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国際特許分類[C08G63/08]の内容

国際特許分類[C08G63/08]に分類される特許

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混合室中に、溶媒中の吸収性ポリマーの溶液を加えることおよび沈殿剤を加えて、当該ポリマーを沈殿させることを含む、残留モノマーから吸収性ポリマーを精製する方法であって、該溶液中のポリマーの濃度がlog Ccrit±0.3対数単位(この式で、Ccritは臨界濃度である。)であることを特徴とする、方法 (もっと読む)


【課題】乳酸からポリ乳酸を重合して、ポリ乳酸中の低分子物質、例えばラクチドを除去して低分子物質の含有量の少ない高品質のポリ乳酸を安定製造できる装置、および製造方法を提供すること。
【解決手段】液状ポリマーの抜出し口2より下流に、少なくとも被反応物質出入口と排気口7を設けたポリエステルの製造装置。(a)被反応物質の入口4と出口5とをその両端部あるいは両端部近傍にそれぞれ有する反応槽、(b)一箇所以上の排気口を有する反応槽、(c)反応槽内の被反応物質を所定の温度に保つことのできる加熱装置8を有した反応槽、からなるポリ乳酸の製造装置。乳酸から重合したポリ乳酸を被反応物質として、(a)〜(c)のような製造装置を用いてポリ乳酸から低分子物質を除去するポリ乳酸の製造。 (もっと読む)


【課題】 ポリアリレンエチニレンビニレンブロックを含む、新規なブロック共重合体を提供する。
【解決手段】 ポリアリレンエチニレンビニレンブロックおよび極性ポリマーブロックを含むブロック共重合体であって、該ポリアリレンエチニレンビニレンブロックは下記一般式(I)、(II)、又は(III)で表されるミクロ構造を選択的に含むことを特徴とする共重合体。
また、前記共重合体を製造する方法であって、希土類金属錯体を含む重合触媒を用いて、リビング重合によりブロック共重合させる工程を含む方法。
【化1】
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【課題】本発明の目的は、ステレオコンプレックス結晶を含有し、成形加工性に優れ、高結晶性で、高融点のポリ乳酸およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、重量平均分子量が4〜13万で、分子量分散が1〜2、示差走査熱量計測定において、昇温過程における融解ピークのうち、195℃以上の融解ピークの割合が80%以上であるポリ乳酸およびその製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 高分子化合物自体として安定でありながら、光分解感度が優れ、しかも利用しやすい化合物を利用した光分解性高分子化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ニトロ置換ベンジル基が末端に導入された高分子化合物に、開環重合開始剤の存在下、環状モノマーを開環付加重合反応させることにより、環状モノマーとしては環状エーテル化合物、環状エステル化合物、環状チオエーテル化合物、環状アミド化合物、環状シロキサン化合物が挙げられる、光分解性高分子化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 α-ヒドロキシカルボン酸の環状二量体の開環重合反応によるポリマーの製造において、未反応モノマーであるα−ヒドロキシカルボン酸の環状二量体を除去し、得られるポリマーの品質低下を防止する手段を提供する。
【解決手段】 α-ヒドロキシカルボン酸の環状二量体の開環重合反応によるポリマーの製造において未反応のα−ヒドロキシカルボン酸の環状二量体を除去する方法であって、該開環重合反応の反応生成物に、酸化防止剤と触媒失活剤とα-ヒドロキシカルボン酸の環状二量体との混合物を添加し、混合とα-ヒドロキシカルボン酸の環状二量体の減圧脱気とを行うことを含む、前記方法。 (もっと読む)


【課題】ポリロタキサンを含有するような耐擦傷性を有する塗膜の塗膜欠陥に対し、補修跡が目立たない補修を実現し得る補修積層塗膜及びその作製方法を提供する。
【解決手段】下塗り塗膜層10と親油性ポリロタキサン等を含むPR含有上塗り塗膜層40を備え、このPR含有上塗り塗膜層に塗膜欠陥50を有する積層塗膜を補修して成る補修積層塗膜において、PR含有上塗り塗膜層40が、塗膜欠陥を研削して形成した研削部位52と、この研削部位に順次積層されたPR不含補修用塗膜層60及びPR含有補修用塗膜層70を備える。PR不含補修用塗膜層60が、親油性ポリロタキサン等を含有しないPR不含補修用上塗り塗料から形成された塗膜層であり、PR含有補修用塗膜層70が、親油性ポリロタキサン等を含有するPR含有補修用上塗り塗料から形成された塗膜層である。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤に可溶な疎水性修飾ポリロタキサン及びこれを用いた架橋ポリロタキサンを提供すること。
【解決手段】疎水性修飾ポリロタキサンは、環状分子と、この環状分子を串刺し状に包接する直鎖状分子と、この直鎖状分子の両末端に配置され上記環状分子の脱離を防止する封鎖基とを有する。環状分子がシクロデキストリンで、当該シクロデキストリンの水酸基の全部又は一部が疎水性の修飾基で修飾されている。
架橋ポリロタキサンは、この疎水性修飾ポリロタキサンと、ポリマーを環状分子を介して結合して成る。 (もっと読む)


【解決手段】 本発明は、ポリエチレンオキシド及びポリカプロラクトンのブロックコポリマーに関するものであり、前記ポリエチレンオキシドは、約2.0〜約3.8kDaの数平均分子量を有しており、前記ブロックコポリマーは、約11.8〜約8.8重量パーセントの割合のポリエチレンオキシドを有しているものである。本発明はさらに、そのようなコポリマーから製造されるポリマーソーム、及び前記ポリマーソームを製造する方法にも関するものである。 (もっと読む)


【課題】有機溶剤に可溶な疎水性直鎖状分子ポリロタキサン、及びこれを用いた架橋ポリロタキサンを提供すること。
【解決手段】疎水性直鎖状分子ポリロタキサンは、環状分子と、この環状分子を串刺し状に包接する直鎖状分子と、この直鎖状分子の両末端に配置され上記環状分子の脱離を防止する封鎖基とを有する。直鎖状分子が疎水性である。直鎖状分子はポリカプロラクトンで、その分子量は5,000〜100,000である。環状分子はα−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン又はγ−シクロデキストリンである。
架橋ポリロタキサンは、この疎水性直鎖状分子ポリロタキサンと、ポリマーを環状分子を介して結合して成る。 (もっと読む)


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