〜2.20で膜厚d3が10〜30nmの第３の薄膜層からなる。 （もっと読む）

【課題】光学機能及び導電機能を別々に形成する積層フィルムよりも製造工程を削減し、かつ、歩留まりを向上させることができる優れた積層フィルムを提供すること。
【解決手段】積層フィルム１０は、透明な樹脂基板１１と、ハードコート層１２と、光学膜１３、１４，１５と、透明導電膜１６とを具備している。光学膜１３、１４、１５及び透明導電膜１６は、樹脂基板１１の屈折率とは異なる屈折率を有している。積層フィルム１０は、４０℃９０％Ｒｈにおける水蒸気透過速度が１．０ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であるように形成されている。積層フィルム１０は、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ７１０５）が９０％以上であり、かつ、Ｄ６５光源の透過光の色相をＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表す場合のｂ＊の値が−１．０以上１．５以下であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】耐筆記性などの耐久性を向上させ、且つ、高透過率な透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材（Ａ）１１上の一方の面にハードコート層（Ｈ）１５、反対の面には真空成膜装置内において、重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）を蒸発源に滴下して気化させて形成され、紫外線または電子線を照射することで硬化した被膜層（Ｂ）１２、その被膜層（Ｂ）１２上に透明導電膜層（Ｃ）１３が積層されてなり、前記被膜層（Ｂ）１２を形成する前記重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）の硬化収縮率が０．２％以上１０％以下であることを特徴とする透明導電性フィルム１。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の高い透明導電膜を適用することで、より低コストの、熱負荷の高い製造工程を採用した場合でも、位置検出に問題のない、高品位の表示が可能な静電容量式タッチパネルとその製造方法及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明基板上に、少なくとも透明導電膜と、誘電体層とが積層されており、該基板額縁部に少なくとも位置検出用配線部並びに位置検出用電極からなる位置検出用部材が配置された構造を有する静電容量式タッチパネルであって、前記透明導電膜が酸化インジウムを主成分とし、ガリウムおよびスズを含む酸化物からなることを特徴とする静電容量式タッチパネルなどによって提供。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバなどの高真空下の環境を形成するための大掛かりな装置を必要とせず、低コストで透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】透明基板３上に透明導電膜となる金属膜４を不活性気体雰囲気中でスパッタ法により形成する工程と、前記金属膜４を酸化させる工程とを含み、前記金属膜４を形成する工程において不活性気体雰囲気に微量の酸素を添加し、金属膜４を僅かに酸化させることを特徴とする透明導電膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を主成分とする透明導電性酸化物の導電性を向上させ、且つ湿熱耐久性に優れる透明電極を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物中に導電性ドーピング剤として酸化ニオブ（ＩＩ）、酸化ニオブ（ＩＶ）、酸化ニオブ（Ｖ）のいずれかを０．５〜１０．０ｗｔ％含有する。さらに二酸化珪素を０．５〜３．０ｗｔ％含有させることで湿熱耐久性がさらに向上する。これらの透明導電性酸化物を透明電極層とすることで、導電性・透明性・湿熱耐久性に優れた透明電極付き基板を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】アニールなしで実用上問題ない抵抗値を実現するとともに、対エッチング性および光の透過性も良好な、透明導電膜付き基板、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明な基板１０と、基板１０上に形成された透明導電膜とを有する透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜は、前記基板１０面上に、第１の金属酸化物膜２０と、銀（Ａｇ）合金膜３０と、第２の金属酸化物膜４０と、が順に積層された３層を少なくとも有する。銀合金膜３０は、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、パラジウム（Ｐｄ）及び白金（Ｐｔ）のうち少なくとも１種と、ゲルマニウム（Ｇｅ）、セリウム（Ｃｅ）、ネオジウム（Ｎｄ）及びガドリニウム（Ｇｄ）のうち少なくとも１種と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜に対して強い密着性を持ち、更に高い導電性を得る電極形成用組成物と、この組成物を用いた導電性基材の製造方法及びこれによって得られた導電性基材を提供する。
【解決手段】金属コロイド粒子、及びこの金属コロイド粒子の分散媒を含むペーストで構成された電極形成用組成物において、前記金属コロイド粒子を、金属ナノ粒子（Ａ）と、この金属ナノ粒子（Ａ）を被覆する保護コロイド（Ｂ）とで構成し、かつ前記保護コロイド（Ｂ）を、カルボキシル基を有する有機化合物（Ｂ１）と、高分子分散剤（Ｂ２）とで構成する。基材と、前記基材の表面に成形された透明電極膜と、前記透明電極膜の表面に形成された金属膜から構成された導電性基材の金属膜として、前記電極形成用組成物を焼結して使用する。 （もっと読む）

