【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤および、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤、ニトロキシラジカルおよび亜硝酸塩からなる組成を有する分離膜用洗浄剤とする。このような組成とすることにより、洗浄剤の有効成分である酸化剤が分離膜の目詰まり物質を化学的に酸化分解する際に、ニトロキシルラジカルが触媒として作用し、亜硝酸塩が助触媒として作用するので、洗浄剤の洗浄力を高めることができる。この結果、分離膜に強固に付着・堆積した目詰まり物質の除去が促進される他、酸化剤の使用量を減らしたり、洗浄時間を短くすることも可能となり、更には膜濾過装置への負荷が軽減されるので同装置の寿命を長くすることも期待される。
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【課題】殺菌作用及び漂白作用を併せ持ちながら、貯蔵安定性があり、かつ低臭または無臭の水溶性ペルオキシカルボン酸化合物及び組成物が求められている。
【解決手段】本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を酸性研磨液で研磨した後にアルカリ洗浄する工程を有するガラスハードディスク基板の製造方法であって、研磨工程において研磨速度を維持したまま、アルカリ洗浄工程におけるガラス基板の表面粗さの悪化を抑制し、さらに清浄性を向上できるガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程（１）及び（２）を含むガラスハードディスク基板の製造方法。
（１）分子内に窒素原子を２〜１０個有する多価アミン化合物を含有するｐＨ１．０〜４．２の研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。
（２）工程（１）で得られた基板を、ｐＨ８．０〜１３．０の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い磁気ディスク基板用洗浄剤、および磁気ディスク基板の洗浄方法を提供することを目的とすることを目的とする。
【解決手段】 分子内に１個以上のアミノ基および１個以上のスルホン酸基を有する化合物（A）またはその塩、ならびに水を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】洗浄性、防曇性、防汚性、帯電防止性、吸湿性などの多機能性を有する防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物、及び防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物が含浸または塗布された基材をも提供する。
【解決手段】防曇化及び／又は防汚化処理用水性組成物は、下記式（１）


で表されるグアニジン骨格を含む非環式グアニジン化合物と、有機カルボン酸、その酸無水物、金属塩、エスエルの中から選ばれる少なくとも１種のカルボキシ化合物と、親水性多孔質無機微粒子とを、水性液中に含む。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】うどん、そば、パスタ等に由来する有機物汚れを剥離させるだけでなく溶解させることができ、より短時間で洗浄を行うことができ、しかもスケール汚れの付着を防止することができる茹で麺装置用洗浄剤及びこれを用いた茹で麺装置の洗浄方法を提供する。
【解決手段】製麺ラインで用いられる茹で麺装置を洗浄するための茹で麺装置用洗浄剤であって、アルカリ剤及びキレート剤を含む第一剤と、過酸化物を含む第二剤とからなることを特徴とする茹で麺装置用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】２６〜４０質量％の水酸化ナトリウムとエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩を含有する洗浄剤組成物において、常温、つまり−５〜４０℃において長期間結晶析出、あるいは凍結することのない安定で且つ高濃縮化した硬質表面用液体洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分として水酸化ナトリウムを２６〜４０質量％、（Ｂ）成分としてエチレンジアミン四酢酸および／またはその塩、（Ｃ）成分としてトリエチレンテトラアミン六酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、エチレンジアミン二コハク酸およびこれらの塩から選択される少なくとも１種の可溶化剤、および（Ｄ）成分として水を含有することを特徴とする硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）