【課題】レンズ等の曲率を有する基体に、均質なフッ化物薄膜を無加熱で成膜する。
【解決手段】レンズ４を、揺動機構５によって揺動及び回転させながら、遮蔽板３の開口３ａを通して抵抗加熱蒸発源２からの蒸着粒子を被着させ、フッ化物薄膜を成膜する。遮蔽板３の開口３ａは、クラスターイオン源１から照射されるクラスターイオンが３０度以下の入射角でレンズ４に入射する領域にのみ開口する。入射角３０度以下のクラスターイオンアシストを用いた蒸着領域がレンズ４の有効面全体に及ぶように、揺動機構５によってレンズ４を揺動させる。 （もっと読む）

【課題】安定した成膜レートを得ることができ、電気的パスを形成するための事前作業をすることなく安定した放電を得ることができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、真空チャンバ３の内部にプラズマビームＰを発生するプラズマガン４と、真空チャンバ３の内部においてプラズマビームＰが照射されるハース５と、成膜用のタブレット２１をハース５から真空チャンバ３の内部に露出するように支持するタブレット支持棒２５とを備え、タブレット支持棒２５は、導電性であり、ハース５は、真空チャンバの内部においてタブレット２１と絶縁され、真空チャンバ３の外部においてハース抵抗１７を介してタブレット支持棒２５と電気的に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜材に流れる電流量に応じて成膜レートを正確に制御することができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】真空チャンバ３と、真空チャンバ３内にプラズマビームＰを発生するプラズマガン４と、タブレット２１を収容する貫通孔５ａが形成され、真空チャンバ３内においてプラズマビームＰが照射されるハース５と、貫通孔５ａにおいて、タブレット２１を真空チャンバ３内に露出するように支持するタブレット支持棒２５と、タブレット２１に流れる電流量を測定する電流計１９とを備え、タブレット支持棒２５は、タブレット２１を支持する支持面が形成された導電性の支持棒本体３１と、支持部本体３１に対するプラズマビームＰの照射を遮断すると共に、支持面に支持されたタブレット２１を保持する絶縁性の保持具３２とを有し、電流計１９を支持部本体３１に電気的に接続して構成した。 （もっと読む）

【課題】作業効率を向上させることができ、安定して成膜することができるイオンプレーティング装置を提供すること。
【解決手段】ハース５は、真空チャンバ３内においてタブレット２１と絶縁され、真空チャンバ３外において可変抵抗３６を介して導電性のタブレット支持棒２５と電気的に接続されており、第１の電流計３１および第２の電流計３２によりガン電流およびタブレットに流れる電流を検出し、プラズマガン４に流れる電流値とタブレットに流れる電流値と可変抵抗の抵抗値との関係が示された抵抗値制御マップを参照して、可変抵抗３６の抵抗値を制御するよう構成した。 （もっと読む）

【課題】プラズマビームの照射位置の調整精度を向上させることができると共に、調整作業の作業効率を向上させることができるイオンプレーティング装置およびプラズマビーム照射位置調整プログラムを提供すること。
【解決手段】プラズマガン４と、プラズマビームＰの目標照射位置を中心として周方向に略等角度で４つの分割部１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄに分割されたハース５と、各分割部に一対一で接続されて電流を測定する４つの電流計１９ａ、１９ｂ、１９ｃ、１９ｄと、プラズマガン４側の磁界を形成するガン電磁石１５と、ハース５側の磁界を形成するハース電磁石２９と、ガン電磁石１５およびハース電磁石２９を制御してプラズマビームＰの照射位置を調整する位置調整部８とを備え、各分割部は互いに絶縁されており、位置調整部は、各電流計の測定値に応じてプラズマビームの照射位置を目標照射位置に近づけるように調整する構成を備えた。 （もっと読む）

本発明は、真空コーティング設備で電気式のアーク蒸発器の高電流放電を点火するための点火装置に関する。点火は、カソードとアノードの間の接点の機械式の開閉によって行われる。接触は、強制軌道上を動く点火フィンガによって成立する。強制軌道に基づき、単純な機械式の駆動装置によって、コーティングから防護された待機位置へと点火フィンガを移動させることができ、さらに、第２のターゲットの点火のために利用することができる。
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【課題】プラズマを用いて活性化した原料から高純度の薄膜を確実に形成することができるようにする。
【解決手段】 プラズマ援用反応性薄膜形成装置におけるプラズマ発生用コイル４を、形成すべき薄膜を構成する元素からなる物質で構成されるかあるいは該物質で被覆されたものとする。そして、そのプラズマ発生用コイル４によってチャンバ１０内にプラズマを発生させ、蒸着源のルツボ６によって蒸発される原料の元素と気体導入口７から導入される気体の元素とがプラズマ雰囲気中で反応し、プラズマ発生用コイル４の表面がスパッタリングされて飛び出す上記物質の元素とともに基板２の表面に蒸着することによって所望の （もっと読む）

【課題】大きなサイズのクラスターを生成することが可能なクラスター生成装置を提供する。
【解決手段】クラスター生成室１と、該クラスター生成室１内に配置されたターゲット（放電部）３を有するマグネトロンスパッターガン２と、該クラスター生成室１内に配置されたガス放出部を有するガス導入口４とを備えるクラスター生成装置であって、クラスター生成室１の形状が、クラスター出口（開口部）５に向かって徐々に内径が小さくなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】連続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｔｉ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．５０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが１．０から０．４まで漸次減少する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

【課題】プラズマガンと電子銃を備えたイオンプレーティング装置を用いて、異常放電を防止しながら成膜を行い、膜素子を製造する方法を提供することにある。
【解決手段】プラズマガンに第１の放電ガスを供給して放電を生じさせた後、第１の放電ガスに代えて、第１の放電ガスより放電を生じにくい第２の放電ガスを供給して放電を継続させることによりプラズマを発生させ、電子銃から電子ビームを蒸発源に照射して蒸発させ、プラズマを通過した蒸気を基板上に堆積させ、薄膜を形成する。これにより、放電しにくい第２の放電ガスで安定にプラズマを発生させ、電子銃周辺での異常放電を防止できる。 （もっと読む）