【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における成膜速度を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１の表面に対向するように配置され、基板１００を設置する基板ホルダ６と、基板１００上の成膜環境を測定可能なセンサ部８とを備え、対象物ホルダ６は、ターゲット１０１に対して移動可能に構成されるとともに、基板ホルダ６の移動量及び移動方向と、センサ部８の移動量及び移動方向とが同一に設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 真空チャンバの低温パネルの再生中に気体状プレカーサーの分圧が制御されることを特徴とする基板上に材料の薄膜を堆積させる装置、及び真空チャンバの低温パネル上に当初捕捉された気体状プレカーサーを、制御されかつ自動的な方式で前記真空チャンバから排気できるようにする再生方法を提供すること。
【解決手段】 本発明は基板上に材料の薄膜を堆積させる装置及び再生方法に関する。装置はチャンバ（１）と、前記チャンバ内に設けられた低温パネル（１０）と、基板を支持可能なサンプルホルダ（６）と、前記チャンバ（１）に気体状プレカーサーを注入可能なガスインジェクター（９）と、前記真空チャンバ（１）に接続され、前記低温パネル（１０）により放出された前記気体状プレカーサーの一部を捕捉可能であり、不変の排気容量Ｓ_１を有する第１の捕捉手段（１１）とを備える。
発明によれば、基板上に材料の薄膜を堆積させる装置は気体状プレカーサーの分圧の関数として調節可能な可変排気容量Ｓ_２を有する第２の捕捉手段（１８）を備え、前記第１と第２の捕捉手段は前記真空チャンバ（１）内の前記気体状プレカーサーの分圧を所定の圧力Ｐ_Ｌに維持するのに十分な総合排気容量Ｓ＝Ｓ_１＋Ｓ_２をもたらす。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】多層膜の周方向の膜厚分布誤差を低減する。
【解決手段】成膜基板８を自転させながら、モリブデンとシリコンのターゲット５、７を交互に用いてスパッタ成膜を行い、多層膜の各層を成膜する。成膜中に成膜基板８の周方向に発生する各層の膜厚むらが互いに重なるのを防ぐため、成膜中の成膜基板８の自転速度を一層ごとに段階的に変化させる。複数層の膜厚分布を各層ごとに分散させることで、多層膜全体の周方向の膜厚分布誤差を低減する。 （もっと読む）

【課題】膜厚が異なる複数種類の薄膜を同一バッチで成膜可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１、１０２を用いて基板１００の表面に成膜を行う成膜装置１は、ターゲット１０１、１０２が載置される材料設置部２０と、基板１００を材料設置部２０に載置されたターゲット１０１、１０２に対向させて支持する基板ホルダ１１Ａ、１１Ｂと、材料設置部２０と基板ホルダ１１Ａ、１１Ｂとの間を退避可能に遮蔽するシャッタ部１３Ａ、１３Ｂとを有する複数の基板支持部１０Ａ、１０Ｂと、シャッタ部１３Ａ、１３Ｂと接続された制御部とを備え、制御部は、各々の複数の基板支持部１０Ａ、１０Ｂのシャッタ部１３Ａ、１３Ｂをそれぞれ異なるタイミングで動作させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
毒性のない透明導電膜の低抵抗率化と大面積化を可能とし、製造過程に於ける基板選択性を高め低コスト化と同時に省エネルギー化を図る。
【解決手段】
透明基板１上の酸化亜鉛試料２に電位を与えておき、前面に酸素プラズマＯＰを形成し、プラズマ空間電位を直流電源９、交流電源１０又はパルス電源１１で制御する。酸素プラズマＯＰの電子温度分布を変化させ、酸化亜鉛試料２と酸素プラズマＯＰとの間のシース電圧を制御し、亜鉛蒸気ＺＶを亜鉛Ｚｎショット８を加熱して生成させ、非晶質の透明基板１付近の各種粒子の量及び運動量等を質量分析装置１４とプラズマ発光分析装置１３でモニタリングし、各量をオーブンの三次元移動、酸素ガス質量流量、プラズマ生成電源電力等で制御し、得られるＺｎＯ透明導電膜の元素成分を、亜鉛と酸素のいずれか低い存在量に対して、亜鉛、酸素及び水素を除く不純物元素の比が０．４％以下となるように制御する。 （もっと読む）

【課題】プラズマ光の強度の実際の値と測定値とのずれを較正することができ、またプラズマの発生領域に対し、複数の位置のプラズマ光の強度を精度よく測定できるプラズマ測定装置を提供する。
【解決手段】前記プラズマ測定装置は、プラズマが発光する光の強度を測定する受光手段と、前記受光手段で測定された前記プラズマが発光する光の強度を較正するための較正用光源と、一端側がプラズマ発光領域に向けて並べて配置され、他端側が前記受光手段に接続された測定用の光ファイバーと、他端側が前記較正用光源に接続された較正用の光ファイバーとを備えた光ファイバーユニットと、を有し、前記プラズマが発光する光は、前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射し、前記較正用光源が発光する光は、前記較正用の光ファイバー及び前記測定用の光ファイバーを介し前記受光手段に入射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細パターンを形成したテンションマスクを均一に冷却する。
【解決手段】冷却体４をテンションマスク１のマスク箔３に接触させ、冷却体４をマスク箔上で走査させることにより、マスク箔３の全面を冷却する。冷却体４によってマスク箔３を冷却した後、基板７をマスク箔３に接触させ、シャッター８を開いて、蒸着源６から発生する蒸気を基板７に付着させる。マスク箔３の全面に冷却体４を直接接触させて冷却するため、短時間で均一にテンションマスクの温度調整を行うことが可能である。 （もっと読む）

【課題】ベーキング処理により反応容器内の真空度を短時間で高めることが可能な処理装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｗが配置される反応容器２と、反応容器２内にガスを導入するガス導入管と、反応容器２内を減圧排気する真空ポンプ１５，１６と、反応容器２の内面に沿って配置されたシールド板３１と、シールド板３１を加熱するベーキングヒータとを備え、ベーキングヒータによりシールド板３１を加熱しながら、真空ポンプ１５，１６により前記反応容器２内を減圧排気する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する蒸着速度が大幅に変更されても、検出ノズルから検出素子に対する蒸着速度を精度よく検出して、フィードバック制御を適正に行う。
【解決手段】真空状態の成膜室１１内で、複数の蒸着ノズル１５を有する分散容器１４を基板１２に対向して配置し、この分散容器１４に検出ノズル３２を貫設するとともに、検出ノズル３２に対向して蒸着速度検出素子３３を配置し、検出ノズル３２の放出口に対して蒸着速度検出素子３３を接近離間させる蒸着速度調整手段３４を設け、蒸着速度に対応して検出ノズル３２の放出口３２ａと蒸着速度検出素子３３との距離を調整する。 （もっと読む）