【課題】インクジェット記録ヘッドのクリーニング性に優れ、連続出射を行っても優れた吐出安定性が実現できるヘッドクリーニング液及びそれを用いたクリーニング方法を提供する。
【解決手段】水溶性染料を含有する水系インクジェットインクを吐出するインクジェット記録ヘッドのノズル面をクリーニングするのに用いるヘッドクリーニング液において、キレート剤を０．０１質量％以上、１．０質量％以下含有することを特徴とするヘッドクリーニング液。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性有機化合物、並びに、（成分ｄ）有機酸、を含み、ｐＨが７〜９であることを特徴とする、半導体用基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた洗浄方法及び半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アミラーゼと多糖類系増粘剤を含有する、粘度安定性の高い液体洗浄剤組成物を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）多糖類系増粘剤、（ｂ）アミラーゼを含有する液体洗浄剤組成物を製造する際に、（ｂ）を４５〜１００℃の温度範囲で２０分以上保持する。 （もっと読む）

本発明の方法は、
下記の一般式（Ｉ）：
【化１】


で表される１種以上の錯化剤の塩を含む粉末を、
上記錯化剤の塩の１種以上を１０〜８０質量％の濃度で含む水溶液（該濃度は該水溶液の全質量に対するもの）から開始して、
霧化工程及び乾燥工程を含む噴霧乾燥工程で製造するためのものであって、
該霧化工程を、前記水溶液中に存在するものと同じ錯化剤の塩又は前記水溶液中の錯化剤の塩とは異なる１種以上の錯化剤の塩の結晶質微細ダストを、前記噴霧乾燥工程実施後に得られる粉末の質量に対して０．１〜２０質量％の割合で添加することにより実施し、
且つ前記結晶質微細ダストの平均粒径の上限が、前記噴霧乾燥工程実施後に得られる粉末の平均粒径の下限より少なくとも２の逆数で低いことを特徴とする方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明はバルクフォトレジスト、ポストエッチ及びポストアッシュ残渣、Ａｌバックエンド工程相互接続構造からの残渣、並びに混入物を除去するための水系配合物及びそれを使用する方法に関する。
【解決手段】この配合物は、ヒドロキシルアミン；アルキルジヒドロキシベンゼンとヒドロキシキノリンとの混合物を含む腐食防止剤；アルカノールアミン、水溶性溶媒又はこれら２つの組み合わせ；及び少なくとも５０重量％の水を含む。 （もっと読む）

【課題】消泡剤を使用せずに気泡の発生を大幅に抑えるとともに良好な濡れ性を有する液体吐出装置用前処理液及びそれを含むカートリッジの提供。
【解決手段】着色剤を含まない液体吐出装置用処理液であって、下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒは炭素数８〜１１のアルキル基を表す。）
で示されるＮ−アルキル−２−ピロリドンを含有する液体吐出装置用処理液及びそれを含むカートリッジである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、４級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、ｐＨが７〜１２であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】 ろ過膜の洗浄を短時間で効果的に行い、ろ過膜に付着した微粒子、その他の汚染物を高度に除去することができ、これにより使用開始後に汚染物が出ない清浄なろ過膜を迅速に得ることが可能なろ過膜の洗浄方法および洗浄剤を得る。
【解決手段】 超純水製造に使用されるろ過膜を、超純水製造工程での使用に先立って予備的に洗浄する方法において、前記ろ過膜に対する溶解性を有し、かつ水との相溶性を有する有機溶媒の水溶液からなる洗浄剤によってろ過膜を洗浄するか、あるいはさらに有機性アルカリの水溶液によってろ過膜を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】酸素系漂白剤と併用して漂白成分の活性が格段に高まり、油汚れを充分に洗浄できるとともに、高い除菌・抗菌効果が得られる洗剤組成物及び洗濯方法の提供。
【解決手段】周期表の第４周期にある遷移元素、亜鉛又は銀を含む粒状の水溶性塩（Ａ）と、アミノカルボン酸又はその塩（Ｂ）と、アルカリ剤（Ｃ）とを配合してなり、前記水溶性塩（Ａ）は、粒子径３００μｍ以下の粒子が３０質量％以上であることを特徴とする洗剤組成物。当該洗剤組成物と、水に溶解して過酸化水素を発生する化合物及び過酸化水素からなる群から選ばれる少なくとも１種とを併用することを特徴とする洗濯方法。 （もっと読む）

【課題】さび除去後に硬度の高い水ですすいでも白粉が発生しない、蓚酸を含むさび除去剤を提供する。
【解決手段】蓚酸、多価アルコールおよびアミンを含有しており、前記蓚酸を１質量％以上５０質量％以下含有し、前記多価アルコールを２０質量％以上８０質量％以下含有し、前記蓚酸のアミン中和率が３％以上６０％以下である、さび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）