【課題】容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。液体には流れ、望ましくは放射状流れが誘起される。 （もっと読む）

【課題】基板への直接書込みシステムでは解像度は高いもののスループットが低く、改善が求められている。
【解決手段】走査方法において複数の独立してアドレスし得るサブビームからなる走査ビームを生成し、この走査ビームで複数回にわたり表面を走査し、その際、前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に前記表面を走査すると共に、各サブビームを書き込むべき情報を反映するように変調しており、少なくとも二回の走査で表面の書込みエリアに書込みがなされるようにビームを重ねることよりなる表面にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、アパーチャの付近におけるビーム位置合わせのリアルタイム測定を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラズマの形態であるＥＵＶ放射源は、ＥＵＶリソグラフィ装置内の放射源コレクタモジュールの出口アパーチャを通過するように仮想放射源点に合焦される。プラズマ位置は、モニタリング信号を用いて３つの方向、Ｘ、Ｙ、Ｚにおいて制御される。光音響効果を利用することによって、モニタリングは、出口アパーチャを囲むコーンの材料に結合された音響センサを用いて非侵入形式で達成される。放射ビームの様々な角度位置を、相対的な到着時間または位相に基づいて様々なセンサからの信号同士を区別することによって、および／または、信号の振幅／強度を比較することによって推定することができる。シーケンサ機能を用いてビーム位置に意図的なオフセットのシーケンスを導入することができる。 （もっと読む）

【課題】液晶露光用の波長を選択的に反射する平面鏡の熱を効率的に放熱すると共に、急激な温度変化に対しても安定した露光が可能な信頼性の高い液晶露光装置を提供する。
【解決手段】平面鏡１１７の熱を保持板２０１で効率的に放熱すると共に、平面鏡１１７の温度センサー７０１および保持板２０１の温度センサー７０３の測定温度に応じて、平面鏡１１７と保持板２０１との伸縮量の差を抑制するように熱交換機７０５とヒーター７０７を制御して、保持板２０１の温度を調整する。 （もっと読む）

【課題】露光中に泡が投影ビームの光路に進入するのを防止はできなくても低減することで欠陥を緩和する。
【解決手段】投影システムと基板の対向面、基板を支持するテーブルの対向面、又はその両方との間の空間に液浸液を閉じ込める流体ハンドリング構造が開示される。流体ハンドリング構造は、液浸液内の泡内のガスの少なくとも一部を溶解し、又は液浸液内の泡を制御して、泡が投影システムからビームの光路に侵入するのを防止するトランスポンダを含む。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの歪みを防止して、描画精度を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０から照射される光ビームを受光する受光装置（ＣＣＤカメラ５１）を、チャック１０に設ける。検査用の描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給し、チャック１０に設けた受光装置により、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置を検出し、受光装置により受光した光ビームの受光装置上の位置を検出し、光ビーム照射装置２０に対するチャック１０の位置と、光ビームの受光装置上の位置とから、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの歪みを検出し、検出結果に基づき、露光用の描画データの座標を補正して、光ビーム照射装置２０の駆動回路へ供給する。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダのずれとバイメタル作用による基板ホルダの平面度の悪化を防止する。
【解決手段】微動ステージ２１の四隅に真空吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えが可能な吸着部８２を設け、基板ホルダＰＨが衝撃等によりずれるおそれのあるときには、吸着部８２の真空吸着を行い基板ホルダＰＨのずれを防止し、基板ホルダＰＨがずれるおそれのないときには吸着部８２の真空吸引を停止若しくは弱めることで、バイメタル作用を緩和し、基板ホルダＰＨの平面度の悪化を防止する。 （もっと読む）

【課題】複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。
【解決手段】基板の露光が行われないとき、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給しないで、各半導体発光素子８２を消灯させる。基板の露光が行われる間、光源制御装置５０は、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ駆動電流を供給して、各半導体発光素子８２を点灯させる。そして、光源８０の複数の半導体発光素子８２の温度変化に伴う光量の変化を検出し、光源制御装置５０は、検出された光量の変化を補う様に、光源８０の複数の半導体発光素子８２へ供給する駆動電流を増減させる。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。
【解決手段】第１のレジスト膜に第１の露光光を照射し第１の現像を行なうことにより、配線溝パターンを含む第１の領域Ａに第１パターン５ａを形成すると共に、第１の領域Ａと接続され且つ配線溝パターンと比べてパターン密度が疎である第２の領域Ｂにダミーパターン５ｂを形成する。その後、第１のレジスト膜を硬化し、硬化した第１のレジスト膜の上に、第２のレジスト膜９を形成する。その後、第２のレジスト膜９に第２の露光光を照射し第２の現像を行なうことにより、第１の領域Ａに第２パターン９ａを形成する。該第２パターン９ａを形成する際に、第１の領域Ａには、第１パターン５ａ及び第２パターン９ａにより配線溝パターン２ａが形成される一方、第２の領域Ｂは、ダミーパターン５ｂの開口部が第２のレジスト膜９によって埋められる。 （もっと読む）

【課題】結像エラーの可能性を低減するためのひとつまたは複数の手段が実行される流体ハンドリングシステムを提供することが望ましい。
【解決手段】リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造が開示される。流体ハンドリング構造は、その下面にひとつまたは複数の液体供給開口およびひとつまたは複数の液体抽出開口を有し、その液体供給開口および液体抽出開口は使用中液体が本流体ハンドリング構造の下面上に提供され、かつ、その下面から除去されるよう構成される。 （もっと読む）