【課題】複数のスポークを有するスパイダにＥＵＶの斜入射集光器（ＧＩＣシェル）を固定するための調節クリップが開示される。
【解決手段】クリップ１０が備える基体は、スパイダのスポークに固定され、上面を有する。クリップ１０が備えるフォーク部材２０は、端部に端部パッド３６を有する突起３０を２つ保持すると共に、突起３０の端部とは反対側の端部に第１ヒンジ部３８を保持する。ヒンジリーフ６０は基体の上面に固定され、第１ヒンジ部３８と動作可能に係合する第２ヒンジ部６１を有し、フォーク部材２０を回転調節可能にするヒンジが形成される。ＧＩＣシェルは、２つの端部パッド３６によるクリップの自己調節によって光学的に位置合わせされる。ＧＩＣシェルが位置合わせされると、端部パッド３６がＧＩＣシェルの外面に固定される。これにより、クリップは、ＧＩＣシェルをスパイダに対して定位置に固定する剛性支持部材となる。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス性に優れたマスクホルダを提供すること。
【解決手段】円筒状に形成された固定部と、円筒状に形成され、前記固定部と同軸に該固定部の周囲に設けられるとともに前記固定部に対して回転可能に接続される回転部と、前記回転部に設けられ、シート状のマスク部材を取り外し可能に保持する保持部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光源装置において光を集光するために用いられるミラー装置において、温度調節機構からミラー基板に力が加わっても、ミラーの歪みを発生しにくくする。
【解決手段】ミラー装置は、一方の面に反射層が形成され、内部に温度調節媒体のための少なくとも１つの流路が形成されたミラー基板と、ミラー基板を複数の位置においてそれぞれ支持する複数の支持部と、ミラー基板が複数の支持部によって支持される複数の位置の内の少なくとも１つの位置の近傍において少なくとも１つの流路に接続された少なくとも１つの供給配管及び少なくとも１つの排出配管とを具備する。 （もっと読む）

【課題】液浸領域を所望状態に維持して良好に露光処理できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体ＬＱとを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、液体ＬＱを供給するとともに液体ＬＱを回収する液浸機構１を備え、液浸機構１は、基板Ｐの表面と対向するように形成された斜面２を有し、液浸機構１の液体回収口２２が、斜面２に形成されている。 （もっと読む）

【課題】偏光照明モードをより柔軟に生成可能なように構成された照明システム及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】偏光モディファイアが放射ビームの少なくとも一部に修正された偏光を加えるように、それぞれの偏光モディファイアを放射ビームとの少なくとも部分的な交差部内に移動させるように構成されたアクチュエータに各々が接続された第１及び第２の偏光モディファイアを備える偏光部材と、該偏光部材を通過した後の放射ビームを受光する位置にある個別に制御可能な反射素子のアレイとを備える照明システムであって、第１及び第２の偏光モディファイアが放射ビームの異なる部分と交差するようにアクチュエータを制御することができるコントローラをさらに備える照明システム。 （もっと読む）

【課題】高い耐パワー性能と短波長光での光損傷性能が高く、かつ高速な変調が可能な光変調デバイスおよび当該光変調デバイスを用いた露光装置を提供する。
【解決手段】両端面１１ａ、１１ｂを露出させたまま電気光学結晶層１１の周囲が結晶部１４（電気光学結晶層１２、１３）で取り囲まれて四角柱形状の外観を有する電気光学結晶基板１５が形成されている。また、電気光学結晶基板１５の上面および下面に電極１６ａ、１６ｂがそれぞれ形成される。電極１６ａ、１６ｂは電位付与部１７と電気的に接続されており、電位付与部１７から電極１６ａ、１６ｂに正電位および負電位を与えると、電気光学結晶層１１および結晶部１４の屈折率がそれぞれ増加および減少して入射光Ｌinを電気光学結晶層１１に封じ込めて伝搬する。逆電位を付与すると、入射光Ｌinが結晶部１４に吸い込まれるように広がる。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液体の供給及び回収を所望状態で行うことができ、基板上に投影されるパターン像の劣化を抑えることができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体（ＬＱ）を供給する供給口（１２）及び液体（ＬＱ）を回収する回収口（２２）を有するノズル部材（７０）と、メインコラム（１）の下側段部（７）に対してノズル部材（７０）を防振支持する防振機構（６０）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置の汚染を防止又は減少させる。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置が、超純水及び（ａ）過酸化水素とオゾンの混合物、又は（ｂ）最高５％の濃度の過酸化水素、又は（ｃ）最高５０ｐｐｍの濃度のオゾン、又は（ｄ）最高１０ｐｐｍの濃度の酸素、又は（ｅ）（ａ）〜（ｄ）から選択された任意の組合せで基本的に構成された洗浄液を使用して洗浄される。 （もっと読む）