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国際特許分類[C23G1/00]の内容

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【課題】時計のような精密機械の部品や電子部品をはじめとする各種ワークの汚れを効率的に除去できる洗浄方法、この洗浄方法で得られたワーク、および洗浄後のワークを備えた時計を提供すること。
【解決手段】ワークの洗浄方法は、ワーク20を、電解酸性水を満たした洗浄槽21により洗浄する工程と、電解アルカリ水を満たした洗浄槽22により洗浄する工程とを備える。それ故、ワーク20の洗浄効率が極めて高く、時計のような精密機械の部品(ワーク)の洗浄用として好適である。 (もっと読む)


本発明は、基板をコーティングする方法であって:(a)苛性洗浄剤を基板の少なくとも一部に適用すること;(b)ステップ(a)に供した基板の少なくとも一部を水でリンスすること;(c)苛性洗浄した基板の少なくとも一部に酸性洗浄剤を適用すること;(d)ステップ(c)に供した基板の少なくとも一部を水でリンスすること;および(e)ジルコニウムを含む化成処理剤を、酸性洗浄した基板の少なくとも一部に適用することを含み;ステップ(c)および(e)で使用される材料の少なくとも1つは実質的にクロムを含まない方法を対象とする。本発明は、前述の方法によりコーティングされた、アルミニウム基板などの基板をさらに対象とする。 (もっと読む)


【課題】銅合金材の表面に緻密な酸化皮膜が酸化スケールとして形成されている場合に、安価且つ容易に酸化スケールを除去することができる、銅合金材の酸化スケールの除去方法を提供する。
【解決手段】(1〜5質量%のTiを含むCu−Ti銅合金の条材または板材などの)銅合金材の表面に酸化スケールとして形成された酸化皮膜を選択的に除去し且つ銅合金材を腐食し難い薬液として、キレート試薬と過酸化水素を含む薬液、あるいはキレート試薬と過酸化水素とアルカリを含む薬液を使用して、酸化スケールを除去する。 (もっと読む)


【課題】VOCの発生を抑制して環境への影響を抑制できると共に、金属表面の付着物の除去力の向上および金属表面の酸化の抑制が可能で、コストの低減が図れる金属線または金属条の表面処理方法ならびに表面処理装置を提供する。
【解決手段】金属線または金属条10を気液混相流体と接触させて表面処理する表面処理方法であって、前記気液混相流体を構成する液体は、直径が1マイクロメートル以上100マイクロメートル以下の液滴である。前記金属線または金属条10は、銅線または銅条である。前記気液混相流体を構成する液体は、水を主成分とする。前記気液混相流体の平均温度は、40℃以上沸点以下である。前記気液混相流体に含まれる酸素のモル分率は、1百分率以下である。 (もっと読む)


【課題】固化した油脂分やロジンなどの樹脂分、その他付着物が付着した被洗浄面を簡単な洗浄方法により水系の洗浄液で綺麗に除去可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】印刷配線基板に対してクリーム半田を印刷するために用いたメタル版などの被洗浄面に、植物性油からなる液状の前処理油を塗布した後、アルカリ電解水からなる水系洗浄液で被洗浄面を洗浄する。また、洗浄液と圧縮空気とを噴射ノズル内において混合して、洗浄液を微細粒化しながら、この微細粒化した洗浄液を噴射ノズルから被洗浄面に向けて高速で噴き付けて被洗浄面を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】含フッ素エーテルからアルコールを十分除去するとともに、含フッ素エーテルが系外へ排出されるのを防ぐことができる物品の水切り方法の提供。
【解決手段】物品をアルコールに接触させるアルコール接触工程3、物品を、1−メトキシ−2−トリフルオロメチル−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンと1−メトキシ−1,1,2,2,3,3,4,4,4−ノナフルオロブタンの混合物等の含フッ素エーテルに接触させるエーテル置換工程4、エーテル置換工程4から、アルコールを含んだ含フッ素エーテルを取り出す取出し工程、取出し工程で取り出された、前記アルコールを含んだ含フッ素エーテルに、該含フッ素エーテルの質量に対して、0.2〜2倍の量の水を接触させる水抽出工程6、含フッ素エーテルとアルコールを含んだ水とを分離させる水分離工程7、水と分離された含フッ素エーテルを、上記エーテル置換工程4に戻す工程を有する物品の水切り方法。 (もっと読む)


【課題】帯状鋼板等の帯状体の表面に存在する異物を洗浄する際に、洗浄不良や下流側への洗浄液の持ち込み、あるいはこれら両者に起因した押し込み疵の発生や溶接不良を、低コストで確実に事実上解消する。
【解決手段】異物が存在する帯状鋼板22の表面に向けて、その幅方向を含むとともにその表面に直交する面内でこの表面に対して斜めに洗浄液23を噴射することにより、帯状鋼板22の表面に対して斜めに噴射された洗浄液23が、表面に衝突して表面から離れる方向に反射した後に帯状鋼板22から離れたまま帯状鋼板22の幅方向の端部よりも外側へ飛散する際に、異物を飛散する洗浄液22に随伴させることによって、異物を、帯状鋼板22の幅方向の端部よりも外側へ飛散させて、帯状鋼板22から異物を除去する。 (もっと読む)


【課題】バンプショートの発生を防止して半導体素子の歩留まりを向上させるフラックスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】フラックス洗浄剤によりウェーハ1を洗浄する洗浄処理工程(A)と、前記洗浄処理後、連続して、液温40℃以上の脱イオン水によりウェーハ1をリンスする第1リンス処理工程(B)と、前記第1リンス処理後、連続して、液温25℃以下の脱イオン水によりウェーハ1をリンスする第2リンス処理工程(C)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物がたとえ複雑形状を有する場合であっても、被洗浄物表面上の汚染物質を十分に除去できる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得るための紫外線照射処理槽6、紫外線照射処理槽6内で得られた洗浄液を供給する管路15および洗浄液を被洗浄物に接触させるための手段7を備え、オゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た直後に、当該洗浄液を被洗浄物に接触させる。 (もっと読む)


本発明は、含浸剤組成物の回収法において、含浸された金属部材を、少なくとも1の塩少なくとも0.7質量%を含む塩含有清浄化組成物と接触させることを特徴とする方法に関する。さらに本発明は、含浸剤の回収のための少なくとも1の工程を含む金属部材の含浸法に関する。 (もっと読む)


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