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国際特許分類[C08G61/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物 (33,999) | 高分子の主鎖に炭素―炭素連結基を形成する反応により得られる高分子化合物 (2,080)

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【課題】
高屈折率と高アッベ数とを兼ね備えた光学部品を得ることができる樹脂材料、及びこの樹脂材料を用いて得られる光学レンズ等の光学部品を提供する。
【解決手段】
−A−Si(R)(R)(R)(Aは単結合等であり、R〜Rは炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基等である。)で表される含ケイ素基と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、芳香環構造を有しない脂環構造含有重合性単量体(A)5〜30重量%と、芳香環構造と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、ケイ素原子を有しない脂環構造含有重合性単量体(B)50〜90重量%と、これらと共重合可能な重合性単量体(C)0〜45重量%とからなる重合性単量体組成物を、少なくとも重合して得られる脂環構造含有重合体、この脂環構造含有重合体、及び無機化合物を含有する脂環構造含有重合体組成物、この組成物を用いて得られる、屈折率が1.56以上、アッベ数が50以上、3mm厚の板での全光線透過率が85%以上である光学部品。 (もっと読む)


【課題】本発明は、導電性高分子を3次元的な構造体として形成する新規な微小立体構造物の製造方法及び導電性高分子からなる微小構造物を含む新規な機能素子を提供することを目的とする。
【解決手段】光透過性の高分子膜の内部を、その膜厚方向をZ方向とした3次元的な反応場として規定し、当該反応場において導電性高分子の光重合を行なう。高分子膜に導電性高分子の酸化重合性モノマーと、酸化剤と、光増感分子とを含む光重合性組成物を含浸したのち、上記高分子膜の内部であって膜厚方向をZ方向として定義する3次元的な領域にフェムト秒レーザーによってレーザー光を集光照射する。その際、焦点を3次元的に移動させながら露光することによって、上記高分子膜の内部に所望の形状の導電性高分子からなる微小立体構造物を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】複数の有機環状構造と有機環状構造を貫通する鎖状構造とを備える有機重合体であって高い特性が期待できる有機重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、複数の有機環状構造と複数の有機環状構造を貫通する1つの鎖状構造とを備える有機重合体の製造方法であって、金属イオンを放出するイオン性官能基を含有しない少なくとも1種のモノマを重合させることによって、移動が制限された状態で所定の構成単位ごとに有機環状構造が配置された有機重合体を形成する重合工程を含む。そして、上記少なくとも1種のモノマは、有機環状構造と有機環状構造を貫通する鎖状部分とを含有するモノマ(M)を含む。 (もっと読む)


【課題】非ハロゲン系高分子化合物を効率よく製造することができる高分子化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】分子鎖末端にハロゲン原子を有するハロゲン含有ポリマーと第一の金属触媒とが存在する系中に、下記式(10):
Ar−B(OH)2 (10)
(式中、Arはアリール基を表す。)
で表される処理剤と第二の金属触媒とを添加して、該分子鎖末端にハロゲン原子を有するハロゲン含有ポリマーを反応させる工程を有する高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】触媒系およびメタセシス反応のためのその使用を提供する。
【解決手段】メタセシス触媒に加えて特定の塩添加剤を含む、メタセシス反応のため、特にニトリルゴムのメタセシスのための新規な触媒系が提供される。メタセシス触媒は、周期律表の6または8族の遷移金属に基づく錯体触媒であって、その金属にカルベン様の方式で結合された少なくとも1個の配位子を有するメタセシス触媒と、少なくとも1種のアルカリ土類金属塩化物とを含む触媒系である。 (もっと読む)


【課題】溶媒溶解性、配向制御能、光学特性に優れる重合性化合物及び重合性組成物の提供。
【解決手段】式I及び式IIで表される化合物。




(環A、環Bはベンゼン環又はナフタレン環であり、少なくとも一方がナフタレン環であり、Xはハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、Rは式IIIで表される置換基である。)


(Z1は直接結合、−L0−、−OL0CO−、−OL1−又は−OL1OCO−であり、L0、L1はアルキレン基を表し、アルキレン基のメチレン部分はO、S、COO、OCO、OCOO又はCH(OH)で中断されていてもよい。) (もっと読む)


骨格および該骨格にグラフトされた側鎖を含む両親媒性分子を提供する。少なくとも三つの骨格ユニットが疎水性かつ蛍光性であり、少なくとも一つの側鎖ユニットが親水性である。分子中の、親水性である骨格ユニットおよび側鎖ユニット対疎水性である骨格ユニットおよび側鎖ユニットの重量比は、約1:4から約4:1である。蛍光粒子を形成するため、水、有機溶媒、および該有機溶媒に溶解した両親媒性分子を含む溶液が提供される。溶液中の分子の濃度は約1から約1000CACであり、例えば約10CACから約100CACであり、ここでCACとは両親媒性分子の臨界凝集濃度である。溶液から有機溶媒を除去すると、両親媒性分子は外縁サイズ約10nmから約10ミクロンの粒子を形成することが可能となる。

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【課題】 未反応物の含有量が少なく、かつ安価な新規のリグニンフェノール系樹脂を提供することを目的とする。
また、かかる新規のリグニンフェノール系樹脂の製法であって、かつ未反応フェノールと未反応リグニンの残存が少なく収率の高いリグニンフェノール系樹脂の製造方法を提供する
【解決手段】 リグニン原料とフェノール類及び前記フェノール類に対し0.1〜5モルのテルペンとを反応させていることを特徴とするリグニンフェノール系樹脂である。
また、リグニン原料とフェノール及び前記フェノール類に対し0.1〜5モルのテルペンとを反応させることを特徴とするリグニンフェノール系樹脂の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】化学増幅系レジストにおけるかぶりや膜減り現象防止に優れた帯電防止剤、該帯電防止剤を用いた帯電防止膜及び被覆物品を提供することを目的とする。
【解決手段】水溶性導電性高分子、溶媒及び水溶性高分子を含む帯電防止剤。特定の水溶性高分子、特に、ポリビニル構造を有する特定の水溶性高分子を水溶性導電性高分子と併用することにより、安価で簡単にレジストへの塗布性を付与できる界面活性剤を用いても、塗布性を維持しながら、レジストへの影響(レジストの溶解やレジストの現像の結果生じるレジストのかぶりや膜べり現象)を抑止できる。界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。 (もっと読む)


【課題】遷移金属錯体及び共役芳香族化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)


(式中、R、R及びRは独立して、置換されていてもよい炭素数1〜10のアルキル基、置換されていてもよい炭素数1〜5のアルコキシ基又は置換されていてもよい炭素数6〜10のアリール基を表わし、R及びRは独立して、水素原子又は置換されていてもよい炭素数1〜3のアルキル基を表わす。)
で示されるビピリジン化合物と、第9族、第10族又は第11族遷移金属化合物とを接触させて得られる遷移金属錯体;及び該錯体の存在下に、1個又は2個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物(A)と、これと同一の構造を有する芳香族化合物(A)又は前記芳香族化合物(A)とは構造的に異なる1個又は2個の脱離基が芳香環に結合している芳香族化合物(B)とを反応させる共役芳香族化合物の製造方法。 (もっと読む)


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