【課題】無リンまたは低リン酸塩自動食器洗いシステムにおける混合無機沈着物を最小限にする配合物の提供。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する自動食器洗い洗剤組成物。第１の成分は、少なくとも１種のＣ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマーの重合残基およびラクトン末端基を含むポリマー。第２の成分は、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、メチルグリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、２−ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸、３−ヒドロキシ−２，２−イミノジスクシナート、Ｓ，Ｓ−エチレンジアミンジスクシナート、アスパラギン酸−二酢酸、Ｎ，Ｎ’−エチレンジアミンジコハク酸、イミノジコハク酸、アスパラギン酸、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ−ジアセタート、ベータ−アラニン二酢酸、ポリアスパラギン酸、これらの塩およびこれらの組み合わせから選択されるビルダー。 （もっと読む）

ビルダー組成物は、キレート成分Ａ）、ビルダー成分Ｂ）、ポリマー成分Ｃ）、及び場合によりアルカリ成分Ｄ）及び／又はリン含有成分Ｅ）を含む。キレート成分Ａ）は、ａ１）メチルグリシン−Ｎ−Ｎ−二酢酸（ＭＧＤＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩、並びに／又はａ２）Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）−Ｌ−グルタメート（ＧＬＤＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩、並びに／又はａ３）エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及び／又はそれらのアルカリ塩を含む。ビルダー成分Ｂ）は、ｂ１）金属ケイ酸塩、及び／又はｂ２）金属炭酸塩、及び／又はｂ３）金属クエン酸塩を含む。ポリマー成分Ｃ）は、ｃ１）アクリル酸−マレイン酸コポリマー、及び／又はｃ２）ポリアクリル酸（ＰＡＡ）を含んでよい。 （もっと読む）

【課題】ポストアッシュ及び／又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、（ａ）水、（ｂ）ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも１種のもの、並びに（ｃ）水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 （もっと読む）

洗剤組成物は、キレート成分、金属クエン酸塩、及び金属炭酸塩を含む。少なくとも１つの次の条件Ｘ＝（２．２９*ａ１）＋（２．５１*ａ２）＋（２．２６*ｂ）＋（２．７５*ｃ）＋（−０．１５*ａ１*ｂ）＋（０．２６*ａ２*ｂ）＋（１．３３*ａ２*ｃ）；及び／又はＹ＝（４．００*ａ１）＋（３．７６*ａ２）＋（３．７０*ｂ）＋（３．１０*ｃ）＋（−４．１１*ａ１*ｂ）＋（−１．５７*ａ２*ｂ）＋（０．９７*ａ２*ｃ）が、典型的に適切である。前記Ｘ及びＹ条件、０＜Ｘ≦２．５、０＜Ｙ≦３．５において、少なくとも１つのａ１及びａ２が０よりも大きく、かつ１．０未満、０＜ｂ＜１．０、０＜ｃ＜１．０、及びａ１＋ａ２＋ｂ＋ｃ＝１．０である。さらに、Ｘは、洗剤組成物の膜形成性能であり、かつＹは、洗剤組成物のシミ性能である。ａ１は、キレート成分ａ１）の質量分画であり、ａ２は、キレート成分ａ２）の質量分画であり、ｂは金属クエン酸塩の質量分画であり、かつｃは金属炭酸塩の質量分画である。質量分画は、洗剤組成物中に存在するキレート成分、金属クエン酸塩及び金属炭酸塩の合計量に基づく。 （もっと読む）

【課題】研磨剤由来の研磨粒子残渣の除去性や絶縁膜上の金属残渣の除去性に優れかつ、タングステン配線のタングステン腐食抑制性能に優れたタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、第4級アンモニウムヒドロキシド（Ｂ）、キレート剤（Ｃ）および水（Ｗ）を必須成分とし、ｐHが７．０〜１４．０であることを特徴とするタングステンおよびタングステン合金配線半導体用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】高いスケール付着抑制効果と高い洗浄性を有する硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリアクリル酸又はその塩、（ｂ）アクリル酸とマレイン酸のコポリマー又はその塩、（ｃ）炭酸塩及び珪酸塩からなる群から選ばれる１種以上のアルカリ剤３５重量％以上、並びに（ｄ）有機キレート剤を含有し、（ａ）と（ｂ）との合計量が６重量％以上、（ａ）／（ｂ）（重量比）が１以上である、硬質物品の自動洗浄機用粉末洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】短時間で高い消毒効果が得られるコンタクトレンズ用消毒剤及びコンタクトレンズ用消毒ユニットを提供する。
【解決手段】本発明のコンタクトレンズ用消毒剤は、（Ａ）：過酸化水素又は水に溶解して過酸化水素を発生する過酸化物と、（Ｂ）：特定のキレート剤又はその誘導体（ｂ１）と銅化合物及びマンガン化合物の少なくとも一種（ｂ２）との混合物及び／又は反応物を含む触媒体と、を有することよりなる。本発明のコンタクトレンズ用消毒ユニットは、前記コンタクトレンズ用消毒剤と、過酸化水素の中和剤とを備える。 （もっと読む）

本発明は、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−アセト酢酸及び／又はその誘導体及び／又は塩を含む、吸湿性が十分に低い固体、及びその製造方法に関する。 （もっと読む）

粒子および被覆を含む被覆粒子の調製方法［ここで、該粒子は、グルタミン酸Ｎ，Ｎ−二酢酸または式ＨｎＹｍ−ＧＬＤＡであるその（部分）塩（式中、Ｙはナトリウム、カリウム、リチウムおよびこれらの混合物の群から選択されるカチオンであり、ｎ＋ｍ＝４である）を含み、該粒子はグルタミン酸Ｎ，Ｎ−二酢酸またはその部分塩を含み４〜１１のｐＨを有する溶液から作製され、その後または同時に、ＨｎＹｍ−ＧＬＤＡ（式中、ｎは０．１〜３．２であり、ｍは０．８〜３．９である）の粒子上または中間体粒子に被覆が適用される］、該方法によって得ることのできる被覆粒子、ならびにその使用。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料にダメージを与えることなく、エッチング残渣やレジスト残渣等の洗浄性能に優れた電子デバイスの洗浄用組成物及びそれを用いた洗浄方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１、Ｒ_２は各々独立して水素原子、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ_１及びＲ_２が共に水素原子になることはない。）
で表されるアミン類、フッ化物、及び水を含む洗浄用組成物を用い、アルミニウム、チタン、コバルト及び銅からなる群より選ばれる金属材料を含有する電子デバイスの製造プロセスにおいて発生する有機物及び／又は無機物を洗浄する。 （もっと読む）