【課題】異導体に対する接触抵抗が小さく、耐久性および透明性に優れた導電性シートを提供する。
【解決手段】本発明の導電性シートは、透明基材１１と、透明基材１１の片面または両面に形成され、π共役系導電性高分子とポリアニオンとエポキシ化合物の硬化物とを含有する有機導電層１２ａと、有機導電層１２ａの表面に形成され、金属および導電性金属酸化物の一方または両方を含有する厚さ１〜５０００ｎｍの無機導電層１２ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、異導体に対する接触抵抗が小さい導電性シートを容易に製造できる導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性シートは、透明基材１１と、透明基材１１の片面または両面に形成され、π共役系導電性高分子およびポリアニオンを含有する有機導電層１２ａと、有機導電層１２ａの表面に形成され、金属および導電性金属酸化物の一方または両方を含有する厚さ１〜５０００ｎｍの無機導電層１２ｂとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル等に適用した場合に、粘着剤層にかかわる視認性の問題を低減することができる粘着剤層付き透明導電性フィルムとその製造方法、透明導電性積層体およびタッチパネルを提供する。
【解決手段】第一の透明プラスチックフィルム基材(1)の一方の面に透明導電性薄膜(2)を有し、第一の透明プラスチックフィルム基材(1)の他方の面に粘着剤層(3)を有する、粘着剤層付き透明導電性フィルムであって、前記粘着剤層付き透明導電性フィルムに用いられる粘着剤層(3)の第一の透明プラスチックフィルム基材(1)に貼り合わされる側の表面(3a)の表面粗さ（Ｒａ）が、２〜１３０ｎｍであることを特徴とする粘着剤層付き透明導電性フィルムとする。 （もっと読む）

【課題】タッチパネル用途として必要不可欠な機械強度を向上することにより、長寿命で誤作動の生じにくいタッチパネルを作製できるようにするための透明導電膜付きフィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材に透明導電膜を備える透明導電膜付きフィルムであって、該透明導電膜が前記基板側から順に適度な空孔を含む薄膜層からなる第１の薄膜層と、導電性膜からなる第２の薄膜層とを備えることを特徴とする透明導電膜付きフィルム。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバなどの高真空下の環境を形成するための大掛かりな装置を必要とせず、低コストで透明導電膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】透明基板1上に透明導電膜となる金属膜2を不活性気体雰囲気中で形成する工程と、前記金属膜に酸化雰囲気中でレーザビームを照射し、該金属膜を酸化させる工程とを含む透明導電膜8の製造方法である。前記金属膜の酸化工程において、酸化雰囲気中に水を供給し、レーザビームの照射で基板上の金属膜を加熱すると同時に水を分解させ、生じた酸素分子を基板上の金属膜に供給することで金属膜の酸化を促進させることが好ましい。前記基板は可撓性を有した絶縁性の連続シートまたは連続フィルムであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。
【解決手段】ＺｎＯ原料粉末１２と希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末１３との原料混合粉末１４を用い、ドクターブレード法により得られたグリーンシートから、グリーン単層体１９或いはグリーン積層体２０又は２９を作製し、これを焼成後に粉砕して混成粉末２５又は３１を作製する。この混成粉末を用いて造粒粉末を作製し、成形、焼結を経て、希土類元素を含むＺｎＯ焼結体からなるＺｎＯ蒸着材３４を作製する。 （もっと読む）

【課題】密度が十分に高く、比抵抗も十分に低い酸化亜鉛系スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】ドーパント材料としてγ−Ａｌ₂ Ｏ₃ を用いて酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを製造し、この酸化亜鉛系スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により酸化亜鉛系透明導電膜を成膜する。γ−Ａｌ₂ Ｏ₃ は１〜３重量％含有させる。酸化亜鉛系スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛粉末とγ−Ａｌ₂ Ｏ₃ 粉末とを混合し、この混合粉末を１１５０〜１３００℃で焼結することにより製造する。γ−Ａｌ₂ Ｏ₃ の粒子サイズは好ましくは０．５μｍ以下とする。 （もっと読む）

この発明のある種の実施具体例は、熱処理されたガラス基板によって支持される透明導電性インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）膜を有する被覆品の製造技術に関する。実質的に亜酸化のＩＴＯまたは金属インジウムスズ（ＩｎＳｎ）膜をガラス基板上に室温でスパッタリング蒸着する。上に蒸着された状態の膜を有するガラス基板を昇温する。熱による焼き戻し、または熱強化は、蒸着された状態の膜を結晶透明導電性ＩＴＯ膜に変換する。有利なことに、このことは、例えば、金属モードにおけるＩＴＯ蒸着の一層高い速度のため、タッチパネル組立品のコストが減少する可能性がある。フロートガラスの使用によってタッチパネル組立品のコストが一層減少する可能性がある。
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【課題】
基板の加熱温度の低い成膜条件下においても、従来の積層構造よりも低抵抗であり、かつ耐熱性・耐湿性に優れた積層型透明導電膜を提供する。
【解決手段】
基板上に、酸化インジウムを主成分とする透明導電膜層（Ａ）と亜鉛、アルミニウム、インジウムおよび酸素からなり、アルミニウムがＡｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で２％を超え６％未満の割合で含有され、かつインジウムがＩｎ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｉｎ）の原子比で０．１％を超え１％未満の割合で含有されている酸化亜鉛を主成分とする透明導電膜層（Ｂ）とをこの順に積層してなり、透明導電膜層（Ａ）の膜厚を１０ｎｍ以上とする積層型透明導電膜であり、低抵抗であり、耐湿性・耐薬品性・均等性に優れた透明導電膜となる。 （もっと読む）