【課題】材料歩留まりの高いプリント配線板の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】対となる所定位置にマスク側マーク２１が設けられたフォトマスク２０を保持するフォトマスク保持機構１２０と、主面に沿うＸＹ座標上の位置が一対の第１所定位置と共通する一対の第２所定位置に基材側マーク１１が予め形成された基材１０を保持する基材保持機構１１０と、露光処理を行うために、基材１０をフォトマスク２０に対向させたときのマスク側マーク２１と基材側マーク１１間のずれ量とマスク側マーク間２１の距離とに基づいて基材１０の伸縮指標である基材側マーク１１間の距離を算出し、この基材側マーク１１間の距離に応じたフォトマスク２０を選択するフォトマスク選択装置６０と、選択されたフォトマスク２０を用いて露光処理を行う照光装置１４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】計測装置のうち光学系の像面側に配置する部分の構成を簡素化して、光学系の光学特性を計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面側に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａからの反射光を投影光学系ＰＬ及びＬ＆Ｓパターン２１Ａを介して受光する受光系３０と、を備え、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａの像とＬ＆Ｓパターン２３Ａとを相対移動したときに受光系３０から得られる検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの結像特性を求める。 （もっと読む）

【課題】大型の無地の基板にパターンを精度良く且つ低コストで露光する。
【解決手段】基板を一定方向に移動しながら、前記基板上のパターン形成領域にフォトマスクを介して予め定められたパターンを順次露光する露光方法であって、前記基板上に前記パターンを露光する一方、基板移動方向と交差方向の前記パターン形成領域外にレーザ光を照射し、前記基板面に一定形状の傷を付けてアライメントマークを形成する段階と、前記基板移動方向後方位置で予め定められた基準位置に対する前記アライメントマークの基板移動方向と交差方向への位置ずれを検出する段階と、前記位置ずれを補正するように前記基板及び前記フォトマスクを相対移動する段階と、前記パターンの後続位置に次のパターンを露光する段階と、を実行するものである。 （もっと読む）

【課題】 所望の瞳強度分布を正確に形成することのできる空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット（３）は、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素（３１ａ，３２ａ）を有する空間光変調装置（３１，３２）と、複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えている。変更装置は、複数のミラー要素の基盤を保持して傾斜可能なステージ（３３，３４）を有する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光に伴う隣接ビームの熱の影響を効果的に低減し、微細形状など所望の形状を高精度に形成する。
【解決手段】出射口が副走査方向に間隔Ｐで配置された出射口列を副走査方向と直交する主走査方向に等間隔にＮ段（Ｎは２以上の整数）有する露光ヘッドであって、各出射口を主走査方向に投影したときに各投影出射口が間隔Ｐ／Ｎとなるように各段が配置された露光ヘッドから、記録媒体に向けて複数のビームを同時に照射し、前記記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、前記露光ヘッドと前記記録媒体とを主走査方向にＮ回走査させる工程と、前記記録媒体の表面の彫刻せずに残すべき目的の平面形状の領域と、精密に彫刻すべき第１の領域と、それ以外の第２の領域のうち、前記第１の領域に対して、１回の主走査毎にビームを出射する段を順に切り換えながら１つの段の出射口列のみからビームを射出する工程とを含むマルチビーム露光走査方法によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】浸漬式リソグラフィ投射装置を提供すること。
【解決手段】投射系の最終要素と基板の間に浸漬液を閉じ込めた浸漬式リソグラフィ投射装置を開示する。装置の様々な要素上に疎水性及び親水性の層をともに使用することを開示する。これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 半透光部と透光部との境界部分におけるレジストパターン形状をより正確に制御する。
【解決手段】 遮光部は、半透光膜、位相シフト調整膜、及び遮光膜が透明基板上に積層されてなり、半透光部は、半透光膜、及び位相シフト調整膜が透明基板上に積層されてなり、透光部は、透明基板が露出してなり、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長の光が半透光部を透過するときの位相シフト量が前記透光部に対して６０度以下となるように、半透光膜と位相シフト調整膜との材質及び厚さが設定されている。 （もっと読む）

【課題】液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。
【解決手段】略平行な複数の凸条体を基板に形成し、該基板に形成された凸条体の表面に膜を形成し、成膜後に前記凸条体を除去するパターン形成方法であって、略平行な複数の第１凸条体と、該複数の第１凸条体の端部に接続した又は前記複数の第１凸条体に交差した複数の第２凸条体とを基板に形成し、該基板に形成された前記複数の第２凸条体における前記第１凸条体との接続箇所又は交差箇所を切断し、前記第１及び第２凸条体の表面にそれぞれ膜を形成し、成膜後に前記第１及び第２凸条体を除去する。 （もっと読む）

【課題】急峻な立ち上がりの形状を持つレジストパターンを被転写体上に形成する。
【解決手段】遮光部と透光部との境界、または遮光部と半透光部の境界には、半透光膜上の位相シフト調整膜が部分的に露出してなる位相シフタ部が形成され、遮光部と透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となり、遮光部と半透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、半透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となる。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム露光において、安定して急峻化した凸小点形状を形成する。
【解決手段】複数の光ビームを同時に照射し、同一走査線を複数回露光走査することにより記録媒体の表面を彫刻するマルチビーム露光走査方法において、１回の走査において前記記録媒体の露光表面に残すべき目的の平面形状に隣接する第１の領域を第１の光量で露光するとともに前記第１の領域の周辺の第２の領域を第２の光量で露光し、２回目以降の露光走査のうち少なくとも１回は１回目の露光走査時よりも大きい光量で前記第２の領域を露光走査するマルチビーム露光走査方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）