【課題】従来の不利点の一つまたは複数を解決するセンサを有する基板テーブルを提供する。
【解決手段】センサを有する基板テーブルであって、該センサは、放射に対して不透明な物質層が設けられた物質のブロックを含む。該物質層は、放射の透過を許可するよう構成された少なくとも一つのウィンドウを有する。センサは、ウィンドウに位置する波長変換物質と、波長変換物質から放出された放射を受けるよう位置付けられた導波路を含む。該導波路は、物質のブロック中に埋め込まれるとともに、波長変換物質から放出された放射を物質のブロック中を通って検出器に向けて導くよう構成される。 （もっと読む）

【課題】フィルム状の被露光体にマスクパターンを露光する露光装置において、露光面上に生じる皺を抑制することで、露光面上に精度の高いマスクパターンを形成する。
【解決手段】フィルム露光装置１は、フィルム搬送部２と、フォトマスク３と、マスク保持部４と、光照射部５とを備える。フォトマスク３は、被露光体Ｆの搬送方向に沿って配置される第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２を備える。マスク保持部４は、第１のマスクパターン３１と第２のマスクパターン３２の間に被露光体Ｆの搬送方向に交差して延設し且つ露光面ａに対して立設した遮光板４１を備え、遮光板４１の延設方向に沿ってエアが吹き出され、開口４ａを介してフォトマスク３を冷却するエア吹き出し口４２（４２Ａ，４２Ｂ）を備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、基板の下面をリリース可能に保持する第１保持部と、基板が配置可能な開口を規定し、基板が第１保持部に保持されている状態において基板の上面の周囲に配置され、基板の上面と間隙を介して隣接する第１面を有する第１部材と、を含む基板保持装置と、第１部材、及び間隙の下方に位置する部材の少なくとも一つの少なくとも一部をクリーニングするクリーニング装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 線幅精度の高い導電膜が形成された電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の電子部品の製造方法は、基板１と、基板１に形成された電極５を備えた電子部品の製造方法であって、基板１上に、反射防止膜２を形成する工程と、反射防止膜２上に、レジスト膜３を形成する工程と、所定の形状からなるマスク４を介して、ＫｒＦレーザまたはｉ線を照射して、レジスト膜３を露光する工程と、レジスト膜３を現像し、レジストパターン３ａを形成する工程と、レジストパターン３ａを用いて、基板１上に電極膜５を形成する工程を備え、反射防止膜２の膜厚が、７０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

【課題】反射屈折投影対物系、投影露光装置、及び半導体構成要素及び他の微細構造化構成要素を製造する方法を提供する。
【解決手段】物体平面の物体視野を像平面の像視野上に結像するためのマイクロリソグラフィのための反射屈折投影対物系は、物体視野を第１の実中間像上に結像する第１の部分対物系、第１の中間像を第２の実中間像上に結像する第２の部分対物系、及び第２の中間像を像視野上に結像する第３の部分対物系を含む。第２の部分対物系は、厳密に１つの凹ミラー及び少なくとも１つのレンズを有する反射屈折対物系である。第１の折り返しミラー及び第２の折り返しミラーが設けられる。第２の部分対物系のレンズの少なくとも１つの面は、０．２％よりも低い反射率を有する。代替的又は追加的に、第２の部分対物系のレンズの全ての面は、周縁光線同心からのずれが２０°よりも大きいか又はそれに等しいように構成される。 （もっと読む）

【課題】 中心から外れた散乱関数を用いて、電子近接効果を補正する方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、特に、直接または間接描画リソグラフィおよび電子顕微鏡検査において使用される、電子ビームを投射する方法を開示する。特に、５０ｎｍ未満の限界寸法または分解能では、ターゲットと相互作用しているビームにおける電子の前方および後方散乱によって生じる近接効果を補正しなければならない。このため、ターゲットの形状に関する点像分布関数の畳み込み積分が従来使用されている。従来技術では、前記点像分布関数はその中心がビームの中心にあり、ガウス関数または指数分布則を用いる。本発明によれば、点像分布関数の少なくとも１つの構成要素は、ビームの中心に位置しない最大値を有する。好ましくは、最大値は後方散乱ピークに位置する。有利には、点像分布関数はガンマ分布則を用いる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置内で液浸流体を使用する際の局所的な熱負荷の影響を低減する。
【解決手段】基板を支持する支持テーブルであって、基板を支持する支持セクションと、支持セクションに熱エネルギーを供給し、及び／又はそこから熱エネルギーを除去する調節システムとを有し、調節システムは、個別に制御可能な複数の調節ユニットを備える。 （もっと読む）

【課題】移動体の駆動部で暖められた気体の漏れ出しを低減する。
【解決手段】移動体の位置決め装置は、固定子３及び可動子５を有する駆動部と、開口部１１と排気口とを有する筐体７と、前記筐体内の気体を前記排気口から排気する排気部と、制御部とを備える。前記可動子５は、前記移動体２に接続部材１０を介して接続されている。前記筐体７は、前記可動子５の駆動範囲に亙って前記可動子５と前記固定子３とを収容する。前記開口部１１は、前記可動子５の駆動に伴う前記接続部材１０の移動を許容する。前記排気口は、前記駆動範囲の第１端部Ｅａ及び第２端部Ｅｂにそれぞれ配置された端部排気口８ａ、８ｂを含む。前記制御部は、前記可動子５が前記駆動範囲の前記第１端部側を前記第１端部Ｅａに向けて駆動されるときに、前記第１端部Ｅａに配置された端部排気口８ａからの排気量を前記可動子５が前記駆動範囲の中央に位置するときよりも増加させる。 （もっと読む）

【課題】ステージ側面に設けられた反射面（Ｚ干渉計の反射面）が液浸領域の液体で濡れることを防止する。
【解決手段】液浸領域１４を含む領域に、一方のウエハステージＷＳＴ１が位置する状態から他方のウエハステージＷＳＴ２が位置する状態に移行させる際に、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、それぞれに設けられた庇部２３ａ，２３ｂを係合させてＸ軸方向に近接又は接触した状態にし、その状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動する。このようにして、液浸領域１４を、庇部を介して２つのステージ上で往来させる。これにより、両ウエハステージ間の隙間を介した液体の漏れを抑制することができ、また、両ウエハステージの側面に設けられた反射ミラー２７ｅ，２７ｆに対する液体の漏れを抑制することができる。また、両ウエハステージに設けられた反射面同士の干渉を回避できる。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィー用のミラーアレンジメントの製造方法、及び、電磁放射線の反射のためのミラーアレンジメントを提供する。
【解決手段】基板２の前面３は、ミラー領域４を形成することを目的とする複数の光学層５が設けられる。この場合、基板２の前面３は、光学層５の適用に先立って、前面３が、要求された寸法精度を有するように、第１作業ステップにて処理される。第２作業ステップにおいては、少なくとも１つの電気的導電性経路７が、光学有効領域Ａの外側で、基板２の前面３に適用されている。第３作業ステップにおいては、電気的導電性経路７の適用により引き起こされた寸法精度の変化を補正するために、基板２の前面３は、少なくとも電気的導電性経路７に隣接する領域にて後処理される。光学層５は、第４作業ステップにて適用される。 （もっと読む）