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国際特許分類[C04B35/645]の内容

国際特許分類[C04B35/645]に分類される特許

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【課題】本発明は、ガラス、樹脂およびセラミックスなどを成形する成形用型などを形成する耐熱性材料または炭化タンタル製膜用のターゲット材として好適に用いられる高純度かつ高密度で機械的強度が高い炭化タンタル焼結体およびその製造方法、ならびにかかる炭化タンタル焼結により形成される成形用型およびターゲット材を提供する。
【解決手段】本炭化タンタル焼結体は、純度が98.5質量%以上で真密度に対するかさ密度の比率である相対密度が96.5%以上である。本炭化タンタル焼結体は、純度が99質量%以上で平均粒径が3μm以下の炭化タンタル粉末を不活性ガス雰囲気または30Pa以下の真空雰囲気下で、焼結圧力が20MPa以上で焼結温度が1600℃以上2300℃以下で焼結時間が30分間以上の条件で焼結することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】従来のアルミナ焼結体では曲げ強度、靭性及び透光性を全て兼ね備えたものが得られず、強度と審美性の両方を要求される歯科材料に適する透光性アルミナ焼結体が得られていなかった。
【解決手段】破壊靭性が4.5MPa・m0.5以上、曲げ強度350MPa以上、なおかつ波長600nmの可視光に対する全光線透過率(試料厚さ1mm)が60%以上である透光性アルミナ焼結体を提供する。焼結結晶粒子が平均アスペクト比1.5以上、平均長軸長さ15μm以下の細長板状及び/又は柱状粒子の焼結体であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】窒化シリコン−二酸化シリコン高寿命消耗プラズマ処理構成部品
【解決手段】プラズマエッチングチャンバの平均洗浄間隔時間及びチャンバパーツの寿命を延ばす方法が提供される。イオン衝撃及び/又はイオン化ハロゲンガスに曝される少なくとも1つの焼結窒化シリコン構成部品を使用しつつ、チャンバ内において一度に1枚ずつ半導体基板がプラズマエッチングされる。焼結窒化シリコン構成部品は、高純度の窒化シリコンと、二酸化シリコンからなる焼結助剤とからなる。焼結窒化シリコン構成部品を含むプラズマ処理チャンバが提供される。プラズマ処理時のシリコン基板の表面上における金属汚染を軽減する方法が、1つ又は2つ以上の焼結窒化シリコン構成部品を含むプラズマ処理装置によって提供される。プラズマエッチングチャンバ内においてイオン衝撃及び/又はプラズマ浸食に曝される構成部品を製造する方法は、高純度の窒化シリコンと二酸化シリコンとからなる粉末組成を成形することと、該成形構成部品を緻密化することとを含む。 (もっと読む)


【課題】マクロサイズの内部欠陥がなく、高密度なバルク体を得ることができるリン酸リチウム焼結体の製造方法およびスパッタリングカソードを提供する。
【解決手段】本発明は、Li3PO4の原材料粉を仮焼する工程と、仮焼した原材料粉を分級する工程と、分級した原材料粉を所定形状に焼結する工程とを有するリン酸リチウム焼結体の製造方法であって、原材料粉の仮焼温度を650℃以上850℃未満とすることによって、原材料粉に吸着している水分を効果的に除去し、焼結工程で得られるバルク体(焼結体)へのマクロサイズの内部欠陥の発生を抑制する。仮焼温度が650℃未満の場合、原材料粉の仮焼処理が不十分なため、マクロな内部欠陥の発生を効果的に抑制できない。特に、400μm以下の粉砕、篩い分けを容易に行える仮焼温度として、650℃以上750℃以下が好ましい。 (もっと読む)


