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国際特許分類[C11D7/32]の内容

国際特許分類[C11D7/32]に分類される特許

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【課題】ケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの酸洗作業において、安全面、効率面で問題のある手作業による酸洗方法に替えて、タンク洗浄装置を用いて無人化、自動化による酸洗方法、及びこの自動酸洗方法に好適な高い洗浄効果を得ることができる酸洗浄剤を提供する。
【解決手段】硝酸、フッ酸、硫酸、有機酸、多価アルコール、粘性助剤、錯化合物、消泡剤を含有した構成をもつ酸洗浄剤、及びこの酸洗剤を使用してタンク洗浄装置を用いて行うケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの自動酸洗方法。 (もっと読む)


【課題】繊維製品に付着したグラム陰性菌を効果的に除菌できる組成物および除菌方法の提供。
【解決手段】亜鉛化合物、下記式の化合物、過酸化物、過酸前駆体を含有する組成物。
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【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 (もっと読む)


【課題】 研磨剤由来の砥粒の除去性、絶縁膜上の金属残渣と有機残渣の除去性に優れ、かつ銅配線の耐腐食性に優れる銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって、アミン(A)、グアニジンの塩またはグアニジン誘導体の塩(B)、および水を必須成分とし、使用時のpHが8.0〜13.0であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】リンス剤を用いることなく、且つ洗浄剤を継ぎ足しながら洗浄する連続運転を長期間行っても、食器がすぐに乾く速乾性の効果(リンス効果)が得られる食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(A)アルカリ剤、(B)キレート剤および(C)下記の一般式(1)及び/又は一般式(2)で表される組成で、且つ重量平均分子量が10万〜500万のポリマーを含有する食器洗浄機用洗浄剤組成物。


(Rは炭素数1〜3のアルキル基を表し、m及びnはそれぞれ30〜70000の数を表し、m/n=1/9〜9/1である。)
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【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び/又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】(成分a)水、(成分b)糖、(成分c)ヒドロキシルアミン及び/又はその塩、(成分d)第4級アンモニウム化合物、並びに、(成分e)有機酸、を含み、pHが6〜9であることを特徴とする半導体基板洗浄用の洗浄組成物。前記洗浄組成物を用いた洗浄方法、及び、半導体装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、C1〜C5の低級アルコール0.1重量%〜15重量%、水溶性グリコールエーテル化合物0.1重量%〜15重量%、有機リン酸0.01重量%〜10重量%、アゾール系化合物0.001重量%〜10重量%、および残量の水を含む。 (もっと読む)


【課題】金属素地の腐食を抑制するとともに、酸洗後の金属材表面の品質を低下させることなく、金属材表面に付着している酸化物皮膜およびスケールの除去速度を速い状態で維持する金属材用酸洗浄液、およびこれを用いる金属材の酸洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属材用酸洗浄液は、塩酸(HCl)水溶液に、(A)平均分子量が150〜1500の低分子ポリアミンと、(B)低分子カルボン酸(またはその塩)を含み、更に(C)アセチレンアルコール、(D)ヘキサメチレンテトラミン、(E)ポリエチレングリコールを含むことが出来る。 (もっと読む)


【課題】バイオフィルム、綿状の大量のスラッジまたは大量の生物学的活性スラッジを水システムから除去するための方法を提供する。
【解決手段】1以上の塩素化ヒダントイン、例えばジクロロまたはモノクロロジアルキルヒダントインを水システムに加えることを含む。代わりに、塩素化ヒダントインを、塩素源およびアルキル化ヒダントインを水システムに別々に加えてその場で形成させてもよい。太陽光にさらされたときの塩素化ヒダントイン溶液の著しい光安定性のために特に有利である。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の乾燥時に結露が発生しにくく、またブレーキダストが付着したホイール内側等を洗浄する場合においても洗浄性に優れ、さらにホイール表面等の塗膜に対する侵食性が低い洗浄剤組成物及びそれを用いたエアゾール組成物を提供することである。
【解決手段】特定のアミド化合物と、アルコールとを含有してなる洗浄剤組成物である。 (もっと読む)


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