【課題】ストッパにより移動が制限された移動体をストッパから離間させる。
【解決手段】 ステージ復帰装置７０は、ステージ装置２０をストッパ５０から離間させる方向に駆動するエアジャッキ７２を有している。エアジャッキ７２に供給されるエアの制御は、メカニカルバルブ７３のスプール７８ｂの操作により行われる。スプール７８ｂは、Ｘ粗動ステージ２３Ｘが有するカムフォロア９０ａ、９０ｂに機械的に係合可能なカム８９ａ、８９ｂを有するレバー８６を含むバルブ操作機構７４により操作される。これにより、例えばＸ粗動ステージ２３Ｘの位置を検出するための電気的なセンサ類、メカニカルバルブ７３を操作するための電動アクチュエータ、上記センサ類、電動アクチュエータなどを制御するための制御系などを必要としない。従って、構成が簡単で低コストである。 （もっと読む）

【課題】部材をクリーニングして露光不良の発生を抑制できるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置のクリーニング方法は、露光の前及び後の少なくとも一方において、露光において基板の周囲の少なくとも一部に位置する所定部材の表面の、露光において露光光が照射されない所定領域に洗浄光を照射することを含む。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】小ロット処理に対応した塗布現像処理装置を提供する。
【解決手段】塗布現像処理装置のカセット搬入出部１０のカセット載置台１２の上方に、２段の空カセット載置台２０、２１と、カセット移送機構２２が設けられる。空カセット載置台２０、２１は、外部カセット搬送装置Ａが上下に通過できるように構成されている。各空カセット載置台２０、２１は、カセットが載置される４台のカセット移動装置３０を有し、載置したカセットを隣のカセット移動装置に移送できる。外部カセット搬送装置Ａによりカセット載置台１２に搬入され、ウェハＷが処理ステーションに搬送された空のカセットは、カセット移送機構２２により空カセット載置台に一時的に貯め置かれる。空いたカセット載置台１２には次のカセットが搬入される。空カセット載置台の空のカセットは、ウェハ処理が終了する前にカセット載置台１２に戻される。 （もっと読む）

【課題】輸送管内壁への酸化物の付着を低減できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】対象物１１に水素ラジカルを供給することによって前記対象物１１を洗浄する洗浄装置２７であって、加熱された触媒１に気体を供給することによって水素ラジカルを生成する生成手段と、前記生成手段から前記対象物１１への気体の供給を制限可能な制限手段と、前記制限手段により気体の供給が制限された状態で、前記触媒１の周囲の気体を前記対象物１１を介さずに排気可能な排気手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度位置決めを実現できるステージ装置，それを用いた荷電粒子線装置及び縮小投影露光装置，およびステージ制御方法を提供することにある。
【解決手段】ステージ装置は、ステージ１０を駆動するモータ３０と、モータにより駆動されるステージの位置が最終目標位置となるような前記アクチュエータの駆動量を算出するステージ制御演算器１００を有する。ステージ制御演算器１００は、ステージの目標位置とステージの位置の差分に基づいて、ＰＩＤ制御する補償演算器１２０を有する。また、ステージの特性を同定するモデル同定器１３０と、モデル同定器によって得られた情報を基に、補償演算器におけるステージ制御用補償パラメータを演算する制御ゲイン演算器１４０を備える。 （もっと読む）

【課題】残膜率が向上するレリーフパターンの製造方法、及び当該製造方法で形成されたレリーフパターンを有する電子部品を提供する。
【解決手段】ネガ型感光性樹脂組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、当該塗膜又は成形体に所定パターン状に電磁波を照射後、未露光部の塗膜を除去してパターンを形成する現像工程の前に、当該塗膜又は成形体を加熱する工程を有するレリーフパターンの製造方法であって、前記加熱する工程が、系外から積極的かつ継続的に気体が供給され、且つ、当該塗膜又は成形体から発生する揮発性成分が系外に積極的に除去される雰囲気下で、熱媒体を介するか、電磁波の輻射により、当該塗膜又は成形体を加熱する工程であることを特徴とする、レリーフパターンの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】投影システムの最終要素と基板との間の空間に液体を維持する流体ハンドリングシステムを提供する。
【解決手段】投影システムと本流体ハンドリング構造に対向する対向面との間に定義される空間に液浸液を供給するよう構成された流体ハンドリング構造が開示される。本流体ハンドリング構造の下面は、対向面に向けて流体を供給するよう構成された供給開口と、本流体ハンドリング構造と対向面との間から流体を除去するよう構成された複数の抽出開口と、供給開口と複数の抽出開口との間の突出部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】平網画像領域や小点画像領域を含む各種画像に対して安定した印刷濃度を得ることができる印刷用凸版を作成するための印刷用凸版作成装置、システム、方法及びプログラムを提供する。
【解決手段】ラスタ画像データＩｒに基づいて２値画像データＩｂを生成し、各網点突起部２０４の高さを決定するための高さ変換マトリクスＭｈをラスタ画像データＩｒに基づいて生成し、生成された２値画像データＩｂに基づき形成される平網部Ａで網点突起部２０４の高さが複数の高さレベルからなる印刷用凸版Ｃを作成するため、生成された高さ変換マトリクスＭｈと２値画像データＩｂとに基づいて露光量データＤｅを生成し、生成された露光量データＤｅに基づいて版材Ｆを露光する。 （もっと読む）

【課題】結像光学系の物体視野を配置することができる投影リソグラフィ用の照明光学系、照明系、投影露光系、を提供する。
【解決手段】第１のファセットミラーは、照明光束のうちの部分光束（２４）の反射誘導のための複数のファセット（７）を有し、ファセット（７）の反射面（２５）は傾斜可能である。第１の照明傾斜位置では、ファセット（７）は、入射する部分光束（２４）を第１の物体視野照明チャンネル（２６）に沿って照明視野に誘導する。照明光学系は、複数の第２のファセット（１１）を有する第２のファセットミラー１０を含み、第１のファセット（７）は、照明傾斜位置に依存して物体視野照明チャンネル（２６）を事前に判断する。第１のファセット（７）に割り当てられた第２のファセット（１１₁，１１は、第２のファセットミラー（１０）の２つの円錐断面線によって制限された部分上に位置する。 （もっと読む）