【課題】成膜中に膜材料の表面に付着または析出した異物を落下し易くできる成膜方法、膜材料、および成膜装置を提供すること。
【解決手段】成膜方法は、膜材料２２を蒸発させて基板２８の表面２８ａに成膜する成膜方法であって、膜材料２２は、表面が曲面で構成された形状を有する固体からなり、複数の膜材料２２をハース２０に収容し、膜材料２２の表面を加熱することにより膜材料２２を蒸発させることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、薄膜被覆技術に有用な新しいプラズマ源を提供し、更にプラズマ源の使用方法を提供する。より具体的には、本発明は、プラズマ強化化学蒸着に有用な線状及び二次元のプラズマをそれぞれ生成する、新しい線状及び二次元のプラズマ源を提供する。また、本発明は、薄膜被覆を形成する方法及びそのような方法による被覆効率を向上させる方法を提供する。
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【課題】合金膜を容易に形成することができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源８は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され、２種以上の金属箔８２（８２ａ，８２ｂ）が重ねて巻回されてなる蒸着材料８０と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、２種以上の金属の合金インゴットの作製が不要となる。また、合金化が困難な材料の合金膜の形成が可能となる。さらに、３種以上の金属箔を用いることで、３元系以上の合金膜をも容易に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る同軸型真空アーク蒸着源５は、円筒状の絶縁碍子１４と、絶縁碍子１４の内周部に配置され外周部が絶縁碍子１４の内周部に弾性的に接触する蒸着材料１１と、絶縁碍子１４の外周部に配置されたトリガ電極１３と、トリガ電極１３の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２３とを具備する。これにより、蒸着材料１１と絶縁碍子１４との間の密着を常に維持することができるので、蒸着源５の安定した放電動作を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】低電圧で大量の熱電子を放出するプラズマ発生装置および成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置１１では、カソード２に熱電子を放出する筒状体に成形された熱電子放出部４２が複数設けられている。このプラズマ発生装置１１は、カソード２からアノード３に向けてイオン化させた不活性ガスを放出して放電させることにより、カソード２とアノード３との間にプラズマを発生させ、熱電子放出部４２では、その筒内周面４３および筒外周面４４から熱電子を放出する。 （もっと読む）

【課題】成膜時の成膜対象へのパーティクル付着を抑制する。
【解決手段】発生部２で発生したプラズマを成膜部５に配置した成膜対象４へ誘導するフィルタ部３に、プラズマと共に発生するパーティクルを衝突させる衝突部６を設ける。衝突部６は、発生部２で発生したパーティクルの進路をシミュレーションし、衝突部６を設けなかった場合に成膜対象４に到達すると予測されるパーティクルの進路上に、プラズマ流を大きく遮らないようにして、配置する。衝突部６に衝突したパーティクルが、そこで進路を変えられ、或いはそこに捕捉されることで、成膜対象４へのパーティクルの到達及び付着が抑制されるようになる。 （もっと読む）

【課題】 成膜装置及び成膜方法に関し、ＦＣＡ法により成膜する際に、成膜レートを維持しつつ、被成膜基板上に付着するマクロパーティクル数を低減する。
【解決手段】 アーク放電によるプラズマ発生ガンを備えたプラズマ発生部と、発生したプラズマを被成膜基板へ誘導するフィルターと、前記被成膜基板を保持および処理するチャンバーとを有する成膜装置に、前記プラズマ発生部に前記発生したプラズマの中央位置にプラズマ径よりも小径の防着板を設置する機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】圧電効果の大きな組成範囲の強誘電体膜を備えた素子を効率よく製造する。
【解決手段】第３中間電極７を備えた圧力勾配型プラズマガンを用いてＨｅガスと酸素ガスの混合プラズマを発生させ、この混合プラズマ中の酸素ラジカルにより成膜材料を酸化させる強誘電体膜を形成する。放電ガスとしてＨｅを用いることにより高濃度の酸素ラジカルを発生させることができるため、圧電効果の大きな組成範囲、例えばＰｂ（Ｚｒ_ｘＴｉ_１−ｘ）Ｏ_３（ｘ＞０．４）の膜を効率よく製造することができる。 （もっと読む）

マルチモードイオン源を提供する技術を開示する。本発明のある例示的態様においては、例えば、第１モードがアーク放電モードであり、第２モードがＲＦモードであるという複数モードで動作するイオン源を含むイオン注入装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】放電電圧を低下させることなく基板表面のチャージアップを抑制することができる触媒材料の製造方法及び真空アーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の一形態では、円筒状の絶縁部材２３と、上記絶縁部材の外周部に配置された触媒活性を有する金属でなる蒸着材料２１と、上記絶縁部材の外周部に配置されたトリガ電極２２と、上記トリガ電極の周囲に同心的に配置された筒状のアノード電極２４とを有するアーク蒸着源が用いられる。そして、表面にカーボン系材料層Ｃが形成された基板Ｗが準備される。上記蒸着材料の微粒子は、減圧雰囲気下で、上記アーク蒸着源における上記蒸着材料と上記筒状電極との間の放電制御によって生成されて、上記カーボン系材料層の表面に付着させられる。上記アーク蒸着源における上記放電制御に同期して、電子供給源４０から上記減圧雰囲気に電子が供給される。 （もっと読む）