【課題】クリーンルームにおいて光起電性モジュールをスパッタシステムへ輸送する際に、該モジュールの容易な回転、先のスパッタプロセスの検査、及び同じスパッタシステム又は生産システムの他の部位への該モジュールの新たな供給を可能にする。
【解決手段】本発明は、特に、クリーンルームにおいて光起電性モジュールをコーティングする際に、スパッタコーティングシステムへの基板ウエハ供給を反転する装置及び方法に関する。本装置及び方法は、ａ）光起電性モジュールの基板ウエハ（１９）を保持する輸送フレーム（１１）と、ｂ）輸送フレーム（１１）をマウントし、回転させ、輸送する手段を有する回転装置と、ｃ）回転装置をスパッタコーティングシステムに対して正確に整列させる手段と、ｄ）スパッタプロセスを検査する検知装置（１８）と、上記ステップを遂行するためのプログラムコードを有するコンピュータプログラムと、を備える。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュの発生をリアルタイムで検出できるようにした物理気相成膜装置と、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】物理気相成膜法によって被成膜体に成膜材料を成膜する物理気相成膜装置１である。真空チャンバー３と、真空チャンバー３内に設けられた成膜材料からなる成膜源４と、成膜源４から成膜材料を被成膜体２に向けて飛翔させる成膜手段５と、真空チャンバー３の外に配置されて、真空チャンバー３に設けられた透光性の窓８を透して成膜源４と被成膜体２との間に光を照射する光源１０と、真空チャンバー３の外に配置されて、光源１０から照射された光を直接的にまたは間接的に受光することで、成膜源４と被成膜体２との間での成膜材料の飛翔状況を観察する観察手段１１と、を有してなる。 （もっと読む）

【課題】少ない工程でより性能の高い有機ＥＬ素子を製造することが可能な製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子パネル５００の製造装置８０は、各層の成膜を行う複数の蒸着室１２乃至１５及び２２乃至２５を備える。蒸着室１２乃至１５及び２２乃至２５の外部には、蒸着物５６の膜厚を計測するエリプソメータ７０がそれぞれ設けられる。蒸着室１２のエリプソメータ７０により計測した膜厚が、予め設定された膜厚となった場合、真空搬送用ロボット１１は次段階に設けられる蒸着室１３へ蒸着物５６が蒸着されたガラス基板５１を搬送する。 （もっと読む）

本発明は蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に係り、さらに詳しくは、有機物質が大容量で充填されて変質なしに保管されると共に、所望の量だけ有機物質を気化させて基板に供給することのできる蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に関する。
本発明に係る蒸着物質供給装置は、内部に原料物質が充填される貯留空間および原料物質が気化される気化空間が連通状に形成される坩堝と、前記坩堝に充填された原料物質を貯留空間から気化空間に連続的に又は周期的に搬送する搬送ユニットと、前記坩堝に形成される気化空間の外側に配設されて原料物質を気化させる熱を供給する発熱ユニットと、を備える。また、本発明に係る蒸着物質供給装置は、前記坩堝に形成される貯留空間の外側に配設されて前記貯留空間に貯留された原料物質の熱変質を防止する冷却ユニットをさらに備える。 （もっと読む）

【課題】一つの排気路（主排気路）のみ有する減圧装置にも適用でき、排気速度が速くパーティクルの舞い上がりを抑制できる減圧排気弁及びこの減圧排気弁を含む減圧排気機構を用いた減圧装置を提供する。
【解決手段】本発明にかかる減圧排気弁１０は、一端が真空チャンバ２に連通し、他端が真空ポンプ３に連通する排気路５中に取付けられる減圧排気弁１０において、前記減圧排気弁１０が、前記排気路５に接続される管部１１と、前記管部内に収容された、前記排気路５を開閉する開閉弁１２と、前記開閉弁１２に設けられた、通気孔を有する多孔質体部１３と、前記開閉弁１２の上流側または下流側の排気路中に設けられ、排気路５の遮蔽面積が可変となされた遮蔽量調整部１０Ｂとを備える （もっと読む）

本発明は、真空被覆装置（３）の被覆チャンバ（１）内でテストガラス（２４，２４’’）を選択的に被覆しかつ光学的に測定するためのテストガラス変動システム（１０）に関する。被覆チャンバ（１）内では、基板（７）がターンテーブル（２）によって、被覆材料の流れを通る軌道において案内される。テストガラス変動システム（１０）は、テストガラス（２４，２４’’）を収容するためのテストガラスプレート（２６）と、このテストガラスプレート（２６）を選択的に覆うためのカバー（２８，２８’’）とを備えたテストガラスホルダ（８，８’）を有している。さらに、テストガラス変動システム（１０）は、ターンテーブル（２）の回動軸線（５）に対してほぼ平行に方向付けられた軸線（５’）を中心としてテストガラスプレート（２６）を回動させるための回動装置（３４）を有している。テストガラスホルダ（８，８’’）は、ユニットとしてターンテーブル（２）に位置決め可能であり、被覆チャンバ（１）から取出し可能である。
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【課題】 排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。
【解決手段】 イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。圧力調整手段２０は、排気口２９の断面に平行な方向に沿って排気口２９の開位置と閉位置の間で移動可能に構成されている。コントローラ２０６は、排気系４による真空引きを行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の開位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出するとともに、真空容器２内での成膜を行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の閉位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出する。 （もっと読む）

【課題】カルーセル式の成膜装置を用いて成膜作業を行う際に、モニター基板の裏面に成膜される事態を回避して正確なモニター計測を行う。
【解決手段】基板保持部材５にモニター用通路２０が基板保持部材５の側面を貫通する形で形成されている。モニター用通路２０の一端部にモニター基板２１がその表面を基板保持部材５上の成膜基板の表面と同じ成膜条件とするように装着されている。成膜基板の成膜時にターゲットからスパッタされた粒子がモニター基板２１の裏面に到達する経路を遮断する経路遮断手段２２が設けられている。これにより、成膜時にモニター基板２１の裏面に成膜される事態を回避でき、正確なモニター計測を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】同一バッチ内において基体表面に形成する化合物膜の膜厚分布を均一にする作業を簡素化でき、かつ長期間にわたり安定した化合物膜の形成ができるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】所定の真空度に保たれたチャンバと、前記チャンバ内に配置された基体と、前記チャンバ内に反応性ガスまたは不活性ガスのどちらかもしくは両方からなるガスを供給するガス供給管と、前記チャンバ内に配置されたターゲットとを備え、前記基体表面に前記ターゲットの化合物膜を形成するスパッタリング装置であって、前記ガス供給管に前記チャンバ内へ前記ガスを吹き出すための複数のガス供給孔をその孔径を調整可能に設け、前記ガス供給孔の吹き出し部の前方には前記ガス供給孔から吹き出される前記ガスを拡散する拡散板が配設される。 （もっと読む）

【課題】焼きだし時の真空容器の内部の温度のばらつきを抑えることができ、より短時間で所望の真空度に到達可能な真空排気方法を提供する。
【解決手段】真空容器１内に防着シールド４を備え、真空排気下でプラズマを発生させて基板９上に薄膜を形成する真空処理装置の真空排気方法であって、不活性ガスを導入する手順と、不活性ガスの圧力下において、ランプヒータにより防着シールド４を加熱する加熱手順と、排気手段２、３により真空容器１を排気する排気手順と、を有する。 （もっと読む）