【課題】画質検査に要する画像を最小限に抑えて画質検査に要する処理負担を軽減する画質検査方法、画質検査装置及び画質検査プログラムを提供する。
【解決手段】画質検査装置１は、検査対象の画面の外枠を黒の破線模様４０で形成された白色パターンＷＰと、黒の破線と同じ位置に白の破線模様４０で形成された黒色パターンＢＰとを切替表示される検査対象の画面を連続撮像して取り込む取込部２１を有する。更に、画質検査装置１は、取り込まれた複数の画面の内、外枠の破線上辺４０Ａと当該破線上辺に対向する破線下辺４０Ｂとが一致した画面を抽出する抽出部２２を有する。更に、画質検査装置１は、抽出した画面から白色パターンと黒色パターンとを選別する選別部２３と、選別された白色パターン及び黒色パターンに基づき、当該検査対象の画面に対する画質検査を実行する検査部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】装置構成が簡易であり、容易に良否検査が可能なビーム走査検査装置およびビーム走査検査方法を提供する。
【解決手段】主走査方向においてスポット径よりも幅の狭い領域で受光し、主走査方向における複数の像高位置で走査光学系から射出されたビームのピーク光量をビーム走査している状態で算出し、主走査方向における各像高位置に対するピーク光量を基に良否を検査する。 （もっと読む）

【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、複数の異なる種類の光ファイバを用いて測定を行なえる光スペクトラム測定装置を提供する。
【解決手段】光バンドパスフィルタの中心波長を変化させ、被測定光の光スペクトラムを測定する光スペクトラム測定装置であって、異なる種類の光ファイバに対応した複数個の光コネクタと、分岐側の各光ファイバが複数個の光コネクタとそれぞれ接続し、バンドル側が光バンドパスフィルタの光入力端に接続したバンドル光ファイバと、を備えた光スペクトラム測定装置。 （もっと読む）

【課題】フォトデバイスにパルス光を照射して検査する際に、パルス光の光強度を適切に設定する技術を提供する。
【解決手段】フォトデバイスを検査する検査方法である。この検査方法は、(a) フェムト秒レーザーから出射されるパルス光の光強度を変更しつつ、フォトデバイスの受光面に前記パルス光を照射することによって、前記フォトデバイスから発生する電磁波の電界強度を検出器にて検出する工程と、(b) 前記(a)工程において検出された電磁波の電界強度が最大となるときの前記パルス光の最大時光強度を取得する工程と、(c) 前記(b)工程において取得された前記最大時光強度に基づいて定められる光強度のパルス光を前記フォトデバイスに照射することによって、前記フォトデバイスにて発生する前記電磁波パルスの電界強度を前記検出器にて検出する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】輪帯面と壁面とが交互に連続して形成された被測定面であっても、フィッティング精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】複数の点データを列毎にグループ化して複数の点列データを生成する（Ｓ１０２）。点列データ毎に走査軌跡面関数をそれぞれ求める（Ｓ１０３）。複数の点データの中から各輪帯面のデータと見做せる点データを各輪帯面に対応して抽出し、得られた抽出データ毎に、その抽出データを関数近似して輪帯面を示す輪帯面関数をそれぞれ求める（Ｓ１０４）。設計データに基づいて壁面関数をそれぞれ求める（Ｓ１０５）。各面関数が交差する各々の交点データを求める（Ｓ１０６）。参照データと交点データとをフィッティングさせる座標変換パラメータを求める（Ｓ１０７）。座標変換パラメータで各点データを座標変換する（Ｓ１０８）。座標変換した点データと被測定面の設計データとの差分を求める（Ｓ１１０）。 （もっと読む）

【課題】空間光を簡易な構成で効率的に光ファイバに入力可能な空間光測定用光ファイバ変換器を提供する。
【解決手段】本発明の空間光測定用光ファイバ変換器は、集光鏡と、集光鏡の焦点にその先端が配置され集光鏡で反射された光が入射される光ファイバプローブと、を備える。集光鏡は、例えば放物面鏡や楕円面鏡である。楕円面鏡の場合、光ファイバプローブは、楕円面鏡の一方の焦点にその先端が配置され、楕円面鏡の他方の焦点に配置された点光源からの光が、楕円面鏡で反射されて前記光ファイバプローブに入射される。 （もっと読む）

【課題】光出力が急激に低下する期間よりも前に、その劣化の兆候の検出が可能となる半導体レーザの劣化兆候検出装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ２０１の光出力に関する情報を取得する受光部２０３と、レーザの発振閾値以下での発光パターンの強度分布を取得する受光部２０２と、時間Ｔ１におけるレーザの光出力に関する情報と、発光パターンの強度分布に関する情報を保持する保持部２０４と、Ｔ１＜Ｔｎである少なくとも１回以上の時間Ｔｎにおけるレーザの光出力に関する情報と、時間Ｔ１におけるレーザの光出力に関する情報とを比較し大きな変化がない場合において、レーザの時間Ｔｎにおける発振閾値以下での発光パターンの強度分布に関する情報と、時間Ｔ１における発光パターンの強度分布に関する情報とを比較することにより、レーザの光出力急激低下兆候の有無を判定する判定部２０５と、判定部からの信号を出力する出力部２０６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 エレベータの出入口で紐状の異物や乗客などがドアに挟み込まれたことを検出する装置などに使用されるセンサを効率的に検査する装置の提供。
【解決手段】 センサ１１を取り付けるセンサ取付治具４０と、センサ１１から所定距離離れた位置に配置され前記センサ１１から出射した光ビームＢを反射する反射板１１２と、取付治具４０と反射板１１２との間に、移動可能に配置された紐１４０と、センサ１１が紐１４０を検出したか否かを知らせるブザー１３２を備えたものである。これにより、効率的にセンサ１１の検査を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 光干渉素子の干渉特性の調整を行うことなく、光干渉素子に入力される入力光の特性を精度よく測定することができる、光干渉素子の入力光の特性測定方法を提供する。
【解決手段】 光干渉素子の入力光の特性測定方法は、入力カプラと、前記入力カプラに接続された複数の半導体アームと、前記半導体アームの出力を干渉させる出力カプラと、を備える光干渉素子の入力光の特性測定方法であって、前記複数の半導体アームのうち、１つを除く他のすべての半導体アームに光吸収特性を生じさせる制御を行う第１ステップと、前記第１ステップの後に、前記出力カプラから出力される前記入力光の特性を測定する第２ステップと、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）