【課題】ランプの電極が磨耗してランプの発光点が移動しても、ランプの発光点を集光鏡の焦点に合わせて、露光光の強度の低下を抑制する。
【解決手段】ランプ３１を固定するクランプ７０と、クランプ７０を移動してランプ３１の位置を調整する調整機構、及び調整機構を駆動するモータを有する位置調整装置とを設け、光の強度を検出する検出装置４０を集光鏡３２の焦点の高さに設置する。検出装置４０により、ランプ３１から発生した光を集光鏡３２の焦点の高さで受光して、受光した光の強度を検出し、検出装置により検出した光の強度が最大となる様に、位置調整装置のモータを制御してクランプ７０を移動し、ランプ３１の発光点を集光鏡３２の焦点の位置に合わせる。 （もっと読む）

【課題】
レーザ装置の製造時の機差によるＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきや、レーザ装置の交換やメンテナンスに伴うＥ９５幅等のスペクトル幅のばらつきを抑制し、半導体の露光装置が形成する集積回路パターンの品質を安定させる。
【解決手段】
先ず予め複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定しておく。そして、狭帯域化レーザ装置のメンテナンス時や出荷時など、狭帯域化レーザ装置を半導体露光の光源として使用する前に、狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出する。この際、スペクトル幅が予め設定した上限値と下限値との間の値になるように、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整する。 （もっと読む）

【目的】描画装置の計算機の過負荷状態を引き起こさない、或いは緩和することが可能な装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、第１のモジュールと、実行周期で動作を実行する第２のモジュールとを並行して実行するＣＰＵ１１２と、ＣＰＵ使用率を監視し、使用率に応じて増減する新たな実行周期を演算し、出力する負荷制御部１１６と、第１のモジュールの実行によって制御される、試料にパターンを描画する描画部１５０と、を備え、ＣＰＵ１１２は、新たな実行周期が出力された際に、以降は当該新たな実行周期で第２のモジュールを実行することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学素子及び保持構造を備える装置であって、光学素子を高精度かつ良好な再現性で保持構造に位置決めする。
【解決手段】光学素子２及び保持構造４を備える光学構成体用の装置と、光学構成体の光学素子２を位置決めする方法に関し、光学素子２は、保持構造４と６個の個別の接触ポイントで接触し、連結要素を設け、連結要素により、接触ポイントに、絶対値及び／又は方向に関して光学素子２の自重力を超える力成分を有する押圧力を加えることができる構成とする。 （もっと読む）

【課題】露光装置の輸送後及び長期メンテナンス後の再稼働を迅速に行う。
【解決手段】Ｚスライド４３の下面に圧縮コイルばね９１ａを設け、通常稼動時において、シーリングパッド７２とレベリングカップ８２のガイド面との間を高圧空気を介して高い剛性を維持したまま非接触状態で支持し、また輸送時及び長期メンテナンス時において、シーリングパッド７２への高圧空気の供給を停止した際に、圧縮コイルばね９１ａによるばね力によりシーリングパッド７２とガイド面とが接触するようにする。 （もっと読む）

【課題】リニアモータの固定子と可動子との衝突を防止する。
【解決手段】Ｘボイスコイルモータ１８ｘの固定子７３に、ストッパブロック７０を固定する。ストッパブロック７０と可動子７１のヨーク７５との間のＹ軸方向に関するクリアランスは、コイルユニット７８と磁石ユニット７７とのＹ軸方向に関するクリアランスよりも狭く設定されている。従って、コイルユニット７８と磁石ユニット７７が接触するよりも前にストッパブロック７０とヨーク７５とが接触し、これによりコイルユニット７８及び磁石ユニット７７が保護される。 （もっと読む）

【解決課題】
消耗部品の交換による運転停止が最小限ですみ、かつ装置構成を小型化可能な液浸露光用超純水の製造方法及び装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
液浸露光装置における投影光学系の最下面とレジスト間の露光光通過空間に供給される液浸露光用の超純水を製造するにあたり、流路に沿って複数の紫外線照射装置を直列配置し、その下流にイオン交換装置を配置して、ＴＯＣ１０ｐｐｂ以下の一次超純水を供給し、紫外線照射装置の一つを使用して液浸露光用の超純水を連続的に製造するとともに使用中の紫外線照射装置の性能を監視する。この紫外線照射装置の性能が所定のレベル以下になったとき、他の紫外線照射装置に切替えて連続運転を続ける。 （もっと読む）

【課題】微細なパターン、具体的には露光光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能な照明技術を提供する。
【解決手段】光源１からの照明光ＩＬ１〜ＩＬ８を、所定の被照射平面に照射するための照明光学系ＩＳであって、その被照射平面の任意の一点上に照射される照明光ＩＬ８の主成分を、その被照射平面内の特定の一方向であるＹ方向を含みかつその一点を含む少なくとも１つの特定平面内に進行方向を有し、かつ、その進行方向が互いに平行ではない複数の照明光とする。 （もっと読む）

【目的】高精度パターンの寸法精度を向上させながらより高速な描画を可能とし得る方法を提供することを目的とする。
【構成】描画データの作成方法は、電子ビームを用いて描画される描画精度の異なる複数のパターンが定義された描画データを記憶する記憶装置から各パターンのデータを読み出し、描画精度が低精度側のパターンのうち、描画精度が高精度側のパターンの領域端から近接効果の影響範囲内に位置する部分パターンを切り出す工程（Ｓ１０６）と、切り出された低精度側の部分パターンと当該高精度側のパターンとをマージ処理する工程（Ｓ１１０）と、マージ処理されたパターンのデータと切り出されずに残った低精度側の残部分パターンのデータとを出力する工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。
【解決手段】第１のレジスト膜に第１の露光光を照射し第１の現像を行なうことにより、配線溝パターンを含む第１の領域Ａに第１パターン５ａを形成すると共に、第１の領域Ａと接続され且つ配線溝パターンと比べてパターン密度が疎である第２の領域Ｂにダミーパターン５ｂを形成する。その後、第１のレジスト膜を硬化し、硬化した第１のレジスト膜の上に、第２のレジスト膜９を形成する。その後、第２のレジスト膜９に第２の露光光を照射し第２の現像を行なうことにより、第１の領域Ａに第２パターン９ａを形成する。該第２パターン９ａを形成する際に、第１の領域Ａには、第１パターン５ａ及び第２パターン９ａにより配線溝パターン２ａが形成される一方、第２の領域Ｂは、ダミーパターン５ｂの開口部が第２のレジスト膜９によって埋められる。 （もっと読む）