【課題】イオン伝導性のバインダ樹脂を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ基を有する（メタ）アクリレートモノマーのエポキシ基にカーボネート基を導入したモノマー由来の構造単位１０〜４０重量部、
（Ｂ）アクリロニトリル由来の構造単位１０〜３０重量部、
（Ｃ）アルキル（メタ）アクリレートモノマー由来の構造単位３０〜８０重量部
を成分として含むアクリル樹脂。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＡｒＦエキシマ・レーザーに関与したフォトレジストに用いられるアクリル系高分子化合物の適正な製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、酸により脱離してアルカリ可溶となる基を有するモノマーＡと、極性基含有脂環式骨格を有するモノマーＢとを少なくとも含むモノマーおよび重合開始剤を溶媒に溶解して、重合温度に昇温された溶媒中に滴下しながら重合させ、重合溶液を貧溶媒（沈殿溶媒）に添加して、ポリマーを沈殿させ、沈殿を遠心分離機により遠心分離で、溶媒を除去後、湿結晶を溶媒に溶解し、減圧蒸留にて濃縮してフォトレジスト高分子化合物の溶液を製造する方法において、重合に使用される全モノマーに対して、メタクリル酸エステルのモル比が６０モル％以上であることを特徴としたフォトレジスト用高分子化合物の製造方法を提供することにある。 （もっと読む）

本発明はランダムコポリマー類およびそれらの使用法、例えば薬物学的および非薬物学的用途における上記コポリマーの抗菌剤としての使用法などを開示する。本発明は上記コポリマー類の組成物および上記コポリマー類の製法も開示する。本発明は、微生物感染の処置を必要とする動物を処置する方法であって、上記動物に式ＩＩＩのコポリマーおよび薬学的に受容可能な担体または希釈剤を含む医薬組成物の有効量を投与することを含む方法にも関連する。
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【課題】 本発明は、耐熱性及び生産性に優れたアクリル系樹脂発泡シートを提供する。
【解決手段】 本発明のアクリル系樹脂発泡シートは、ジメチルホルムアミドを溶媒としたゲル分率が７０重量％以上であり且つ気泡のうち、気泡径が０．８ｍｍ以下の気泡の割合が９０％以上を占めることを特徴とするので、優れた耐熱性を有していると共に、高発泡倍率とすることができ軽量性にも優れており、アクリル系樹脂発泡シートの表面部分をスライス、除去して気泡を露出させた上で、アクリル系樹脂発泡シートの表面に表皮材を積層させる場合にあっても、アクリル系樹脂発泡シートの気泡の切断開口部による凹部は微細にして均一であるので、アクリル系樹脂発泡シートの表面に大きな凹部は生じておらず、アクリル系樹脂発泡シートの表面に表皮材を美麗な状態に積層一体化させることができる。 （もっと読む）

【課題】液晶性が高く、良好な配向能を維持しつつ、他の物質と反応あるいは相互作用が可能で、さらには後架橋により材料の強度をより一層高めることが可能な側鎖型液晶性ポリマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）および式（２）の単位を共重合単位として含む側鎖型液晶性高分子化合物。


（式中、Ｒ_１、Ｒ_３は各々ＨまたはＣＨ_３を、Ｑ_１およびＱ_３は各々単結合、エステル結合またはエーテル結合を、Ｑ_２は単結合またはエステル結合を、Ａ_１、Ａ_２、およびＡ_３は各々フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン等の特定の基を、Ｒ_２はＨ、ＣＮ、Ｆ等の特定の基を表す） （もっと読む）

【課題】 良好な形状のレジストパターンが得られるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、アセタール型保護基を有する構成単位（ａ１）と、一般式（ａ２−１）で表されるラクトン含有多環式基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）と、極性基含有脂肪族炭化水素基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）とを含む共重合体（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】


［式中、Ｒは水素原子、フッ素原子、低級アルキル基またはフッ素化低級アルキル基；Ｒ’は水素原子、低級アルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基；ｍは０または１の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像液に対する溶解性を向上できるネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分、（Ｂ）露光により酸を発生する酸発生剤成分、および（Ｃ）架橋剤成分を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂成分が、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を１つ有する脂肪族環式基を含有する構成単位（ａ１）と、フッ素化されたヒドロキシアルキル基を２つ以上有する脂肪族環式基を含有する構成単位（ａ２）とを含む高分子化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体の製造において使用されるレジスト用ポリマーにおいて、ラフネスが小さく、現像欠陥が少なく、かつＤＯＦなどのリソグラフィー特性の優れたレジスト用ポリマーとその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体リソグラフィー用共重合体は、少なくとも酸の作用でアルカリ可溶性が増大するカルボン酸エステル構造を有する繰り返し単位（Ａ）とカルボキシル基を有する繰り返し単位（Ｂ）とを含む共重合体であって、少なくとも繰り返し単位（Ａ）を与える単量体を（共）重合する工程（Ｐ）と、繰り返し単位（Ａ）を有する（共）重合体および／または繰り返し単位（Ａ）を与える単量体を酸と共存させて繰り返し単位（Ｂ）を生成する工程（Ｑ）とを経て得られることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀アルキル（メタ）アクリラート及び、少なくとも１種のエチレン性不飽和酸無水物又は、カルボン酸基が無水物基を形成することができるエチレン性不飽和ジカルボン酸、又はこれらの混合物、又は少なくとも１種のイソシアナート基を含有するラジカル共重合可能なモノマーの、ケイ素含有コポリマーを少なくとも１種含有する接着剤に関する。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜等への光発生酸の拡散やレジストと反射防止膜等のインターミキシングがなく、保存安定性、ステップカバレッジ性に優れた反射防止膜又は光吸収膜を形成することのできる重合体を提供する。
【解決手段】一般式IIで示される重合体。一般式II
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