【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】腐食性を有さず、環境負荷が小さく、優れた洗浄性を有し、洗浄性が長期間持続する医療用具用洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物及びその塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物、酵素及び水を含有する医療用具用洗浄剤。好ましくはさらにＮ−アセチルアルギニンエチルエステル塩酸塩、アルギニン塩酸塩などの化合物を含有する。


［式中、Ｘはイミノ基、酸素原子又は硫黄原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】塩素臭や腐食の問題もなく、安全性や取扱い性に優れ、適度な溶解性を保持した、台所流し台や風呂場の排水口等のように雑菌やカビ等の代謝物によりヌメリが発生する箇所に設けられる、ヌメリ防除剤を提供すること。
【解決手段】５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等の非さらし粉系抗菌剤又は非さらし粉系抗菌剤とテトラキスフェノ−ル類等の多分子系ホスト化合物とからなる包接化合物と、硫酸カルシウム０．５水和物を含有する基材とを加圧成形して非さらし粉系ヌメリ防除剤を作製する。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、酸化剤を有効成分とする分離膜用の洗浄剤であって、更に洗浄力を高めた洗浄剤及び、これを用いる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 酸化剤と化１の化学式（Ｉ）で表されるアザアダマンタン型ニトロキシルラジカルを含むことを特徴とする分離膜用洗浄剤。
【化１】


（但し、Ｒ_１およびＲ_２は、水素原子または炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基を示す。）
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【課題】給湯器及び設備配管に使用した銅管から溶出したわずかの銅イオンと湯垢や石鹸に含まれる脂肪酸が反応して、不溶性の銅石鹸が生成され、これが浴槽、浴室や洗面台等に付着して青く着色する。この青色着色物を除去する除去剤を提供すること。
【解決手段】浴槽、浴室や洗面台等で、銅イオンと、湯垢や石鹸に含まれる脂肪酸が反応してできる銅石鹸による青色着色部分に、エタノールアミンを必須成分として含有する除去剤を塗布し、表面或いは内部に付着した青色着色物を除去するものである。 （もっと読む）

【課題】無リンまたは低リン酸塩自動食器洗いシステムにおける混合無機沈着物を最小限にする配合物の提供。
【解決手段】少なくとも２つの成分を有する自動食器洗い洗剤組成物。第１の成分は、少なくとも１種のＣ_３−Ｃ_６カルボン酸モノマーの重合残基およびラクトン末端基を含むポリマー。第２の成分は、ニトリロ三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、メチルグリシン−Ｎ，Ｎ−二酢酸、２−ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、グルタミン酸−Ｎ，Ｎ−二酢酸、３−ヒドロキシ−２，２−イミノジスクシナート、Ｓ，Ｓ−エチレンジアミンジスクシナート、アスパラギン酸−二酢酸、Ｎ，Ｎ’−エチレンジアミンジコハク酸、イミノジコハク酸、アスパラギン酸、アスパラギン酸−Ｎ，Ｎ−ジアセタート、ベータ−アラニン二酢酸、ポリアスパラギン酸、これらの塩およびこれらの組み合わせから選択されるビルダー。 （もっと読む）

【課題】腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件（特に食品および製薬の産業における）下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物を提供する。
【解決手段】表面用洗浄・腐食抑制組成物は、一般式


［式中、Ｚは−Ｏ−Ｍまたは


のいずれかである。］で示される少なくとも一種のアルキレンオキシ−アルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含有する。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性ポリマー0.01〜20質量％、（Ｂ）キレート剤：0.01〜30質量％、（Ｃ）水：40〜99.9質量％を含む水溶性洗浄剤組成物であって、前記アニオン性ポリマー（Ａ）は、（Ａ−１）炭素数２〜８のエチレン系不飽和モノマーの少なくとも１種と、（Ａ−２）スルホ基（ＳＯ_３Ｈ）を含むエチレン系不飽和モノマー及びカルボキシル基（ＣＯＯＨ）を含むエチレン系不飽和モノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種のアニオン性不飽和モノマーとの共重合体である、水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）