本発明は、焼結製品に関し、酸化物をベースとし、立方構造を有する材料として周知であり、0.2μmから5μmの間の波長範囲において2.75以下の屈折率を有し、その質量の95%以上に対して立方結晶構造を有する99.5質量%以上の材料;及び50ppma以上のドーパントであって、酸化チタンTiOとZrO,CaO及びMgOから選択された少なくとも1つの付加的なドーパントとを必然的に含み、前記少なくとも1つの付加的なドーパントが、立方構造を有する材料を形成する酸化物と異なるが、立方構造を有する材料が、スピネルMgAlである場合には、MgOであることが可能であるドーパント、を含む。 (もっと読む)


【課題】腸骨等の内側に窪む部位のような気孔率の異なる皮質骨と海綿骨とを含む部位等に好適に適用する骨補填材とその製造方法の提供。
【解決手段】リン酸カルシウム粉末を含むスラリーを乾燥して得られたグリーン体3に、該グリーン体3の長手方向の両端部近傍を2つの支持部材2によって支持させ、グリーン体3の長手方向の略中央部に、重り4を載せた状態で、局部的に荷重をかけながら焼成することにより製造された骨補填材1。 (もっと読む)


【課題】ガラスカプセルを用いたHIP処理により棒状又はチューブ状の繊維強化セラミックス複合材料を製造する場合であっても、緻密でクラックや割れの無い製品の製造を可能とする。
【解決手段】無機繊維とセラミックス粉末とからなるプリプレグシート、又は内面層と表面層とからなる無機繊維を所定の形状に配したプリフォームをガラスカプセルに封入し、HIP処理により繊維強化セラミックス複合材料を製造する方法において、HIP処理前に、HIP処理の高温高圧下においてプリフォーム及びガラスの何れとも反応せず安定で、且つガラスを透過させない物質によりプリフォームの表面を覆う工程を含み、HIP処理時のガラスカプセルの粘度が103〜107.5Pであり、冷却過程において前記物質の表面を覆ったガラスカプセルのガラスが破損することにより、製品にかかる引張の残留応力を開放するように、HIP処理に用いるガラス量が調整されている。 (もっと読む)


【課題】良導電性を有し、かつ、すぐれた耐熱性を有するボロンドープダイヤモンド焼結体を提供する。
【解決手段】ボロンドープ量が1〜10wt%であるボロンドープダイヤモンド粉末90〜99.9wt%と、結合相成分として、Mg、Ca、Sr、Baの炭酸塩並びにこれらの2種以上の複合炭酸塩のうちの1種または2種以上からなる炭酸塩粉末0.1〜10wt%とを原料粉末とし、該原料粉末を超高圧高温下で焼結し、結合相成分を溶融させボロンドープダイヤモンド粉末粒子間隙に溶浸充填させることによって、良導電性と耐熱性とを有するボロンドープダイヤモンド焼結体を得る。
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【課題】 誘電体膜形成用のスパッタリングターゲットを得るため、酸化ニオブに酸化珪素や酸化タングステンを加えた系などの酸化物を含む粉末をグラファイト型で熱間加圧焼結する際に、得られる焼結体あるいはグラファイト型の割れをなくすことができる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 低熱膨張率の酸化物を含む粉末を、グラファイト型を用いて熱間加圧焼結する焼結体の製造方法において、グラファイト型の割型2と外型3の間に空隙を設け、その空隙内にフラーレン5を充填し、真空雰囲気下で加熱保持してフラーレン5を蒸発消失させた後、熱間加圧焼結する (もっと読む)


【課題】従来の透明性を有するジルコニアの多結晶質焼結体はチタニアなどの添加物が必要であったが、それらの添加物を含有する焼結体では、プラズマ耐性、屈折率、強度等に問題があった。
【解決手段】安定化剤としてイットリア主成分とするジルコニア粉末を常圧焼結した密度95%以上の一次焼結体を温度1600〜1900℃、圧力50MPa以上で半密閉状態の容器内に設置してHIP処理(二次焼結)し、必要に応じて酸化雰囲気中で加熱処理することにより、直線透過率が50%以上の高い透明性を有するジルコニアの多結晶質焼結体を製造する。 (もっと読む)


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