【課題】複数の圧力勾配型プラズマガンを設けた成膜装置において、連続的に稼動したときに、一定の膜厚分布や膜質で成膜できる成膜装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１４内に向けてプラズマビーム７を生成する複数の圧力勾配型プラズマガンと、前記プラズマビーム７を収縮させて該真空チャンバー１４内に導く収束コイル６と、ハース２０と、前記プラズマを引き込む引き込み磁石とを設けた真空成膜装置１０において、前記プラズマビーム７から生じる反射電子流が帰還する電子帰還電極４を、前記複数の圧力勾配型プラズマガンに対してひとつ設けた真空成膜装置１０である。 （もっと読む）

【課題】成膜材の物性との違いに関わらずドーピング材を自由に選択可能なイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、プラズマビームＰを発生するプラズマガン４と、プラズマビームＰが照射されるハース５と、ハース５に電気的に接続され、ハース５に近接配置されたタブレット２１を支持する導電性のタブレット支持棒２５とを備え、ハース５の真空チャンバ３内における露出面にはタブレット２１と共に気化されてドーピングされるドーピング材２２が支持され、ハース５およびタブレット２１に対する通電量を調整可能な構成とした。 （もっと読む）

【課題】成膜材の物性との違いに関わらずドーピング材を自由に選択可能なイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、プラズマガン４と、プラズマビームＰが照射されるハース５とを備え、ハース５は、タブレット２１を真空チャンバ３の内部に露出するように配置する凹部２４ａと、真空チャンバ３の内部における露出面において成膜時にドーピングされるドーピング材２２を支持する環状溝２３ｂとを有し、ハース５の露出面のうちプラズマビームＰが照射される被照射面の面積により、ハース５の被照射面における電流密度を調整することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、硬度と耐酸化性に優れた硬質皮膜およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の硬質皮膜は、［（Ｎｂ_1-d ，Ｔａ_d）_a ，Ａｌ_1-a-b-c ，Ｓｉ_b ，Ｂ_c］（Ｃ_1-XＮ_X）からなる硬質皮膜であって、０．４≦ａ≦０．６、０＜ｂ＋ｃ≦０．１５、０≦ｄ≦１、０．４≦Ｘ≦１（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄおよびＸは互いに独立して、原子比を示す：なおｂおよびｃは、一方が０であってもよいが、両方が０になることはない）であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 プラズマが不安定に成らない様にする。
【解決手段】 絶縁性物質で形成された円筒部材２と、プラズマガスを円筒部材２内に供給するためのガスリング３と、粉末材料とキャリアガスを円筒部材２内に供給するためのパイプＱ´が挿入されており、ガスリング３の中心軸に沿って設けられたプローブ１１´と、円筒部材２の外側に巻かれた誘導コイル４を備えており、誘導コイル４に高周波電力を供給することによって円筒部材２内に高周波誘導熱プラズマを発生させる様に成っている。パイプＱ´の少なくとも先端部分とプローブ１１´の中心孔Ｈ内の少なくとも先端部分のそれぞれに係脱可能な係合部を形成している。 （もっと読む）

【課題】膜材の気化によりハースに付着した成膜堆積物の再気化を抑制、または成膜堆積物がハースに堆積するのを抑制して、ワークに安定した膜特性を有する被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置および成膜方法を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３の内部におけるハース５の露出面５ｂの表面温度を、タブレット２１の気化によりハース５の露出面５ｂに付着した成膜堆積物の再気化を抑制する第１の温度領域、または気化したタブレット２１のハース５の露出面５ｂに対する付着を抑制する第２の温度領域に制御する構成にした。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内における膜材の突出長を一定に維持して、安定した成膜レート及び良好な膜質で成膜できるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、真空チャンバ３内にプラズマビームＰを発生するプラズマガン４と、真空チャンバ３内においてプラズマビームＰが照射されるハース５と、ハース５に収容された成膜用のタブレット２１を真空チャンバ３内に露出するように支持するタブレット支持棒２５と、タブレット支持棒２５を介してタブレット２１を真空チャンバ３内に押し出す駆動機構９と、真空チャンバ３内に突出したタブレット２１の突出方向における先端面の少なくとも一部に接触する接触部３７を有し、接触部３７をタブレット２１の先端面に当接させてタブレット２１の先端面を所定位置に位置規制する位置規制部とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 絶縁性膜の生成時において、当該絶縁性膜が陽極の表面に付着するのを防止し、ひいてはプラズマの安定化を図る。
【解決手段】 本発明に係るイオンプレーティング方式の成膜装置１０によれば、陰極としてのフィラメント４０と陽極としてのアノード４２との間にプラズマが発生する。そして、このプラズマによって、膜材料をイオン化し、イオン化された膜材料を被処理物２８，２８，…の表面に照射することで、当該被処理物２８，２８，…の表面にｃＢＮ膜等の絶縁性膜を形成する。このとき、フィラメント４０については、積極的に加熱されるので、当該フィラメント４０の表面には絶縁性膜は付着しない。一方、アノード４２についても、その表面に当該絶縁性膜が付着するのを防止し得る程度に、自己加熱させる。これにより、これら両者間に発生するプラズマの安定化が図られる。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内におけるプラズマ濃度の偏りを小さくし、ワークに抵抗値のばらつきの小さな被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、真空チャンバ３内にプラズマビームＰを発生するプラズマガン４と、真空チャンバ３内においてプラズマビームＰが照射されるハース５と、ハース５に収容されたタブレット２１を真空チャンバ３内に露出するように支持するタブレット支持棒２５と、真空チャンバ３内にプラズマガン４に対向する位置に設けられた電極部７と、真空チャンバ３内にプラズマガン４と電極部７との対向空間を挟んで、ハース５に対向する位置にワークＷを支持する搬送部６とを備え、電極部７は、ハース５に照射されるプラズマビームＰの一部を分流し、分流したプラズマビームＰが照射される構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板内の成膜のカバレッジ性を改善することができ、異物があった場合においても、この異物に起因する欠陥部が生じる虞が無く、外部からの酸素や水分の進入を防止することができ、薄膜の信頼性を確保することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを収納する真空容器と、この真空容器内かつ基板Ｗに対向して配設される複数対のハース４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂと、これらのハース４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂにプラズマビームを照射するプラズマガン６、７とを備え、ハース４Ａ、４Ｂとハース５Ａ、５Ｂとを時系列的に切り替えることにより、基板Ｗ上に成膜を行う。 （もっと読む）