【課題】デフォーカス部分を正確に検出できるとともに、デフォーカス部分を検出した場合であっても、生産性や歩留まりを低下させることなく半導体ウェハーを製造することが可能な露光方法並びに露光装置を提供する。
【解決手段】露光スキャン処理の直前に、フォトレジスト膜２のデフォーカス部分２１を検出するオートフォーカススキャン処理を行い、露光スキャン処理は、オートフォーカススキャン処理において検出されたデフォーカス部分２１の検出信号に基づいてフィードバック制御を行なうことにより、デフォーカス部分２１をブラインドしながら露光することで、半導体ウェハー１上のデフォーカス部分２１にレジストパターンを残存させる。 （もっと読む）

【課題】大型のフォトマスクを用いてプロキシミティ露光を行う際に、所定のプロキシミティギャップの調整が容易な露光装置および露光方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１２の一方の面に遮光部を有するマスクパターン１３が形成されたフォトマスク１１と、フォトマスク１１を保持するマスクホルダー１７と、フォトマスク１１とプロキシミティギャップを介して被露光部材２１を保持する試料ステージ２２と、露光光源３１とを有する露光装置１０であって、フォトマスク１１のマスクパターン１３を形成した面の遮光部にプロキシミティギャップを維持するための支持部材１５を設けるとともに、ガラス基板１２面の遮光部に対応する位置に固定磁石１６を設け、固定磁石１６と対向する試料ステージ２２の位置に固定磁石１６との吸着と反発の制御を行う回転磁石２３を設けている。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンにポリシラザンを塗布し、不溶化層を形成してパターンを形成する場合に、従来に比して不溶化層にマスク材としてのエッチング耐性を持たせることができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、まず、被加工膜１１上にレジストパターン１３を形成し、レジストパターン１３上にポリシラザン塗布膜１４を形成し、熱処理を行って、レジストパターン１３とポリシラザン塗布膜１４とを反応させ、レジストパターン１３の側面および上面に沿って不溶化層１５を形成する。ついで、不溶化層１５を形成しなかった領域のポリシラザン塗布膜１４を除去し、不溶化層１５を酸化してポリシラザン硬化膜１６を形成し、レジストパターン１３の上面とレジストパターン１３間の底部のポリシラザン硬化膜１６を除去する。そして、レジストパターン１３を除去し、ポリシラザン硬化膜１６を用いて被加工膜１１を加工する。 （もっと読む）

【課題】容易かつ効果的に洗浄されるリソグラフィ装置、及び液浸リソグラフィ装置を効果的に洗浄する方法を提供する。
【解決手段】表面を洗浄するメガソニックトランスデューサを有する液浸リソグラフィ投影装置、及び液体を通じてメガソニック波を使用して液浸リソグラフィ投影装置を洗浄する方法が開示される。液体には流れ、望ましくは放射状流れが誘起される。 （もっと読む）

【課題】基板への直接書込みシステムでは解像度は高いもののスループットが低く、改善が求められている。
【解決手段】走査方法において複数の独立してアドレスし得るサブビームからなる走査ビームを生成し、この走査ビームで複数回にわたり表面を走査し、その際、前記サブビームが横並び状でクロス走査方向に前記表面を走査すると共に、各サブビームを書き込むべき情報を反映するように変調しており、少なくとも二回の走査で表面の書込みエリアに書込みがなされるようにビームを重ねることよりなる表面にパターンを書き込む。 （もっと読む）

【課題】液浸液で覆われていないことによる表面の液滴の生成を低減できるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】使用時にＤＵＶ放射に曝露されない超疎水性表面を有するリソグラフィ装置の液浸システムのコンポーネントが開示される。また、液浸液に接触し使用時に投影ビームに曝露される表面からしきい値の距離にあって超疎水性特性を有するリソグラフィ装置の表面が開示される。 （もっと読む）

【課題】基板支持装置上に載置された基板の位置を修正する。
【解決手段】 基板Ｐは、基板トレイ９０上に載置された状態で基板搬入装置８０により搬送される。基板搬入装置８０は、搬送時における基板Ｐの移動経路上に基板ＰのＸ軸方向、Ｙ軸方向、及びθｚ方向に関する位置情報を計測する基板位置検出装置を有し、その計測結果に基づいて押圧装置８８ａ、８９ａ、８８ｂ、８９ｂを用いて基板トレイ９０上で基板Ｐの位置調整（アライメント）を行う。この際、基板トレイ９０は、基板Ｐの下面に対して加圧気体を噴出し、該基板Ｐを浮上支持する。 （もっと読む）

【課題】加湿器の加湿能力過多による結露を抑制し、かつ、加湿能力不足による制御不良を抑制する露光装置を提供する。
【解決手段】加湿エア供給装置３０は、気体３２を加湿する気化式加湿器３４と、気化式加湿器３４を通過する第１の気体の流量を制御する第１の流体制御機器３３ａと、通過しない第２の気体の流量を制御する第２の流体制御機器３３ｂと、気化式加湿器３４の加湿能力を可変する加湿能力可変機器３８、３９と、湿度検出部４５と、制御演算部４６とを有し、制御演算部４６は、湿度検出部４５が検出した加湿エア４１の湿度と、予め設定した目標湿度とに基づいて、第１及び第２の流体制御機器３３ａ、３３ｂを制御して第１及び第２の気体の流量比を調整し、第１の流体制御機器３３ａの操作量と、予め設定した目標湿度操作量に基づいて、加湿能力可変機器３８、３９を制御して気化式加湿器３４に導入される第１の気体の流量を一定とする。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率で光を回折することができる干渉縞が複数記録されたホログラムを安定して製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】ホログラム製造方法は、一つのレーザ光源４０から発生されたレーザ光Ｌ４０を、二以上の数の参照光Ｌｒ１〜Ｌｒ３および二以上の数の物体光Ｌｏ１〜Ｌｏ３として、ホログラム記録材料に同時に照射する工程を含む。レーザ光源から発生されたレーザ光は、分岐手段４５によって二以上の数の分岐光ＢＬ１〜ＢＬ３に分岐され、その後、各分岐光が、分離手段５０によって、それぞれ参照光および物体光に分離される。任意の二つの分岐光の、レーザ光源から当該分岐光に対応する各分離手段までの、光路長の差は、レーザ光のコヒーレント長より長い。 （もっと読む）

【課題】 液浸リソグラフィ装置において、比較的少量の残留液を基板から除去するサクション・デバイスを提供すること。
【解決手段】 基板から残留液を除去するように構成されたポンプおよびバッファ・ボリュームを有する液浸リソグラフィ装置が提供される。このポンプおよびバッファ・ボリュームは、バッファ・ボリューム内へのガス・サクションによって基板の近傍に吸引浄化ガス流を生成するように構成されている。一実施例では、ガス流を適用する時間が、ごく限られた時間の長さしか必要としないため（通常、５％未満）、適度なパワーのバキューム・ポンプのみを使用して排気することができる。追加もしくは別法として、このバッファ・ボリュームは、例えば吸引サプライの機能が停止した場合にガス真空サクションを提供するように構成されたバックアップ容積バッファとして使用することができる。 （もっと読む）